光刻膠的產業(yè)鏈中游：為光刻膠制造環(huán)節(jié)，當前全球光刻膠生產制造商主要被日本JSR,、信越化學,、住友化學、東京應化,、美國陶氏化學等制造商所壟斷,，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低，與國外光刻膠制造商相比仍存明顯差距,。

光刻膠的產業(yè)鏈下游：主要涉及半導體,、平板顯示器、PCB等領域,。伴隨消費升級,、應用終端產品更新迭代速度加快,，下游應用領域企業(yè)對半導體、平板顯示和PCB制造提出愈加精細化的要求,，將帶動光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展,。 光刻膠所屬的微電子化學品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領域，是典型的技術密集行業(yè),。蘇州光聚合型光刻膠集成電路材料

通常光刻膠等微電子化學品不僅品質要求高,，而且需要多種不同的品類滿足下游客戶多樣化的需。如果沒有規(guī)模效益,，供應商就無法承擔滿足多樣化需求帶來的開銷,。因此，品種規(guī)模構成了進入該行業(yè)的重要壁壘,。同時,，一般微電子化學品具有一定的腐蝕性，對生產設備有較高的要求,，且生產環(huán)境需要進行無塵或微塵處理,。制備微電子化學品還需要全封閉、自動化的工藝流程,，以避免污染,，提高質量。因此,，光刻膠等微電子化學品生產在安全生產,、環(huán)保設備、生產工藝系統,、過程控制體系以及研發(fā)投資等方面要求較高,。如果沒有強大的資金實力，企業(yè)就難以在設備,、研發(fā)和技術服務上取得競爭優(yōu)勢,，以提升可持續(xù)發(fā)展能力。因此,，光刻膠這樣的微電子化學品行業(yè)具備較高的資金壁壘,。嘉定光交聯型光刻膠顯示面板材料光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料,，受到光照后特性會發(fā)生改變,，主要應用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領域。

中美貿易摩擦：光刻膠國產代替是中國半導體產業(yè)的迫切需要,；自從中美貿易摩擦依賴,，中國大陸積極布局集成電路產業(yè)。在半導體材料領域,，光刻膠作為是集成電路制程技術進步的“燃料”,，是國產代替重要環(huán)節(jié),，也是必將國產化的產品。光刻是半導制程的重要工藝,，對制造出更先進,，晶體管密度更大的集成電路起到決定性作用。每一代新的光刻工藝都需要新一代的光刻膠技術相匹配?，F在,，一塊半導體芯片在制造過程中一般需要進行10-50道光刻過程,。其中不同的光刻過程對于光刻膠也有不一樣的具體需求,。光刻膠若性能不達標會對芯片成品率造成重大影響。

按顯示效果分類,；光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠,。負性光刻膠顯影時形成的圖形與光罩（掩膜版）相反；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同,。兩者的生產工藝流程基本一致,，區(qū)別在于主要原材料不同。

按照化學結構分類,；光刻膠可以分為光聚合型,，光分解型，光交聯型和化學放大型,。光聚合型光刻膠采用烯類單體,，在光作用下生成自由基，進一步引發(fā)單體聚合,，生成聚合物,；光分解型光刻膠，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑,，其經光照后,發(fā)生光分解反應,，可以制成正性光刻膠；光交聯型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,，在光的作用下,，形成一種不溶性的網狀結構，而起到抗蝕作用,，可以制成負性光刻膠,。 光刻膠只是一種形象的說法，因為光刻膠從外觀上呈現為膠狀液體,。

浸沒光刻：在與浸沒光刻相對的干法光刻中,，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學反應,。在浸沒光刻中,，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體,。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體。光刻光源發(fā)出的輻射經過這些液體的時候發(fā)生了折射,，波長變短,。這樣，在不改變光源的前提條件下,，更短波長的紫外光被投影光刻膠上,，提高了光刻加工的分辨率。雙重光刻：雙重光刻的意思是通過兩次光刻使得加工分辨率翻倍,。實現這個目的的一種方法是在開始光刻過后平移同一個光罩進行第二次光刻,，以提高加工分辨率。下圖右展示了這樣一個過程,。下圖右中雙重光刻子進行了兩次涂膠,，兩次光刻和兩次刻蝕。隨著光刻膠技術的進步,，只需要一次涂膠,，兩次光刻和一次刻蝕的雙重光刻工藝也成為可能。有機-無機雜化光刻膠被認為是實現10nm以下工業(yè)化模式的理想材料,。嘉定正性光刻膠光致抗蝕劑

中國半導體光刻膠的快速崛起離不開中國整體半導體產業(yè)的發(fā)展,。蘇州光聚合型光刻膠集成電路材料

根據2019年數據，全球半導體光刻膠**大廠商占據全球光刻膠市場87%份額,。其中日本占有四家,，分別是JSR、東京應化(TOK),、信越化學與富士電子材料,，這四家的市場份額達到72%，市場集中度明顯,。在半導體光刻膠細分領域,，日本廠商在市場中具有較強話語權。（1）g/i線光刻膠市場：日本的東京應化,、JSR,、住友化學和富士膠片分別占據26%、15%,、15%,、8%的份額，在全球市場占據64%份額,。（2）KrF光刻膠市場：日本企業(yè)東京應化,、信越化學和JSR在全球KrF光刻膠細分市場分別占據34%、22%和18%份額，合計占比達到74%,。（3）ArF光刻膠市場：日本企業(yè)JSR,、信越化學、東京應化和住友化學包攬前四,，分別占據全球ArF光刻膠細分市場25%,、23%、20%和15%市場份額,，合計市場份額達到83%,。（4）EUV光刻膠市場：較先進的EUV光刻膠領域完全被日本企業(yè)所主導，日本JSR,、東京應化,、信越化學成為EUV光刻膠市場可實現量產的廠商。目前引入EUV工藝的*有三星電子和臺積電兩家公司,。蘇州光聚合型光刻膠集成電路材料

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