中文名二氧化鉿外文名Hafnium(IV)oxide別名氧化鉿(IV)化學(xué)式HfO2分子量210.49CAS登錄號(hào)12055-23-1EINECS登錄號(hào)235-013-2熔點(diǎn)2758℃沸點(diǎn)5400℃水溶性難溶于水密度9.68g/cm3外觀白色固體應(yīng)用遠(yuǎn)紅外波段材料

性質(zhì)白色粉末,，有單斜、四方和立方三種晶體結(jié)構(gòu),。密度分別為10.3,，10.1和10.43g/cm3,。熔點(diǎn)2780～2920K。沸點(diǎn)5400K,。熱膨脹系數(shù)5.8×10-6/℃,。不溶于水、鹽酸和硝酸,，可溶于濃硫酸和氟氫酸,。由硫酸鉿、氯氧化鉿等化合物熱分解或水解制取,。為生產(chǎn)金屬鉿和鉿合金的原料,。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化劑,。 氧化鉿的生態(tài)學(xué)資料,？浙江有名的氧化鉿

物性數(shù)據(jù)1.性狀：白色粉末。2.密度（g/mL,25℃）：9.683.相對(duì)蒸汽密度（g/mL,空氣=1）：未確定4.熔點(diǎn)（oC）：21825.沸點(diǎn)（oC,常壓）：未確定6.沸點(diǎn)（oC,，1mmHg）：未確定7.折射率：未確定8.閃點(diǎn)（oC）：未確定9.比旋光度（o）：未確定10.自燃點(diǎn)或引燃溫度（oC）：未確定11.蒸氣壓（20oC）：未確定12.飽和蒸氣壓（kPa,60oC）：未確定13.燃燒熱（KJ/mol）：未確定14.臨界溫度（oC）：未確定15.臨界壓力（KPa）：未確定16.油水（辛醇/水）分配系數(shù)的對(duì)數(shù)值：未確定17.上限（%,V/V）：未確定18.下限（%,V/V）：未確定19.溶解性：未確定浙江有名的氧化鉿氧化鉿的運(yùn)輸注意事項(xiàng),？

性質(zhì)白色粉末，有單斜,、四方和立方三種晶體結(jié)構(gòu),。密度分別為10.3，10.1和10.43g/cm3,。熔點(diǎn)2780～2920K,。沸點(diǎn)5400K。熱膨脹系數(shù)5.8×10-6/℃,。不溶于水,、鹽酸和硝酸，可溶于濃硫酸和氟氫酸,。由硫酸鉿,、氯氧化鉿等化合物熱分解或水解制取。為生產(chǎn)金屬鉿和鉿合金的原料,。用作耐火材料、抗放射性涂料和催化劑,。應(yīng)用二氧化鉿(HfO?)是一種具有寬帶隙和高介電常數(shù)的陶瓷材料,，近來在工業(yè)界特別是微電子領(lǐng)域被引起極度的關(guān)注，由于它**可能替代硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO?),，以解決MOSFET中傳統(tǒng)SiO?/Si結(jié)構(gòu)的發(fā)展的尺寸極限問題,。

氧化鉿性質(zhì)熔點(diǎn)2810°C密度9.68g/mLat25°C(lit.)折射率2.13(1700nm)形態(tài)powder顏色Off-white比重9.68水溶解性Insolubleinwater.Merck14,4588InChemicalbookChIKeyCJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-NCAS數(shù)據(jù)庫12055-23-1(CASDataBaseReference)EPA化學(xué)物質(zhì)信息Hafniumoxide(HfO2)(12055-23-1)氧化鉿（HfO2）是白色晶體粉末。純氧化鉿以三種形式存在,，一種是無定型狀態(tài),，另外兩種為晶體,。在＜400℃煅燒氫氧化鉿、氧氯化鉿等不穩(wěn)定的化合物時(shí),，可以得到無定型氧化鉿,。將其氧化鉿Chemicalbook繼續(xù)加熱至450~480℃，開始轉(zhuǎn)化為單斜晶體,，繼續(xù)加熱至1000~1650℃發(fā)生晶格常數(shù)逐步增加的趨勢(shì),，并轉(zhuǎn)化為4個(gè)氧化鉿分子的單體。當(dāng)1700~1865℃時(shí)開始轉(zhuǎn)化為四方晶系,。氧化鉿的性質(zhì)與穩(wěn)定性,？

外觀和描述：氧化鉿是鉿的主要氧化物，通常狀況下為白色無臭無味晶體,。英文名稱:hafniumdioxide中文名:二氧化鉿CASNo.:12055-23-1化學(xué)式:HfO2分子量:210.6密度:9.68克/立方厘米熔點(diǎn):約2850℃沸點(diǎn):約沸點(diǎn)5400℃2,、性質(zhì)：氧化鉿是一種、無味的白色固體,，不溶于水,、鹽酸和硝酸，可溶于濃硫酸和氟氫酸,；化學(xué)性質(zhì)不活潑,，具有薄膜特性：透光范圍～220～12000nm；折射率（250nm）～2.15（500nm）～2,，且高熔點(diǎn),，所以用途***。3,、用途：1）金屬鉿及其化合物的原料,；2）耐火材料、抗放射性涂料和特殊的催化劑,；3）度玻璃涂層,。氧化鉿的毒理學(xué)數(shù)據(jù)？浙江有名的氧化鉿

氧化鉿的安全操作的注意事項(xiàng),？浙江有名的氧化鉿

氧化鉿（HfO2）為鋯鉿分離的產(chǎn)物,，目前只有美、法等國(guó)家在生產(chǎn)核級(jí)鋯時(shí)產(chǎn)生有氧化鉿,。中國(guó)早期就已經(jīng)具備生產(chǎn)核級(jí)Zr,，并生產(chǎn)少量氧化鉿的能力。但是產(chǎn)品數(shù)量稀少,，價(jià)格昂貴,。作為鉿的主要化學(xué)產(chǎn)品，通常用作光學(xué)鍍膜材料,，很少量開始試用于高效集成電路,，氧化鉿在**領(lǐng)域的應(yīng)用尚待開發(fā),。氧化鉿在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用HfO2的熔點(diǎn)比較高、同時(shí)鉿原子的吸收截面較大,，捕Chemicalbook獲中子的能力強(qiáng),，化學(xué)性質(zhì)特別穩(wěn)定，因此在原子能工業(yè)中具有非常大應(yīng)用的價(jià)值,。自上世紀(jì)以來,，光學(xué)鍍膜得到了很快的發(fā)展，HfO2在光學(xué)方面的特性已經(jīng)越來越適應(yīng)光學(xué)鍍膜技術(shù)的要求,，所以HfO2在鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用也越來越***,，特別是它對(duì)光有比較寬的透明波段，在光透過氧化鉿薄膜時(shí),，對(duì)光的吸收少,，大部分通過折射透過薄膜，因此HfO2在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用越來越被重視,。浙江有名的氧化鉿