目前國(guó)內(nèi)從事半導(dǎo)體光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)包括晶瑞股份,、南大光電、上海新陽(yáng),、北京科華等,。相關(guān)企業(yè)以i 線、g線光刻膠生產(chǎn)為主,，應(yīng)用集成電路制程為350nm以上,。在KrF光刻膠領(lǐng)域，北京科華,、博康已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),。國(guó)內(nèi)在ArF光刻膠領(lǐng)域產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程相對(duì)較快的企業(yè)為南大光電，其先后承擔(dān)國(guó)家02專項(xiàng)“高分辨率光刻膠與先進(jìn)封裝光刻膠產(chǎn)品關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目”和“ArF光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”,，公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成為國(guó)內(nèi)通過(guò)客戶驗(yàn)證的國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠,，其他國(guó)內(nèi)企業(yè)尚處于研發(fā)和驗(yàn)證階段。在半導(dǎo)體集成電路制造行業(yè)：主要使用g線光刻膠,、i線光刻膠,、KrF光刻膠、ArF光刻膠等,。浦東i線光刻膠其他助劑

受制于國(guó)內(nèi)光刻膠技術(shù)發(fā)展水平,，目前我國(guó)前沿光刻膠的自給率仍然保持較低水平。盡管國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)保持良好的增長(zhǎng)趨勢(shì),，但以KrF,、ArF光刻膠為主的半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額仍然較小，前沿光刻膠市場(chǎng)長(zhǎng)期為國(guó)外巨頭所壟斷,。從技術(shù)水平來(lái)看,，目前中國(guó)本土光刻膠的整體技術(shù)水平與國(guó)際先進(jìn)水平存在明顯差距，且主要集中在技術(shù)含量較低的PCB光刻膠領(lǐng)域,，而在半導(dǎo)體光刻膠和LCD光刻膠方面自給率較低,。具體而言，半導(dǎo)體光刻膠中g(shù)線/i線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率為10%,，而ArF/KrF光刻膠的國(guó)產(chǎn)化率為1%,，對(duì)于前沿的EUV光刻膠目前仍處于研發(fā)階段。蘇州光聚合型光刻膠顯影光刻膠行業(yè)日系企業(yè)實(shí)力雄厚,，國(guó)內(nèi)廠商有望復(fù)刻成功經(jīng)驗(yàn),。

質(zhì)量控制技術(shù)：由于用戶對(duì)光刻膠的穩(wěn)定性、一致性要求高,，包括不同批次間的一致性,，通常希望對(duì)感光靈敏度,、膜厚的一致性保持在較高水平，因此,，光刻膠生產(chǎn)商不僅要配備齊全的測(cè)試儀器,，還需要建立一套嚴(yán)格的QA體系以保證產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定,。原材料技術(shù)：光刻膠是一種經(jīng)過(guò)嚴(yán)格設(shè)計(jì)的復(fù)雜,、精密的配方產(chǎn)品，由成膜劑,、光敏劑,、溶劑和添加劑等不同性質(zhì)的原料，通過(guò)不同的排列組合,，經(jīng)過(guò)復(fù)雜,、精密的加工工藝而制成。因此,，光刻膠原材料的品質(zhì)對(duì)光刻膠的質(zhì)量起著關(guān)鍵作用,。對(duì)于半導(dǎo)體化學(xué)化學(xué)試劑的純度，際半導(dǎo)體設(shè)備和材料組織（SEMI）制定了國(guó)際統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn),。

光刻膠屬于半導(dǎo)體八大重要材料之一,，根據(jù)全球半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)（SEMI）近期數(shù)據(jù)，光刻膠在半導(dǎo)體晶圓制造材料價(jià)值占比5%,，光刻膠輔助材料占比7%,，二者合計(jì)占比12%，光刻膠及輔助材料是繼硅片,、電子特氣和光掩模之后的第四大半導(dǎo)體材料,。光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光,、電子束,、離子束、X射線等照射或輻射,，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,，目前被用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路加工制作環(huán)節(jié)。光刻膠由增感劑（光引發(fā)劑）,、感光樹(shù)脂（聚合劑）,、溶劑與助劑構(gòu)成。光刻膠行業(yè)的上下游合作處于互相依存的關(guān)系,，市場(chǎng)新進(jìn)入者很難與現(xiàn)有企業(yè)競(jìng)爭(zhēng),，簽約新客戶的難度高。

光刻膠行業(yè)具有極高的行業(yè)壁壘,，因此在全球范圍其行業(yè)都呈現(xiàn)寡頭壟斷的局面,。光刻膠行業(yè)長(zhǎng)年被日本和美國(guó)專業(yè)公司壟斷,。目前大廠商就占據(jù)了全球光刻膠市場(chǎng) 87%的份額，行業(yè)集中度高,。其中,，日本 JSR、東京應(yīng)化,、日本信越與富士電子材料市占率加和達(dá)到72%,。并且高分辨率的 KrF 和 ArF 半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)亦基本被日本和美國(guó)企業(yè)所壟斷，產(chǎn)品絕大多數(shù)出自日本和美國(guó)公司,，如杜邦,、JSR 株式會(huì)社、信越化學(xué),、東京應(yīng)化工業(yè),、Fujifilm，以及韓國(guó)東進(jìn)等企業(yè),。整個(gè)光刻膠市場(chǎng)格局來(lái)看,，日本是光刻膠行業(yè)的巨頭聚集地。在選擇光刻膠時(shí)需要考慮化學(xué)性質(zhì),、照射時(shí)間,、敏感度和穩(wěn)定性等因素，以確保所選的光刻膠能夠滿足制造要求,。昆山顯示面板光刻膠單體

經(jīng)過(guò)多年技術(shù)積累,，國(guó)內(nèi)已形成一定光刻膠用電子化學(xué)品產(chǎn)能，國(guó)內(nèi)公司市場(chǎng)份額逐步提升,，國(guó)產(chǎn)替代正在進(jìn)行,。浦東i線光刻膠其他助劑

在雙重曝光工藝中，若光刻膠可以接受多次光刻曝光而不在光罩遮擋的區(qū)域發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),，就可以節(jié)省一次刻蝕,，一次涂膠和一次光刻膠清洗流程。由于在非曝光區(qū)域光刻膠仍然會(huì)接受到相對(duì)少量的光刻輻射,，在兩次曝光過(guò)程后,，非曝光區(qū)域接受到的輻射有可能超過(guò)光刻膠的曝光閾值E0，而發(fā)生錯(cuò)誤的光刻反應(yīng),。如果非曝光區(qū)域的光刻膠在兩次曝光后接受到的輻射能量仍然小于其曝光閾值E0,，那么就是一次合格的雙重曝光。從這個(gè)例子可以看出,，與單次曝光不同,，雙重曝光要求光刻膠的曝光閾值和光刻光源的照射強(qiáng)度之間的權(quán)衡。浦東i線光刻膠其他助劑

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