在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場,借助于靶表面上形成的正交電磁場,,把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來增強電離效率,,增加離子密度和能量,從而實現(xiàn)高速率濺射的過程,。隨著碰撞次數(shù)的增加,,二次電子的能量消耗殆盡,逐漸遠離靶表面,,并在電場E的作用下沉積在基片上,。由于該電子的能量很低,傳遞給基片的能量很小,,致使基片溫升較低,。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復雜的散射過程,,和靶原子碰撞,,把部分動量傳給靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,,形成級聯(lián)過程,。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量,離開靶被濺射出來,。真空鍍膜中離子鍍的鍍層棱面和凹槽都可均勻鍍復,,不致形成金屬瘤。ITO鍍膜真空鍍膜技術(shù)
常用的薄膜制備方式主要有兩種,,其中一種是物理法氣相沉積(PVD),,PVD的方法有磁控濺射鍍膜,、電子束蒸發(fā)鍍膜、熱阻蒸發(fā)等,。另一種是化學法氣相沉積(CVD),,主要有常壓CVD、LPCVD(低壓沉積法),、PECVD(等離子體增強沉積法)等方法,。真空鍍膜的工藝流程:真空鍍膜的工藝流程一般依次為:前處理及化學清洗(材料進行有機清洗和無機清洗)→襯底真空中烘烤加熱→等離子體清洗→金屬離子轟擊→鍍金屬過渡層→鍍膜(通入反應(yīng)氣體)。東莞叉指電極真空鍍膜真空鍍膜技術(shù)有真空離子鍍膜,。
真空鍍膜的物理過程:PVD(物理的氣相沉積技術(shù))的基本原理可分為三個工藝步驟:(1)金屬顆粒的氣化:即鍍料的蒸發(fā),、升華或被濺射從而形成氣化源(2)鍍料粒子((原子、分子或離子)的遷移:由氣化源供出原子,、分子或離子經(jīng)過碰撞,,產(chǎn)生多種反應(yīng)。(3)鍍料粒子在基片表面的沉積,。熱蒸發(fā)主要是三個過程:1.蒸發(fā)材料從固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的過程,。2.氣化原子或分子在蒸發(fā)源與基底之間的運輸 3.蒸發(fā)原子或分子在襯底表面上淀積過程,即是蒸汽凝聚,、成核,、核生長、形成連續(xù)薄膜的過程,。
真空鍍膜的方法:離子鍍:在機加工刀具方面,鍍制的TiN,、TiC以其硬度高、耐磨性好,不粘刀等特性,使得刀具的使用壽命可提高3~10倍,生產(chǎn)效率也提高,。在固體潤滑膜方面,Z新研制的多相納米復合膜TiN-MoS2/Ti及TiN-MoS2/WSe2,這類薄膜具有摩擦系數(shù)低,摩擦噪聲小,抗潮濕氧化能力較高,高低溫性能好,抗粉塵磨損能力較強及磨損壽命較長等特點,被普遍運用于車輛零部件上,。與此同時,離子鍍鈦也在航空航天,光學器件等領(lǐng)域應(yīng)用普遍,收效顯著。廣東省科學院半導體研究所,。真空鍍膜機真空壓鑄是一項可供鈦鑄件生產(chǎn)廠選用,,真空鍍膜機能提高鑄件質(zhì)量,降低成本的技術(shù),。
真空鍍膜的方法很多,,計有:真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,,使蒸氣達到約13,。3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結(jié)而成薄膜,。陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強約1,。33~13,。3Pa,,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,,帶正電的氬離子撞擊陰極,,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜,?;瘜W氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程,。離子鍍:實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合,,兼有兩者的工藝特點。真空鍍膜鍍料離子的遷移:由氣化源供出原子,、分子或離子經(jīng)過碰撞以及高壓電場后,高速沖向工件,。吉林等離子體增強氣相沉積真空鍍膜
真空鍍膜在鋼材,、鎳、鈾,、金剛石表面鍍鈦金屬薄膜,提高了鋼材,、鈾、金剛石等材料的耐腐蝕性能,。ITO鍍膜真空鍍膜技術(shù)
真空鍍膜:真空涂層技術(shù)的發(fā)展:真空涂層技術(shù)起步時間不長,,國際上在上世紀六十年代才出現(xiàn)將CVD(化學氣相沉積)技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進行(工藝溫度高于1000oC),,涂層種類單一,,局限性很大,起初并未得到推廣,。到了上世紀七十年代末,,開始出現(xiàn)PVD(物理的氣相沉積)技術(shù),之后在短短的二,、三十年間PVD涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展,,究其原因:其在真空密封的腔體內(nèi)成膜,幾乎無任何環(huán)境污染問題,,有利于環(huán)保,;其能得到光亮、華貴的表面,,在顏色上,,成熟的有七彩色、銀色,、透明色,、金黃色,、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色,,能夠滿足裝飾性的各種需要,;可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層,、復合涂層,,應(yīng)用在工裝、模具上面,,可以使壽命成倍提高,,較好地實現(xiàn)了低成本、收益的效果,;此外,,PVD涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個特點,,幾乎可以在任何基材上成膜,,因此,應(yīng)用范圍十分廣闊,,其發(fā)展神速也就不足為奇,。ITO鍍膜真空鍍膜技術(shù)