光刻膠所屬的微電子化學品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域,，是典型的技術(shù)密集行業(yè),。從事微電子化學品業(yè)務需要具備與電子產(chǎn)業(yè)前沿發(fā)展相匹配的關(guān)鍵生產(chǎn)技術(shù)，如混配技術(shù),、分離技術(shù),、純化技術(shù)以及與生產(chǎn)過程相配套的分析檢驗技術(shù),、環(huán)境處理與監(jiān)測技術(shù)等。同時,，下游電子產(chǎn)業(yè)多樣化的使用場景要求微電子化學品生產(chǎn)企業(yè)有較強的配套能力,，以及時研發(fā)和改進產(chǎn)品工藝來滿足客戶的個性化需求。光刻膠的生產(chǎn)工藝主要過程是將感光材料,、樹脂,、溶劑等主要原料在恒溫恒濕 1000 級的黃光區(qū)潔凈房進行混合，在氮氣氣體保護下充分攪拌,，使其充分混合形成均相液體,，經(jīng)過多次過濾，并通過中間過程控制和檢驗,，使其達到工藝技術(shù)和質(zhì)量要求,，然后做產(chǎn)品檢驗，合格后在氮氣氣體保護下包裝,、打標,、入庫。光刻膠行業(yè)日系企業(yè)實力雄厚,，國內(nèi)廠商有望復刻成功經(jīng)驗,。華東TFT-LCD正性光刻膠顯示面板材料

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光,、電子束,、離子束、X射線等的照射或輻射,，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體,。在光刻工藝過程中,，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時,，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠,，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性,、負性兩大類,。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光,、顯影后,，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來,，該涂層材料為正性光刻膠,。如果曝光部分被保留下來,，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠,。按曝光光源和輻射源的不同,，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）,、深紫外光刻膠,、X-射線膠、電子束膠,、離子束膠等,。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè) ,。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復雜,，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中,，對所使用光刻膠有嚴格的要求,。江浙滬濕膜光刻膠顯示面板材料氧化物型光刻膠：這種類型的光刻膠由氧化硅或其他窄帶隙材料制成。在制造高質(zhì)量微電子設(shè)備時非常有用,。

美國能源部布魯克海文國家實驗室的研究人員采用原子層沉積（ALD）系統(tǒng),，將有機聚合物聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）與氧化鋁結(jié)合起來，創(chuàng)造了雜化有機-無機光刻膠,。他們在將涂有PMMA薄膜的襯底放到ALD反應室中之后,，引入了鋁前驅(qū)物蒸汽。這個蒸汽通過PMMA基質(zhì)內(nèi)部的微小分子孔擴散,，與聚合物鏈內(nèi)部的化學物質(zhì)結(jié)合到一起,。然后，他們引入了另一種前驅(qū)物（例如水）,，與前驅(qū)物反應形成PMMA基體內(nèi)部的氧化鋁,。該雜化光刻膠的蝕刻選擇比遠遠高于ZEP（一種昂貴的光刻膠）和二氧化硅。

浸沒光刻和雙重光刻技術(shù)在不改變 193nm波長ArF光刻光源的前提下,，將加工分辨率推向10nm的數(shù)量級,。與此同時，這兩項技術(shù)對光刻膠也提出了新的要求,。在浸沒工藝中,；光刻膠首先不能與浸沒液體發(fā)生化學反應或浸出擴散，損傷光刻膠自身和光刻鏡頭,；其次，光刻膠的折射率必須大于透鏡,，液體和頂部涂層,。因此光刻膠中主體樹脂的折射率一般要求達到1.9以上,；接著，光刻膠不能在浸沒液體的浸泡下和后續(xù)的烘烤過程中發(fā)生形變,，影響加工精度,；當浸沒工藝目標分辨率接近10nm時，將對于光刻膠多個性能指標的權(quán)衡都提出了更加苛刻的挑戰(zhàn),。浸沒 ArF 光刻膠制備難度大于干性 ArF 光刻膠,，是 ArF光刻加工分辨率突破 45nm 的關(guān)鍵之一。光刻膠下游為印刷電路板,、顯示面板和電子芯片,，廣泛應用于消費電子、航空航天等領(lǐng)域,。

按顯示效果分類,；光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠。負性光刻膠顯影時形成的圖形與光罩（掩膜版）相反,；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同,。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致，區(qū)別在于主要原材料不同,。

按照化學結(jié)構(gòu)分類,；光刻膠可以分為光聚合型，光分解型,，光交聯(lián)型和化學放大型,。光聚合型光刻膠采用烯類單體，在光作用下生成自由基,，進一步引發(fā)單體聚合,，生成聚合物；光分解型光刻膠,，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑,，其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應，可以制成正性光刻膠,；光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,，在光的作用下，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),，而起到抗蝕作用,，可以制成負性光刻膠。 光刻膠又稱光致抗蝕劑,，是一種對光敏感的混合液體,。KrF光刻膠印刷電路板

經(jīng)過多年技術(shù)積累，國內(nèi)已形成一定光刻膠用電子化學品產(chǎn)能,，國內(nèi)公司市場份額逐步提升,，國產(chǎn)替代正在進行,。華東TFT-LCD正性光刻膠顯示面板材料

浸沒光刻：在與浸沒光刻相對的干法光刻中，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣,。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學反應,。在浸沒光刻中，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體,。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體,。光刻光源發(fā)出的輻射經(jīng)過這些液體的時候發(fā)生了折射，波長變短,。這樣,，在不改變光源的前提條件下，更短波長的紫外光被投影光刻膠上,，提高了光刻加工的分辨率,。雙重光刻：雙重光刻的意思是通過兩次光刻使得加工分辨率翻倍。實現(xiàn)這個目的的一種方法是在開始光刻過后平移同一個光罩進行第二次光刻,，以提高加工分辨率,。下圖右展示了這樣一個過程。下圖右中雙重光刻子進行了兩次涂膠,，兩次光刻和兩次刻蝕,。隨著光刻膠技術(shù)的進步，只需要一次涂膠,，兩次光刻和一次刻蝕的雙重光刻工藝也成為可能,。華東TFT-LCD正性光刻膠顯示面板材料