酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液，隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展,，產(chǎn)生的廢液量越來越大,，發(fā)掘的污染物種類也越來越多,，對環(huán)境造成巨大的危害，此類問題也成為社會的重要課題,。為了減少甚至杜絕此類污染的發(fā)生,，我們需要對酸性蝕刻液進行回收循環(huán)利用。目前對于酸性蝕刻廢液的再生利用大多采用化學或電化學的方法,，但傳統(tǒng)的方法廢液中總銅的含量不斷增大,，比重增加，必須排掉一部分廢液或者補加子液和水來控制參數(shù),，這樣不僅污染大,，影響環(huán)境，而且還會造成銅和酸的浪費,。請認準蘇州博洋化學股份有限公司,。湖南專業(yè)BOE蝕刻液推薦廠家

Cu2+的蝕刻作用由次要地位而躍居主要地位，此時蝕刻速率慢,，即應考慮蝕刻液的更新,。一般工廠很少分析和測定蝕刻液中的含銅量，多以蝕刻時間和蝕刻質(zhì)量來確定蝕刻液的再生與更新,。蝕刻銅箔的同時,，還伴有一些副反應，就是CuCl2和FeCl3的水解反應：FeCl3＋3H2O→Fe(OH)3↓＋3HClCuCl2＋2H2O→Cu(OH)2↓＋2HCl生成的氫氧化物很不穩(wěn)定,，受熱后易分解：2Fe(OH)3→Fe2O3↓＋3H2OCu(OH)2→CuO↓＋H2O結(jié)果生成了紅色的氧化鐵和黑色的氧化銅微粒,，懸浮于蝕刻液中，對抗蝕層有一定的破壞作用,。2.影響蝕刻速率的因素Fe3+的濃度和蝕刻液的溫度蝕刻液溫度越高,，蝕刻速率越快，溫度的選擇應以不損壞抗蝕層為原則,。Fe3+的濃度對蝕刻速率有很大的影響,。蝕刻液中Fe3+濃度逐漸增加，對銅的蝕刻速率相應加快,。當所含F(xiàn)e3+超過某一濃度時,，由于溶液粘度增加，蝕刻速率反而有所降低,。哪些新型BOE蝕刻液銷售廠BOE蝕刻液蘇州博洋化學股份有限公司,。

這兩種體系再生設備設備不僅可以節(jié)省約30%的物料成本，還降低廢水處理成本,，且可以電解出金屬銅,。二、蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)在電子線路版（PCB）蝕刻過程中,，蝕刻液中的銅含量漸漸增加,。蝕刻液要達到比較好的蝕刻效果,，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應分量的蝕刻鹽（NH4CI）及氨水（NH3）。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度比較好水平,，蝕刻用過后的（以下稱[用后蝕刻液]）溶液需不斷由添加的藥劑所取締,。本系統(tǒng)將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少量的補充劑及氨水,，補償因運作時被帶走而失去的部份,。從而取代蝕刻子液，既可達到蝕刻工藝的要求,，又可節(jié)省生產(chǎn)成本,。蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)有酸性、堿性兩大系統(tǒng),，兩大系統(tǒng)又可分為萃取法,、直接電解法?？蓪⒋罅吭拘枰欧诺挠煤笪g刻液還原再生成為可再次使用的再生蝕刻液,。從而減少生產(chǎn)廢液的排放，回用降低生產(chǎn)成本,，且可提取出高純度電解金屬銅,。

酸性蝕刻是制造印刷電路板過程中必不可少的工序，酸性蝕刻工序利用酸性蝕刻液在蝕刻機內(nèi)完成,。酸性蝕刻液包括酸性蝕刻子液和酸性蝕刻母液。通過再生循環(huán)方法提取銅回收廢液繼續(xù)使用,，可以明顯減少環(huán)境的污染,，電解反應是通過陽極的氧化作用使一價銅變?yōu)槎r銅，使得蝕刻液恢復再生能力,，而陰極則通過還原作用來沉積銅,，使得蝕刻液具備蝕刻的負載能力。但是會產(chǎn)生氯離子,，陽極存在氯氣析出的問題,。氯氣的析出不只危害了車間工人的健康，產(chǎn)生空氣污染,。BOE蝕刻液如何配置,，歡迎咨詢。

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