根據(jù)2019年數(shù)據(jù),，全球半導(dǎo)體光刻膠**大廠商占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)87%份額,。其中日本占有四家，分別是JSR,、東京應(yīng)化(TOK),、信越化學(xué)與富士電子材料，這四家的市場(chǎng)份額達(dá)到72%,，市場(chǎng)集中度明顯。在半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分領(lǐng)域,，日本廠商在市場(chǎng)中具有較強(qiáng)話語(yǔ)權(quán),。（1）g/i線光刻膠市場(chǎng)：日本的東京應(yīng)化、JSR,、住友化學(xué)和富士膠片分別占據(jù)26%,、15%、15%,、8%的份額,，在全球市場(chǎng)占據(jù)64%份額。（2）KrF光刻膠市場(chǎng)：日本企業(yè)東京應(yīng)化,、信越化學(xué)和JSR在全球KrF光刻膠細(xì)分市場(chǎng)分別占據(jù)34%,、22%和18%份額，合計(jì)占比達(dá)到74%,。（3）ArF光刻膠市場(chǎng)：日本企業(yè)JSR,、信越化學(xué),、東京應(yīng)化和住友化學(xué)包攬前四，分別占據(jù)全球ArF光刻膠細(xì)分市場(chǎng)25%,、23%,、20%和15%市場(chǎng)份額，合計(jì)市場(chǎng)份額達(dá)到83%,。（4）EUV光刻膠市場(chǎng)：較先進(jìn)的EUV光刻膠領(lǐng)域完全被日本企業(yè)所主導(dǎo),，日本JSR、東京應(yīng)化,、信越化學(xué)成為EUV光刻膠市場(chǎng)可實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的廠商,。目前引入EUV工藝的*有三星電子和臺(tái)積電兩家公司。光刻膠達(dá)到下游客戶要求的技術(shù)指標(biāo)后,，還需要進(jìn)行較長(zhǎng)時(shí)間驗(yàn)證測(cè)試（1-3 年）,。蘇州KrF光刻膠顯影

肉桂酸酯類的光刻膠：這類光刻膠在紫外光的照射下，肉桂酸上的不飽和鍵會(huì)打開(kāi),，產(chǎn)生自由基,，形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)。主要品種有聚乙烯醇肉桂酸酯光刻膠,、聚乙烯氧乙基肉桂酸酯光刻膠和肉桂叉二酯光刻膠等,。前者膠是早期被用于光刻膠制備的光敏高分子化合物，對(duì)二氧化硅,、鋁,、氧化鉻等材料都有良好的附著力，耐氫氟酸,、磷酸腐蝕,；中者膠在曝光下幾乎不受氧的影響，無(wú)須氮?dú)獗Ｗo(hù),，分辨率1 μm左右,，靈敏度較前者膠高1倍，黏附性好,，抗蝕能力強(qiáng),，圖形清晰、線條整齊,，耐熱性好,，顯影后可在190℃堅(jiān)膜0.5 h不變質(zhì)，感光范圍在250~475 nm,，特別對(duì)436 nm十分敏感,，屬線型高分子聚合物；第三種膠能溶于酮類,、烷烴等溶劑,，不溶于水,、乙醇等。有較好的黏附性和感光性 ,，分辨率也很高,，感光速度快。浦東i線光刻膠集成電路材料光刻膠的國(guó)產(chǎn)化公關(guān)正在展開(kāi),，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域,，中國(guó)已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競(jìng)爭(zhēng)力的本土企業(yè)。

化學(xué)放大型光刻膠體系中有一個(gè)比較大的問(wèn)題,，就是光酸的擴(kuò)散問(wèn)題,。光酸的擴(kuò)散會(huì)增加光刻過(guò)程的圖案的粗糙度，進(jìn)而影響光刻結(jié)果的分辨率,。而將光致產(chǎn)酸劑與光刻膠主體材料聚合在一起,，則有可能解決這一問(wèn)題。此外,，光致產(chǎn)酸劑（特別是離子型光致產(chǎn)酸劑）的化學(xué)結(jié)構(gòu)與主體材料相差較大,，極易在成膜時(shí)發(fā)生聚集，導(dǎo)致微區(qū)分相現(xiàn)象,；而光致產(chǎn)酸劑與光刻膠主體材料共價(jià)鍵合后,，分布均勻性可以得到改善，這也有利于獲得質(zhì)量更好的光刻圖案,。

