磁控濺射還可用于不同金屬合金的共濺射，同時使用多個靶電源和不同靶材,，例如TiW合金,，通過單獨調(diào)整Ti、W的濺射速率,，同時開始濺射2種材料,，則在襯底上可以形成Ti/W合計，對不同材料的速率進行調(diào)節(jié),，即能滿足不同組分的要求.磁控濺射由于其內(nèi)部電場的存在,，還可在襯底端引入一個負(fù)偏壓,，使濺射速率和材料粒子的方向性增加。所以磁控濺射常用來沉積TSV結(jié)構(gòu)的阻擋層和種子層,，通過對相關(guān)參數(shù)的調(diào)整和引入負(fù)偏壓,，可以實現(xiàn)高深寬比的薄膜濺射，且深孔內(nèi)壁薄膜連續(xù)和良好的均勻性真空濺射是徹底的環(huán)保制程,，一定環(huán)保無污染,。肇慶真空鍍膜機

ALD是一種薄膜形成方法，其中將多種氣相原料（前體）交替暴露于基板表面以形成膜,。與CVD不同,，不同類型的前驅(qū)物不會同時進入反應(yīng)室，而是作為單獨的步驟引入（脈沖）和排出（吹掃）,。在每個脈沖中,，前體分子在基材表面上以自控方式起作用，并且當(dāng)表面上不存在可吸附位時,，反應(yīng)結(jié)束,。因此，一個周期中的產(chǎn)品成膜量由前體分子和基板表面分子如何化學(xué)鍵合來定義,。因此,，通過控制循環(huán)次數(shù)，可以在具有任意結(jié)構(gòu)和尺寸的基板上形成高精度且均勻的膜,。河源真空鍍膜工藝真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。

真空鍍膜：在真空中制備膜層,，包括鍍制晶態(tài)的金屬,、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜,。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓,、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜,。真空鍍膜有三種形式,，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍,。真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代,，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代,，在電子,、宇航、包裝、裝潢,、燙金印刷等工業(yè)中取得普遍的應(yīng)用,。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料）,，屬于物理的氣相沉積工藝,。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化,。

真空鍍膜：技術(shù)優(yōu)點：鍍層附著性能好：普通真空鍍膜時,，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開,。而離子鍍時,，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面,，形成一種注入基體很深的擴散層,，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明,，一直拉到快要斷裂時,，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生,可見附著多么牢固,，膜層均勻,，致密。繞鍍能力強：離子鍍時,，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動,，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層,，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多,。因此,，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔,、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位,。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面,，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上,；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中,，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內(nèi)的任何地方,。真空鍍膜的功能是多方面的,，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富。

真空鍍膜：真空蒸鍍基本工藝鍍前處理：包括清洗鍍件和預(yù)處理。具體清洗方法有清洗劑清洗,、化學(xué)溶劑清洗,、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。具體預(yù)處理有除靜電,，涂底漆等,。裝爐：包括真空室清理及鍍件掛具的清洗，蒸發(fā)源安裝,、調(diào)試,、鍍件褂卡。抽真空：一般先粗抽至6,。6Pa以上,，更早打開擴散泵的前級維持真空泵，加熱擴散泵,。待預(yù)熱足夠后,，打開高閥，用擴散泵抽至6×10-3Pa半底真空度,。烘烤：將鍍件烘烤加熱到所需溫度,。離子轟擊：真空度一般在10Pa～10-1Pa，離子轟擊電壓200V～1kV負(fù)高壓,，離擊時間為5min～30min,預(yù)熔：調(diào)整電流使鍍料預(yù)熔,，除氣1min～2min。蒸發(fā)沉積：根據(jù)要求調(diào)整蒸發(fā)電流,，直到所需沉積時間結(jié)束,。冷卻：鍍件在真空室內(nèi)冷卻到一定溫度。出爐：取件后,，關(guān)閉真空室,，抽真空至1×10-1Pa，擴散泵冷卻到允許溫度,，才可關(guān)閉維持泵和冷卻水,。后處理：涂面漆等。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù),。遼寧真空鍍膜平臺

真空濺鍍的鍍層可通過調(diào)節(jié)電流大小和時間來壘加,，但不能太厚，一般厚度在0.2~2um,。肇慶真空鍍膜機

真空鍍膜的物理過程：PVD（物理的氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個工藝步驟：（1）金屬顆粒的氣化：即鍍料的蒸發(fā),、升華或被濺射從而形成氣化源（2）鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子,、分子或離子經(jīng)過碰撞,，產(chǎn)生多種反應(yīng)。（3）鍍料粒子在基片表面的沉積。熱蒸發(fā)主要是三個過程：1.蒸發(fā)材料從固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的過程,。2.氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基底之間的運輸 3.蒸發(fā)原子或分子在襯底表面上淀積過程,，即是蒸汽凝聚、成核,、核生長,、形成連續(xù)薄膜的過程。肇慶真空鍍膜機