微納制造技術(shù)屬國際前沿技術(shù),，作為未來制造業(yè)賴以生存的基礎(chǔ)和可持續(xù)發(fā)展的關(guān)鍵,，其研發(fā)和應(yīng)用標(biāo)志著人類可以在微,、納米尺度認(rèn)識和改造世界,。以聚合物為基礎(chǔ)材料的微納系統(tǒng)在整個微納系統(tǒng)中占有極其重要地位，是較具產(chǎn)業(yè)化開發(fā)前景的微納系統(tǒng)之一,，聚合物微納制造技術(shù)也已經(jīng)開始得到應(yīng)用并具有極大的發(fā)展空間,。集中介紹了多種典型聚合物微納器件及系統(tǒng)，并對微注塑成型,、微擠出成型和微納壓印成型等聚合物微納制造技術(shù)進(jìn)行了系統(tǒng)的闡述,，比較了各種聚合物微納制造技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)和使用條件。末尾,，結(jié)合國內(nèi)外研究人員的研究成果,，對聚合物微納制造技術(shù)的未來發(fā)展做出展望。微納加工包括光刻,、磁控濺射,、電子束蒸鍍、濕法腐蝕,、干法腐蝕,、表面形貌測量等,。深圳刻蝕微納加工平臺

微納加工技術(shù)指尺度為亞毫米、微米和納米量級元件以及由這些元件構(gòu)成的部件或系統(tǒng)的優(yōu)化設(shè)計(jì),、加工,、組裝、系統(tǒng)集成與應(yīng)用技術(shù),。微納加工按技術(shù)分類,，主要分為平面工藝、探針工藝,、模型工藝,。主要介紹微納加工的平面工藝，平面工藝主要可分為薄膜工藝,、圖形化工藝（光刻）,、刻蝕工藝。光刻是微納加工技術(shù)中較關(guān)鍵的工藝步驟,，光刻的工藝水平?jīng)Q定產(chǎn)品的制程水平和性能水平,。光刻的原理是在基底表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一般是紫外光,、深紫外光,、極紫外光）透過光刻板照射在基底表面，被光線照射到的光刻膠會發(fā)生反應(yīng),。此后用顯影液洗去被照射/未被照射的光刻膠,，就實(shí)現(xiàn)了圖形從光刻板到基底的轉(zhuǎn)移。北京半導(dǎo)體微納加工技術(shù)微納檢測主要是表征檢測：原子力顯微鏡,、掃描電鏡,、掃描顯微鏡、XRD,、臺階儀等,。

“納米制造”路線圖強(qiáng)調(diào)了未來納米表面制造的發(fā)展。問卷調(diào)查探尋了納米表面制備所面臨的機(jī)遇,。調(diào)查中提出的問題旨在獲取納米表面特征的相關(guān)信息：這種納米表面結(jié)構(gòu)可以是形貌化,、薄膜化的改良表面區(qū)域，也可以是具有相位調(diào)制或一定晶粒尺寸的涂層,。這類結(jié)構(gòu)構(gòu)建于眾多固體材料表面,，如金屬、陶瓷,、玻璃,、半導(dǎo)體和聚合物等?？偨Y(jié)了調(diào)查結(jié)果與發(fā)現(xiàn),，并闡明了未來納米表面制造的前景,。納米表面可產(chǎn)生自材料的消解、沉積,、改性或形成過程,。這導(dǎo)致制備出的納米表面帶有納米尺度所特有的新的化學(xué)、物理和生物特性（比如催化作用,、磁性質(zhì),、電性質(zhì)、光學(xué)性質(zhì)或抗細(xì)菌性）,。在納米科學(xué)許多已有的和新興的子領(lǐng)域中,，表面工程已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了從基礎(chǔ)科學(xué)向現(xiàn)實(shí)應(yīng)用的轉(zhuǎn)變，比如材料科學(xué),、光學(xué),、微電子學(xué)、動力工程學(xué),、傳感系統(tǒng)和生物工程學(xué)等,。在改進(jìn)和簡化生產(chǎn)過程方面，還需要做許多工作才能降低***納米表面的生產(chǎn)成本,?？芍貜?fù)性、尺寸形狀的控制,、均勻性以及結(jié)構(gòu)的魯棒性等,，都是工業(yè)生產(chǎn)過程中必須要考慮的關(guān)鍵參數(shù)。

微納加工技術(shù)的特點(diǎn)：（1）微型化：MEMS體積?。ㄐ酒奶卣鞒叽鐬榧{米/微米級）,、微納結(jié)構(gòu)器件研發(fā)質(zhì)量輕、功耗低,、慣性小、諧振頻率高,、響應(yīng)時間短,。例如，一個壓力成像器的微系統(tǒng),，含有1024個微型壓力傳感器,，整個膜片尺寸*為10mm×10mm，每個壓力芯片尺寸為50μm×50μm,。（2）多樣化：MEMS包含有數(shù)字接口,、自檢、自調(diào)整和總線兼容等功能,，具備在網(wǎng)絡(luò)中應(yīng)用的基本條件,，具有標(biāo)準(zhǔn)的輸出,，便于與系統(tǒng)集成在一起，而且能按照需求,，靈活地設(shè)計(jì)制造更多化的MEMS,。微納加工技術(shù)的特點(diǎn)：微型化。

基于掩模板圖形傳遞的光刻工藝可制作宏觀尺寸的微細(xì)結(jié)構(gòu),，受光學(xué)衍射的極限,，*適用于微米以上尺度的微細(xì)結(jié)構(gòu)制作，部分優(yōu)化的光刻工藝可能具有亞微米的加工能力,。例如,，接觸式光刻的分辨率可能到達(dá)0.5μm，采用深紫外曝光光源可能實(shí)現(xiàn)0.1μm,。但利用這種光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)宏觀面積的納米/亞微米圖形結(jié)構(gòu)的制作是可欲而不可求的,。近年來，國內(nèi)外比較多學(xué)者相繼提出了超衍射極限光刻技術(shù),、周期減小光刻技術(shù)等,，力求通過曝光光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)大面積的亞微米結(jié)構(gòu)制作，但這類新型的光刻技術(shù)尚處于實(shí)驗(yàn)室研究階段,。微納加工技術(shù)具有高精度,、科技含量高、產(chǎn)品附加值高等特點(diǎn),。深圳刻蝕微納加工平臺

未來幾年微納制造系統(tǒng)和平臺的發(fā)展前景包括的方面：智能的,、可升級的和適應(yīng)性強(qiáng)的微納制造系統(tǒng)。深圳刻蝕微納加工平臺

微納加工技術(shù)的特點(diǎn)：（1）微電子化：采用MEMS工藝,，可以把不同功能,、不同敏感方向或致動方向的多個傳感器或執(zhí)行器集成于一體，或形成微傳感陣列,、微執(zhí)行器陣列甚至把多種功能的器件集成在一起,，形成復(fù)雜的微系統(tǒng)。微傳感器,、微執(zhí)行器和微電子器件的集成可制造出可靠性,、穩(wěn)定性比較高的微電子機(jī)械系統(tǒng)。（2）MEMS技術(shù)適合批量生產(chǎn)：用硅微加工工藝在同一硅片上同時可制造出成百上千微型機(jī)電裝置或完整的MEMS,，批量生產(chǎn)可較大降低生產(chǎn)成本,。（3）多學(xué)科交叉：MEMS涉及電子、機(jī)械,、材料,、制造、信息與自動控制、物理,、化學(xué)和生物等多學(xué)科,，并集約當(dāng)今科學(xué)發(fā)展的許多成果。深圳刻蝕微納加工平臺