真空鍍膜：物理的氣相沉積技術(shù)工藝過程簡單,，對環(huán)境改善,，無污染，耗材少,，成膜均勻致密,，與基體的結(jié)合力強(qiáng),。該技術(shù)普遍應(yīng)用于航空航天、電子,、光學(xué),、機(jī)械、建筑,、輕工,、冶金、材料等領(lǐng)域,，可制備具有耐磨、耐腐蝕,、裝飾,、導(dǎo)電、絕緣,、光導(dǎo),、壓電、磁性,、潤滑,、超導(dǎo)等特性的膜層。隨著高科技及新興工業(yè)發(fā)展,，物理的氣相沉積技術(shù)出現(xiàn)了不少新的先進(jìn)的亮點(diǎn),，如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術(shù)，大型矩形長弧靶和濺射靶,，非平衡磁控濺射靶,，孿生靶技術(shù)，帶狀泡沫多弧沉積卷繞鍍層技術(shù),，條狀纖維織物卷繞鍍層技術(shù)等,，使用的鍍層成套設(shè)備，向計(jì)算機(jī)全自動(dòng),，大型化工業(yè)規(guī)模方向發(fā)展,。真空鍍膜的操作規(guī)程：鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置,，及時(shí)排除有害粉塵,。宜賓來料真空鍍膜

真空鍍膜的方法：真空蒸鍍法：電子束蒸發(fā)源利用燈絲發(fā)射的熱電子,經(jīng)加速陽極加速,獲得動(dòng)能轟擊處于陽極的蒸發(fā)材料,是蒸發(fā)材料加熱氣化,實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。這種技術(shù)相對于蒸發(fā)鍍膜,可以制作高熔點(diǎn)和高純的薄膜,是高真空鍍鈦膜技術(shù)中是一種新穎的蒸鍍材料的熱源,。高頻感應(yīng)蒸發(fā)源是利用蒸發(fā)材料在高頻電磁場的感應(yīng)下產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流損失和磁滯損失,從而將鍍料金屬蒸發(fā)的蒸鍍技術(shù),。這種技術(shù)比電子束蒸發(fā)源蒸發(fā)速率更大,且蒸發(fā)源的溫度均勻穩(wěn)定。廣州鈦金真空鍍膜真空鍍膜機(jī)壓鑄技術(shù)用于生產(chǎn)鋁,、鎂,、鋅、銅基合金鑄件，在機(jī)械制造行業(yè)應(yīng)用已有多年的歷史,。

真空鍍膜：可鍍材料普遍：離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面,，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng),。然而,，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響,。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣,，受到的局限性則較小。通常,，各種金屬,、合金以及某些合成材料、絕緣材料,、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復(fù),。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬,，甚至可鍍塑料,、橡膠、石英,、陶瓷等,。

真空鍍膜：真空蒸鍍是在真空條件下，將鍍料靶材加熱并蒸發(fā),，使大量的原子,、分子氣化并離開液體鍍料或離開固體鍍料表面（或升華），并較終沉積在基體表面上的技術(shù),。在整個(gè)過程中,，氣態(tài)的原子、分子在真空中會(huì)經(jīng)過很少的碰撞而直接遷移到基體,，并沉積在基體表面形成薄膜,。蒸發(fā)的方法包括電阻加熱，高頻感應(yīng)加熱,，電子束,、激光束、離子束高能轟擊鍍料等,。真空蒸鍍是PVD法中使用較早的技術(shù),。將鍍料加熱到蒸發(fā)溫度并使之氣化，這種加熱裝置稱為蒸發(fā)源,。較常用的蒸發(fā)源是電阻蒸發(fā)源和電子束蒸發(fā)源,，特殊用途的蒸發(fā)源有高頻感應(yīng)加熱,、電弧加熱、輻射加熱,、激光加熱蒸發(fā)源等,。真空鍍膜機(jī)模具滲碳是為了提高模具的整體強(qiáng)韌性，即模具的工作表面具有高的強(qiáng)度和耐磨性,。

真空鍍膜：技術(shù)原理：濺射鍍膜基本原理：充氬（Ar）氣的真空條件下,，使氬氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)氬（Ar）原子電離成氬離子（Ar）,，氬離子在電場力的作用下,，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面,。濺射鍍膜中的入射離子,，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍,，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī),，沉積的膜易于均勻。離子鍍基本原理：在真空條件下,，采用某種等離子體電離技術(shù),，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子,，在被鍍基體上加負(fù)偏壓,。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜,。真空鍍膜的操作規(guī)程：工作完畢應(yīng)斷電,、斷水。銅川真空鍍膜儀

真空鍍膜機(jī)鍍鋁層導(dǎo)電性能好,，能消除靜電效應(yīng),。宜賓來料真空鍍膜

針對PVD制備薄膜應(yīng)力的解決辦法主要有：1.提高襯底溫度，有利于薄膜和襯底間原子擴(kuò)散,，并加速反應(yīng)過程,，有利于形成擴(kuò)散附著，降低內(nèi)應(yīng)力,；2.熱退火處理,，薄膜中存在的各種缺陷是產(chǎn)生本征應(yīng)力的主要原因，這些缺陷一般都是非平衡缺陷,，有自行消失的傾向,，但需要外界給予活化能,。對薄膜進(jìn)行熱處理，非平衡缺陷大量消失,，薄膜內(nèi)應(yīng)力降低,；3.添加亞層控制多層薄膜應(yīng)力，利用應(yīng)變相消原理,，在薄膜層之間再沉積一層薄膜,，控制工藝使其呈現(xiàn)與結(jié)構(gòu)薄膜相反的應(yīng)力狀態(tài)，緩解應(yīng)力帶來的破壞作用,，整體上抵消內(nèi)部應(yīng)力 宜賓來料真空鍍膜