南京拓展科技有限公司2025-04-05

可以采用高精密的環(huán)境控制設(shè)備來(lái)對(duì)環(huán)境進(jìn)行控制,，達(dá)到精密溫控的效果,。如蝕刻、涂層,、光刻等工藝,，這些工藝都需要在特定的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。潔凈室內(nèi)的溫度波動(dòng)可能會(huì)導(dǎo)致晶圓材料的物理性質(zhì)發(fā)生變化,，影響生產(chǎn)精度,。例如，光刻工藝中,，微小的溫度波動(dòng)會(huì)導(dǎo)致曝光位置的漂移,，進(jìn)而影響線(xiàn)路的精確度。此外,，晶圓在高溫環(huán)境下可能會(huì)因?yàn)闊崤蛎浂l(fā)生變形,，影響成品率。因此,，半導(dǎo)體潔凈室中通常溫度需要嚴(yán)格控制在20°C至25°C范圍內(nèi),，且溫度波動(dòng)不能超過(guò)±1°C（部分要求較高的工藝如光刻工藝，溫度波動(dòng)不能超過(guò)±0.1°C）,。所以我們可以采用極測(cè)（南京）高精密環(huán)境控制設(shè)備,，該設(shè)備內(nèi)部通過(guò)風(fēng)機(jī)引導(dǎo)氣流以一定的方向循環(huán),，控制系統(tǒng)對(duì)循環(huán)氣流的每個(gè)環(huán)節(jié)進(jìn)行處理，從而使柜內(nèi)的溫濕度達(dá)到超高的控制精度,，可達(dá)到±0.002攝氏度,。

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