光刻膠所屬的微電子化學(xué)品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域,，是典型的技術(shù)密集行業(yè)。從事微電子化學(xué)品業(yè)務(wù)需要具備與電子產(chǎn)業(yè)前沿發(fā)展相匹配的關(guān)鍵生產(chǎn)技術(shù),，如混配技術(shù),、分離技術(shù)、純化技術(shù)以及與生產(chǎn)過(guò)程相配套的分析檢驗(yàn)技術(shù),、環(huán)境處理與監(jiān)測(cè)技術(shù)等,。同時(shí)，下游電子產(chǎn)業(yè)多樣化的使用場(chǎng)景要求微電子化學(xué)品生產(chǎn)企業(yè)有較強(qiáng)的配套能力,，以及時(shí)研發(fā)和改進(jìn)產(chǎn)品工藝來(lái)滿足客戶的個(gè)性化需求。光刻膠的生產(chǎn)工藝主要過(guò)程是將感光材料,、樹(shù)脂,、溶劑等主要原料在恒溫恒濕 1000 級(jí)的黃光區(qū)潔凈房進(jìn)行混合，在氮?dú)鈿怏w保護(hù)下充分?jǐn)嚢?，使其充分混合形成均相液體,，經(jīng)過(guò)多次過(guò)濾，并通過(guò)中間過(guò)程控制和檢驗(yàn),，使其達(dá)到工藝技術(shù)和質(zhì)量要求,，然后做產(chǎn)品檢驗(yàn),，合格后在氮?dú)鈿怏w保護(hù)下包裝、打標(biāo),、入庫(kù),。經(jīng)過(guò)多年技術(shù)積累，國(guó)內(nèi)已形成一定光刻膠用電子化學(xué)品產(chǎn)能,，國(guó)內(nèi)公司市場(chǎng)份額逐步提升,，國(guó)產(chǎn)替代正在進(jìn)行。

在EUV圖形曝光工序中,，光致產(chǎn)酸劑產(chǎn)生光酸,，這些光酸一方面可以與光刻膠主體材料的離去基團(tuán)反應(yīng)，另一方面也可使光敏劑前體變?yōu)楣饷魟?。EUV曝光結(jié)束后,，曝光區(qū)域富集了大量的光敏劑。再進(jìn)行UV整片曝光,，此時(shí),，只有富集了光敏劑的區(qū)域可以吸收UV光，光敏劑作為天線,，使膠膜中的光致產(chǎn)酸劑繼續(xù)產(chǎn)生光酸,；與之相對(duì)地，EUV曝光過(guò)程中未曝光區(qū)域由于有對(duì)UV光透明的光敏劑前體,，對(duì)UV光同樣沒(méi)有吸收的光致產(chǎn)酸劑無(wú)法形成光酸,，進(jìn)而無(wú)法發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。接著,，需像其他的化學(xué)放大光刻膠一樣,，進(jìn)行后烘、顯影即可得到光刻圖形,。產(chǎn)品純度,、金屬離子雜質(zhì)控制等也是光刻膠生產(chǎn)工藝中需面臨的技術(shù)難關(guān)，光刻膠純度不足會(huì)導(dǎo)致芯片良率下降,。華東KrF光刻膠印刷電路板

碳酸甲酯型光刻膠：這種類型的光刻膠在制造高分辨率電路元件方面非常有用,。蘇州KrF光刻膠顯影

受制于國(guó)內(nèi)光刻膠技術(shù)發(fā)展水平，目前我國(guó)前沿光刻膠的自給率仍然保持較低水平,。盡管國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)保持良好的增長(zhǎng)趨勢(shì),，但以KrF、ArF光刻膠為主的半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額仍然較小,，前沿光刻膠市場(chǎng)長(zhǎng)期為國(guó)外巨頭所壟斷,。從技術(shù)水平來(lái)看，目前中國(guó)本土光刻膠的整體技術(shù)水平與國(guó)際先進(jìn)水平存在明顯差距,，且主要集中在技術(shù)含量較低的PCB光刻膠領(lǐng)域,，而在半導(dǎo)體光刻膠和LCD光刻膠方面自給率較低,。具體而言，半導(dǎo)體光刻膠中g(shù)線/i線光刻膠國(guó)產(chǎn)化率為10%,，而ArF/KrF光刻膠的國(guó)產(chǎn)化率為1%,，對(duì)于前沿的EUV光刻膠目前仍處于研發(fā)階段。蘇州KrF光刻膠顯影