基片溫度對薄膜結(jié)構(gòu)有較大影響,，基片溫度高，使吸附原子的動能增大,，跨越表面勢壘的幾率增多,，容易結(jié)晶化，并使薄膜缺陷減少,，同時(shí)薄膜內(nèi)應(yīng)力也會減少,，基片溫度低，則易形成無定形結(jié)構(gòu)膜,。 材料飽和蒸汽壓隨溫度的上升而迅速增大,，所以實(shí)驗(yàn)時(shí)必須控制好蒸發(fā)源溫度。蒸發(fā)鍍膜常用的加熱方法時(shí)電阻大電流加熱,，采用鎢,，鉬，鉑等高熔點(diǎn)的金屬,。真空鍍膜時(shí),，飛抵基片的氣化原子或分子，一部分被反射,，一部分被蒸發(fā)離開,，剩下的要么結(jié)合在一起，再捕獲其他原子或分子,，使得自己增大,；或者單個原子或分子在基片上自由擴(kuò)散，逐漸生長,，覆蓋整個基片,，形成鍍膜。注意的是基片的清潔度和完整性將影響到鍍膜的形成速率和質(zhì)量通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,，稱為蒸發(fā)鍍膜,。大連新型真空鍍膜

真空鍍膜：技術(shù)優(yōu)點(diǎn)：鍍層附著性能好：普通真空鍍膜時(shí)，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層,，好似截然分開,。而離子鍍時(shí)，離子高速轟擊工件時(shí),，能夠穿透工件表面,，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米,，對離子鍍后的試件作拉伸試驗(yàn)表明,，一直拉到快要斷裂時(shí),，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生,可見附著多么牢固,，膜層均勻,，致密。繞鍍能力強(qiáng)：離子鍍時(shí),，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運(yùn)動,，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層,，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多,。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔,、凹槽和窄縫,。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面,，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣,，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中,，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī),，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內(nèi)的任何地方?；葜菡婵斟兡ぜ夹g(shù)真空鍍膜的操作規(guī)程：工作完畢應(yīng)斷電,、斷水。

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,，即物理的氣相沉積技術(shù)和化學(xué)氣相沉積技術(shù),。物理的氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法,，將鍍料氣化成原子,、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法,。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理的氣相沉積方法制得,，它利用某種物理過程,，如物質(zhì)的熱蒸發(fā),，或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程,。物理的氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好,、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好,、應(yīng)用的靶材普遍,、濺射范圍寬,、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn),。同時(shí),，物理的氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下?；瘜W(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體,，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積,、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。

使用磁控濺射法沉積硅薄膜,通過優(yōu)化薄膜沉積的工藝參數(shù)(包括本地真空,、濺射功率,、濺射氣壓等）,以期用濺射法終后制備出高質(zhì)量的器件級硅薄膜提供科學(xué)數(shù)據(jù)。磁控濺射法是一種簡單,、低溫,、快速的成膜技術(shù),能夠不使用有毒氣體和可燃性氣體進(jìn)行摻雜和成膜,直接用摻雜靶材濺射沉積,此法節(jié)能、高效,、環(huán)保,。可通過對氫含量和材料結(jié)構(gòu)的控制實(shí)現(xiàn)硅薄膜帶隙和性能的調(diào)節(jié),。與其它技術(shù)相比,磁控濺射法優(yōu)勢是它的沉積速率快,具有誘人的成膜效率和經(jīng)濟(jì)效益,，實(shí)驗(yàn)簡單方便。真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性,，比較少出現(xiàn)小孔和裂口,。

真空鍍膜：PVD技術(shù)工藝步驟：清洗工件：接通直流電源，氬氣進(jìn)行輝光放電為氬離子,，氬離子轟擊工件表面,，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；鍍料的氣化：即通入交流電后,，使鍍料蒸發(fā)氣化,。鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞以及高壓電場后,，高速沖向工件,；鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時(shí),，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層,。離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能,，高速轟擊工件時(shí),，不但沉積速度快,，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層,，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米,，也就是說比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍，甚至上百倍,，因而彼此粘附得特別牢,。電子束蒸發(fā)是真空鍍膜技術(shù)的一種。揚(yáng)州真空鍍膜加工

真空鍍膜技術(shù)是利用物理,、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜,。大連新型真空鍍膜

真空鍍膜：離子鍍膜法：目前比較常用的組合方式有：直流二極型(DCIP)。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化,；被鍍基體作為陰極,，利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應(yīng)氣體)離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升大,、繞射性好,、附著性好，膜結(jié)構(gòu)及形貌差,，若用電子束加熱必須用差壓板,；可用于鍍耐腐蝕潤滑機(jī)械制品。多陰極型,。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化,；依靠熱電子、陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應(yīng)氣體離化,。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小,，有時(shí)需要對基板加熱；可用于鍍精密機(jī)械制品,、電子器件裝飾品,。大連新型真空鍍膜