磁控濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面,，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)。通常,，利用低壓惰性氣體輝光放電來產(chǎn)生入射離子,。陰極靶由鍍膜材料制成，基片作為陽極,，真空室中通入0.1-10Pa的氬氣或其它惰性氣體,，在陰極（靶）1-3KV直流負(fù)高壓或13.56MHz的射頻電壓作用下產(chǎn)生輝光放電,。電離出的氬離子轟擊靶表面，使得靶原子濺出并沉積在基片上,，形成薄膜,。濺射方法很多，主要有二級(jí)濺射,、三級(jí)或四級(jí)濺射,、磁控濺射、對(duì)靶濺射,、射頻濺射,、偏壓濺射、非對(duì)稱交流射頻濺射,、離子束濺射以及反應(yīng)濺射等,。磁控濺射鍍膜的適用范圍：在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用。河北陶瓷靶材磁控濺射價(jià)格

磁控濺射設(shè)備原子的能量比蒸發(fā)原子的能量大許多倍;入射離子的能量很低時(shí),，濺射原子角散布就不完全符合余弦散布規(guī)律,。角散布還與入射離子方向有關(guān)。從單晶靶濺射出來的原子趨向于集中在晶體密度大的方向,因?yàn)殡娮拥馁|(zhì)量很小,，所以即便運(yùn)用具有高能量的電子炮擊靶材也不會(huì)發(fā)生濺射現(xiàn)象,。因?yàn)闉R射是一個(gè)雜亂的物理進(jìn)程，涉及的因素許多,，長期以來關(guān)于濺射機(jī)理雖然進(jìn)行了許多的研究，提出過許多的理論,，但都難以完善地解說濺射現(xiàn)象,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。河北雙靶磁控濺射儀器磁控濺射是由二極濺射基礎(chǔ)上發(fā)展而來,。

磁控濺射就是在外加電場的兩極之間引入一個(gè)磁場,。這個(gè)磁場使得電子受到洛倫茲力的束縛作用，其運(yùn)動(dòng)路線受到控制,，因此大幅度增加了電子與Ar分子（原子）碰撞的幾率，提高了氣體分子的電離程度，從而使濺射效率得到很大的提升,。濺射現(xiàn)象自發(fā)現(xiàn)以來己被普遍應(yīng)用在多種薄膜的制備中,，如制備金屬、半導(dǎo)體,、合金,、氧化物以及化合物半導(dǎo)體等。磁控濺射包括很多種類,。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象,。但有一共同點(diǎn):利用磁場與電場交互作用,，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率,。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材,。磁控濺射在技術(shù)上可以分為直流(DC)磁控濺射、中頻(MF)磁控濺射,、射頻(RF)磁控濺射,。

相較于蒸發(fā)鍍膜，真空磁控濺射鍍膜的膜更均勻,，那么真空蒸發(fā)鍍膜所鍍出來的膜厚度在中心位置一般會(huì)薄一點(diǎn),。因此，由于我們無法控制真空蒸發(fā)鍍膜的膜層的厚度,，而真空磁控濺射鍍膜的過程中可通過控制時(shí)間長短來控制鍍層厚度,，所以蒸鍍真空鍍膜不適應(yīng)企業(yè)大規(guī)模的生產(chǎn)。反之,，濺射鍍膜在這方面就比較有優(yōu)勢了,。那么相對(duì)于蒸發(fā)鍍膜來說，真空磁控濺射鍍膜除了膜厚均勻與可控靈活的優(yōu)勢之外,，還有這些特點(diǎn)：磁控濺射鍍的膜層的純度高,，因此致密性好；膜層物料靈活,，薄膜可以由大多數(shù)材料構(gòu)成,，包括常見的合金、化合物之類的,；濺射鍍膜的沉積速率較低,，整體設(shè)備相對(duì)復(fù)雜一些；真空濺射薄膜與作用基底之間的粘合,、附著力很好,。高速率磁控濺射的一個(gè)固有的性質(zhì)是產(chǎn)生大量的濺射粒子而獲得高的薄膜沉積速率,。

影響磁控濺射鍍膜結(jié)果的因素：1,、濺射功率的影響,在基體和涂層材料確定的情況下,工藝參數(shù)的選擇對(duì)于涂層生長速率和涂層質(zhì)量都有很大的影響.其中濺射功率的設(shè)定對(duì)這兩方面都有極大的影響.2,、氣壓的影響,磁控濺射是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射,為此需要提高氣體的離化率,使氣體形成等離子體.在保證濺射功率固定的情況下,分析氣壓對(duì)于磁控濺射的影響,。磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：1,、幾乎所有材料都可以通過磁控濺射沉積,而不論其熔化溫度如何;2,、可以根據(jù)基材和涂層的要求縮放光源并將其放置在腔室中的任何位置;3,、可以沉積合金和化合物的薄膜,同時(shí)保持與原始材料相似的組成,。反應(yīng)磁控濺射普遍應(yīng)用于化合物薄膜的大批量生產(chǎn)。吉林單靶磁控濺射技術(shù)

真空磁控濺射鍍膜這種工藝可以沉積任何氧化物,、碳化物以及氮化物材料的薄膜。河北陶瓷靶材磁控濺射價(jià)格

真空磁控濺射鍍膜技術(shù)所鍍玻璃多用于建筑玻璃和汽車玻璃這兩大用處,。一般來說這些介質(zhì)膜多是氧化鋅,、二氧化錫,、二氧化鈦、二氧化硅之類的可鍍于玻璃上,。真空磁控濺射鍍膜技術(shù)在車窗玻璃上的用處,。用真空磁控濺射鍍膜設(shè)備可在車窗玻璃鍍涂二氧化鈦，這個(gè)鍍層可以賦予車窗自清潔效果,，有一定的防霧,、防露水的效用,。磁控濺射工藝的主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用反應(yīng)性或非反應(yīng)性鍍膜工藝來沉積這些材料的膜層,，并且可以很好地控制膜層成分,、膜厚、膜厚均勻性和膜層機(jī)械性能等,。河北陶瓷靶材磁控濺射價(jià)格