无码人妻久久一区二区三区蜜桃_日本高清视频WWW夜色资源_国产AV夜夜欢一区二区三区_深夜爽爽无遮无挡视频,男人扒女人添高潮视频,91手机在线视频,黄页网站男人的天,亚洲se2222在线观看,少妇一级婬片免费放真人,成人欧美一区在线视频在线观看_成人美女黄网站色大免费的_99久久精品一区二区三区_男女猛烈激情XX00免费视频_午夜福利麻豆国产精品_日韩精品一区二区亚洲AV_九九免费精品视频 ,性强烈的老熟女

當前位置: 首頁 > 企業(yè)知道 > 磁控濺射鍍膜工藝參數對薄膜的影響有哪些
廣告

磁控濺射鍍膜工藝參數對薄膜的影響有哪些

舉報

丹陽市寶來利真空機電有限公司2025-04-05

濺射氣壓 1. 對薄膜結晶質量的影響:氣壓過高時,,氣體電離程度提高,但濺射原子在到達襯底前的碰撞次數增多,損失大量能量,,導致到達襯底后遷移能力受限,,結晶質量變差,,薄膜可能呈現(xiàn)出非晶態(tài)或結晶不完整的狀態(tài),;氣壓過低時,氣體電離困難,,難以發(fā)生濺射起輝效果,,沉積速率極低,無法形成連續(xù)的薄膜,。適中的濺射氣壓能保證濺射粒子有足夠的能量到達襯底并進行良好的結晶,,使薄膜具有較好的結晶質量。 2. 對薄膜表面粗糙度的影響:合適的濺射氣壓下,濺射原子能夠均勻地沉積在襯底上,,形成較為光滑的薄膜表面,。如果氣壓過高或過低,都會破壞這種均勻性,,導致薄膜表面粗糙度增加,。例如,氣壓過高時,,大量的濺射原子在碰撞后以不均勻的方式到達襯底,,會使表面粗糙度增大。 3. 對薄膜致密度的影響:氣壓較低時,,濺射原子的平均自由程較長,,到達襯底時能量較高,能夠更好地填充薄膜中的孔隙,,使薄膜致密度增加,;而氣壓過高時,濺射原子的能量損失較大,,無法有效地填充孔隙,,導致薄膜致密度降低。

丹陽市寶來利真空機電有限公司
丹陽市寶來利真空機電有限公司
簡介:寶來利真空機電是一家專業(yè)從事真空設備和真空鍍膜機制造企業(yè),,能夠根據客戶要求設計制造各種真空成套設備,。
簡介: 寶來利真空機電是一家專業(yè)從事真空設備和真空鍍膜機制造企業(yè),能夠根據客戶要求設計制造各種真空成套設備,。
中頻熱蒸發(fā)雙門真空鍍膜機
廣告

其余 2 條回答

  • 廣告
    丹陽市寶來利真空機電有限公司 2025-04-08

    濺射功率 1. 對沉積速率的影響:濺射功率增加,,靶材表面受到的氬離子轟擊能量增強,濺射產額提高,,從而使沉積速率加快,。但當濺射功率過高時,,可能會導致靶材表面過熱,,甚至出現(xiàn)靶材“中毒”現(xiàn)象,反而會影響沉積速率的穩(wěn)定性,。 2. 對薄膜結構的影響:低濺射功率下,,濺射原子到達襯底的能量較低,原子的遷移能力較弱,,薄膜的晶粒尺寸較小,,可能形成多晶或非晶結構;高濺射功率下,,原子的能量較高,,原子的遷移和擴散能力增強,有利于晶粒的生長和結晶,,薄膜可能呈現(xiàn)出較大的晶粒尺寸和較好的結晶結構,。 3. 對薄膜應力的影響:濺射功率的變化會改變薄膜的生長速率和微觀結構,,從而影響薄膜中的應力狀態(tài)。一般來說,,高濺射功率下沉積的薄膜應力較大,,這是因為快速的沉積過程中,薄膜中的原子來不及充分調整位置,,導致應力積累,。

  • 廣告
    丹陽市寶來利真空機電有限公司 2025-04-09

    靶基距 1. 對沉積速率的影響:靶基距過大,濺射原子在飛行過程中與氣體分子的碰撞次數增多,,能量損失嚴重,,到達襯底的濺射原子數量減少,沉積速率降低,;靶基距過小,,雖然濺射原子的能量損失較小,但由于濺射原子的分布過于集中,,也會影響沉積速率的均勻性,。 2. 對薄膜均勻性的影響:合適的靶基距能夠使濺射原子在襯底上均勻分布,從而形成均勻的薄膜,。如果靶基距不均勻或不合適,,會導致薄膜在不同位置的厚度和性能出現(xiàn)差異,影響薄膜的整體質量,。

  • BLL-1100
    廣告
  • 中頻熱蒸發(fā)鍍膜機
    中頻熱蒸發(fā)鍍膜機
    廣告
  • 磁控濺射真空鍍膜
    磁控濺射真空鍍膜
    廣告
問題質量差 廣告 重復,,舊聞 低俗 與事實不符 錯別字 格式問題 抄襲 侵犯名譽/商譽/肖像/隱私權 其他問題,,我要吐槽
您的聯(lián)系方式:
操作驗證: