本實(shí)用新型屬于廢液處理領(lǐng)域,，尤其涉及一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng),。背景技術(shù)：酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液,，隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展,，產(chǎn)生的廢液量越來(lái)越大，發(fā)掘的污染物種類也越來(lái)越多,，對(duì)環(huán)境造成巨大的危害,，此類問題也成為社會(huì)的重要課題。為了減少甚至杜絕此類污染的發(fā)生,，我們需要對(duì)酸性蝕刻液進(jìn)行回收循環(huán)利用。目前對(duì)于酸性蝕刻廢液的再生利用大多采用化學(xué)或電化學(xué)的方法,，但傳統(tǒng)的方法廢液中總銅的含量不斷增大,，比重增加，必須排掉一部分廢液或者補(bǔ)加子液和水來(lái)控制參數(shù),，這樣污染大,，影響環(huán)境，而且還會(huì)造成銅和酸的浪費(fèi),。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題為如何通過(guò)簡(jiǎn)單,、低成本的技術(shù)實(shí)現(xiàn)種酸性蝕刻液電解后廢液的再生利用。為解決上述技術(shù)問題,，本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的,，一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)，包括：電解槽,，具有一出液口和出氣口,，且內(nèi)置有酸性蝕刻液,，用于對(duì)所述酸性蝕刻液進(jìn)行電解提銅，產(chǎn)生氯氣,，得到電解后液,；再生液調(diào)配缸，具有進(jìn)液口和循環(huán)出液口,，所述進(jìn)液口通過(guò)管道與所述電解槽的出液口連接以接收電解后液,；射流器，其進(jìn)氣口通過(guò)導(dǎo)氣管與所述電解槽的出氣口連接以接收所述氯氣,。BOE蝕刻液公司的聯(lián)系方式,。江西哪些新型BOE蝕刻液電話

    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過(guò)在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,，來(lái)改善磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力,，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù)：氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料,，氫氟酸和熱磷酸能對(duì)氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕,。在半導(dǎo)體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻,，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來(lái)蝕刻氮化硅,。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來(lái)越小,，集成度越來(lái)越高,，對(duì)制造工藝中的各工藝節(jié)點(diǎn)要求也越來(lái)越高，如蝕刻工藝中對(duì)蝕刻后晶圓表面的均勻性,、蝕刻殘留,、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻時(shí),，晶圓表面會(huì)出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象,，體現(xiàn)于在蝕刻前后進(jìn)行相同位置取點(diǎn)的厚度測(cè)量時(shí)，檢測(cè)點(diǎn)之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異,。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題,，通過(guò)在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實(shí)現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液,。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類,、％的表面活性劑,。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。河南BOE蝕刻液廠家現(xiàn)貨BOE蝕刻液的發(fā)展趨勢(shì)如何,。

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    其擴(kuò)散管深入到所述再生液調(diào)配缸中；液體泵,，其一端通過(guò)管道連接所述再生液調(diào)配缸的循環(huán)出液口,，另一端通過(guò)管道連接所述射流器的進(jìn)液口，用于將所述再生液調(diào)配缸中的電解后液通過(guò)所述管道抽取至所述射流器的進(jìn)液口,。進(jìn)一步地,，所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括：曝氣裝置，用于向所述再生液調(diào)配缸中的電解后液輸送氣體以進(jìn)行攪拌,。進(jìn)一步地,，所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括：后續(xù)處理系統(tǒng)，用于向經(jīng)過(guò)所述再生液調(diào)配缸處理過(guò)的電解后液中加入氯化鈉,、鹽酸并攪拌均勻,。更進(jìn)一步地，所述電解槽的陽(yáng)極為石墨電極,，陰極為鈦或鈦合金板狀電極,。更進(jìn)一步地，所述電解槽中陰極與陽(yáng)極之間的距離為55mm,。更進(jìn)一步地,，所述電解槽的電流密度為300a/m2。本實(shí)用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)通過(guò)簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了電解后廢液的再生利用,，可節(jié)約能耗和藥品,，提高經(jīng)濟(jì)效益。附圖說(shuō)明圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖,；圖2是本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖,。具體實(shí)施方式為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,。博洋 BOE 蝕刻液以其獨(dú)特優(yōu)勢(shì)，為行業(yè)提供個(gè)性化解決方案,！

    所述九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟異丁基烷基醚組成,。5.權(quán)利要求14中任一項(xiàng)的組合物，特征在于,，所述組合物是共沸的或共沸型的,。6.權(quán)利要求5的組合物，特征在于,，所述組合物包含515重量％的甲基四氫呋喃和8595重量％的九氟丁基甲基醚,。7.共沸組合物,，其包含8重量％的甲基四氫呋喃和92重量％的九氟丁基甲基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點(diǎn),。8.權(quán)利要求5的組合物,，特征在于，所述組合物包含1040重量％的甲基四氫呋喃和6090重量％的九氟丁基乙基醚,。9.共沸組合物,，其包含％的甲基四氫呋喃和％的九氟丁基乙基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點(diǎn),。10.制冷劑,，特征在于，其包含前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的組合物,。11.溶劑,，特征在于，其包含權(quán)利要求19中任一項(xiàng)的組合物,。全文摘要本發(fā)明涉及含有全氟丁基醚的共沸或共沸型混合物或組合物,。更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及含有至少一種九氟丁基烷基醚和可生物降解化合物的組合物,，該組合物可用作溶劑或制冷劑,。蘇州博洋化學(xué)股份有限公司歡迎新老朋友咨詢。江西哪些新型BOE蝕刻液電話

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