多弧離子真空鍍膜機(jī)與蒸發(fā)真空鍍膜機(jī),、濺射真空鍍膜機(jī)相比，較大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基體與膜層,，一邊進(jìn)行沉積,。荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，主要有如下幾點(diǎn)：多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜鍍層質(zhì)量高,。由于離子轟擊可提高膜的致密度,，改善膜的組織結(jié)構(gòu)，使得膜層的均勻度好,，多弧離子真空鍍膜設(shè)備鍍膜鍍層組織致密,，小孔和氣泡少,。多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜沉積速率高，成膜速度快,，可制備30μm的厚膜,。多弧離子真空鍍膜設(shè)備鍍膜所適用的基體材料與膜層材料均比較普遍。適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬,、化合物、非金屬材料的膜層,。如在鋼鐵,、有色金屬、石英,、陶瓷,、塑料等各種材料表面鍍膜。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面,。湖北貴金屬真空鍍膜加工平臺

真空鍍膜機(jī)LR抗反射光學(xué)膜適用高階LCDTV機(jī)種,，LR抗反射光學(xué)主要應(yīng)用在筆記本電腦(NB)、LCDMonitor及LCDTV等大尺寸LCD面板上,，由于該類產(chǎn)品多在室內(nèi)使用,，故一般反射率約在1%，高于AR型光學(xué)膜,。也因如此,，LR型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)較簡單，大致包括TAC光學(xué)膜,、硬膜涂布層,、LR層，成本也較AR型低,。真空鍍膜機(jī)抗反射光學(xué)膜在LCD顯示器中或許是非musttohave的零組件,，然在未來小尺寸LCD面板所對應(yīng)終端應(yīng)用產(chǎn)品多樣化，加上可攜式的便利性,，在外使用時間將更為長久,，為提高LCD顯示器于戶外的可視性，預(yù)估將能提高AR光學(xué)膜在中小尺寸LCD面板中被采用比重,；而大尺寸LCD顯示器方面,，若LR光學(xué)膜在不增加太多成本的條件下，能提升表面硬度,、耐刮性,、及抗眩功能等，預(yù)估其被采用面積也將能有所提升,。湖北貴金屬真空鍍膜加工平臺在真空中制備膜層,，包括鍍制晶態(tài)的金屬,、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜,。

現(xiàn)代鏡頭上的鍍膜大而化之可以分成兩種,，一種叫增透膜，是增加光線透過率的,，而另一種鍍膜則是改變鏡頭的色彩光譜透過特性的,，比如一支鏡頭種某一片鏡片所用的光學(xué)材料雖然折射率等等指標(biāo)比較好，但卻存在偏黃現(xiàn)象,，那就給它鍍上一層光譜遮斷膜,，把偏色糾正回來(賓得那仨公主都使用高折射玻璃，因此都有些略微偏黃),，而現(xiàn)在鍍膜技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)可以補(bǔ)償一些較為廉價的光學(xué)材料的不足之處,，鏡頭的設(shè)計已經(jīng)不必像過去一樣使用昂貴的特殊配方光學(xué)玻璃來完成，所以新的鏡頭一般都是在每個鏡片的空氣接觸面上都有多層鍍膜的,，這也從另一方面凸顯了鍍膜對于鏡頭的重要作用,。如今鍍膜機(jī)在光學(xué)鏡片上的應(yīng)用，我們一般稱為光學(xué)真空鍍膜機(jī)或者光學(xué)鏡片鍍膜機(jī),。

真空鍍膜機(jī)大功率脈沖磁控濺射技術(shù)的脈沖峰值功率是普通磁控濺射的100倍,，在1000~3000W/cm2范圍。對于大型磁控靶,，可產(chǎn)生兆瓦級濺射功率,。但是由于作用時間在100~150微秒，其平均功率與普通磁控濺射相當(dāng),。這樣就不會增加冷卻要求,。這里優(yōu)點(diǎn)出來了，在1000~3000W/cm2功率密度下,，濺射材料離子化率極高,。但這個高度離子化的束流不含大顆粒。一般濺射材料能級只有5~10電子伏特,，而大功率脈沖磁控濺射材料能級較大可達(dá)達(dá)100電子伏特,。大功率脈沖磁控濺射的較大優(yōu)點(diǎn)是可以鍍高致密度的膜而不會使基體表面溫度明顯增高。真空鍍膜技術(shù)是利用物理,、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜,。

真空鍍膜機(jī)離子鍍目前應(yīng)用較為普遍，那么它的研究歷史過程是怎樣的呢,？真空鍍膜機(jī)離子鍍替代電鍍課題研究歷史過程,電鍍在工業(yè)中應(yīng)用已久,，但它有鍍膜不夠致密，有氣孔,，易發(fā)生氫脆,，更嚴(yán)重的是對環(huán)境污染厲害,，三廢處理費(fèi)用高昂又不能根除，尤其六價鉻,，鎳,，鎘元素對人體有害，是致病物質(zhì),。所以電鍍被替代是工業(yè)發(fā)展的必然,，我們經(jīng)過多年研究，現(xiàn)已研究成功：鋼鐵,、黃銅,、鋁合金、鋅基合金等基材表面進(jìn)行了離子鍍鉻,、鈦,、鋯,、鋁,、氮化物等可替代電鍍鋅、電鍍鎘,、電鍍鎳,、電鍍鉻。在鍍膜過程中,，想要控制蒸發(fā)速率,，必須精確控制蒸發(fā)源的溫度，加熱時應(yīng)盡量避免產(chǎn)生過大的溫度梯度,。湖北貴金屬真空鍍膜加工平臺

等離子體化學(xué)氣相沉積法使局部形成等離子體,，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)。湖北貴金屬真空鍍膜加工平臺

磁控濺射真空鍍膜機(jī)是現(xiàn)在產(chǎn)品在真空條件下進(jìn)行鍍膜使用較多的一種設(shè)備,，一完整的磁控濺射真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的,，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能，從而實(shí)現(xiàn)較終的***鍍膜,，磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔,、機(jī)械泵、真空測試系統(tǒng),、油擴(kuò)散泵,、抽真空系統(tǒng)、冷凝泵以及成膜控制系統(tǒng)等等,。磁控濺射真空鍍膜機(jī)的主體是真空腔,，真空腔大小是由加工產(chǎn)品所決定，磁控濺射鍍膜的大小能定制,，腔體一般是用不銹鋼材料制作,，要求結(jié)實(shí)耐用不生銹等,。磁控濺射鍍膜真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。磁控濺射鍍膜成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式,，比如固定鍍制時間,、目測、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等,。真空鍍膜機(jī)鍍膜方式也分多種工藝,，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強(qiáng),，膜層的純度高,，可以同事濺射多種不同成分的材料，離子蒸發(fā)鍍膜可以提高膜層的致密性和結(jié)合力及均勻性,。湖北貴金屬真空鍍膜加工平臺