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江蘇市面上哪家剝離液批量定制

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-06

    常在印刷電路板,,液晶顯示面板,半導(dǎo)體集成電路等工藝制造過(guò)程中,,需要通過(guò)多次圖形掩膜照射曝光及蝕刻等工序在硅晶圓或玻璃基片上形成多層精密的微電路,,形成微電路之后,進(jìn)一步用剝離液將涂覆在微電路保護(hù)區(qū)域上作為掩膜的光刻膠除去,。比如光電TFT-LCD生產(chǎn)工藝主要包含光阻涂布,、顯影、去光阻,、相關(guān)清洗作業(yè)四大階段,,其中在去光阻階段會(huì)產(chǎn)生部分剝離液。印制電路板生產(chǎn)工藝相當(dāng)復(fù)雜,。不僅設(shè)備和制造工藝的科技含量高,工藝流程長(zhǎng),,用水量大,,而且所用的化學(xué)藥品(包括各種添加劑)種類多、用量大,。因此,,在用減成法生產(chǎn)印刷線路板的過(guò)程中,產(chǎn)污環(huán)節(jié)多,,種類繁雜,,物料損耗大,。可分為干法加工(設(shè)計(jì)和布線,、模版制作,、鉆孔、貼膜,、曝光和外形加工等)和濕法加工(內(nèi)層板黑膜氧化,、去孔壁樹(shù)脂膩污、沉銅,、電鍍,、顯影、蝕刻,、脫膜,、絲印、熱風(fēng)整平等)過(guò)程,。其中在脫模(剝膜)工序?yàn)榱嗣摮龔U舊電路板表面殘留焊錫,,需用硝酸為氧化劑,氨基磺酸為穩(wěn)定劑,苯并三氮唑?yàn)殂~的緩蝕劑進(jìn)行操作,整個(gè)工序中會(huì)產(chǎn)生大量的剝離液,,有機(jī)溶劑成分較大,。 剝離液的主要成分是什么?江蘇市面上哪家剝離液批量定制

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    利用提升泵將一級(jí)過(guò)濾罐中濾液抽取到攪拌釜內(nèi),;再向攪拌釜中輸入沉淀劑,,如酸性溶液,與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦?,即二?jí)線性酚醛樹(shù)脂,,打開(kāi)二級(jí)過(guò)濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥,帶有沉淀物的混合液進(jìn)入二級(jí)過(guò)濾罐中,,由其中的過(guò)濾筒過(guò)濾得到二級(jí)線性酚醛樹(shù)脂,,廢液二級(jí)過(guò)濾罐底部的廢液出口流出,送往剝離成分處理系統(tǒng),。上述過(guò)濾得到的一級(jí)線性酚醛樹(shù)脂可用于光刻膠產(chǎn)品的原料,,而二級(jí)線性酚醛樹(shù)脂可用于其他場(chǎng)合。綜上,,實(shí)現(xiàn)了對(duì)光刻膠樹(shù)脂的充分的回收利用,,回收率得到提高。附圖說(shuō)明圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖,;圖2是過(guò)濾筒的結(jié)構(gòu)示意圖,。具體實(shí)施方式如圖1、圖2所示,,該光刻膠廢剝離液回收裝置,,包括攪拌釜10和與攪拌釜10連通的過(guò)濾罐,,所述過(guò)濾罐的數(shù)量為兩個(gè),由一級(jí)過(guò)濾罐16和二級(jí)過(guò)濾罐13組成,。所述一級(jí)過(guò)濾罐16和二級(jí)過(guò)濾罐13在垂直方向上位于攪拌釜10下方,,一級(jí)過(guò)濾罐16和二級(jí)過(guò)濾罐13的進(jìn)料管路15、14分別與攪拌釜10底部連通,,且進(jìn)料管路15,、14上分別設(shè)有電磁閥18、17,。所述一級(jí)過(guò)濾罐16的底部出液口19連接有提升泵6,,所述提升泵6的出料管路末端與攪拌釜10頂部的循環(huán)料口7連通。攪拌釜10頂部另設(shè)有廢剝離液投料口5和功能切換口3,?;葜蒿@示面板用剝離液銷售價(jià)格龍騰光電用的哪家的剝離液?

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能夠除去抗蝕劑,。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒(méi)有特別限定,,例如,可以舉出在設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1~60分鐘左右的條件,、將設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1~60分鐘左右的條件,。需要說(shuō)明的是,浸漬時(shí),,可以搖動(dòng)基材,,或?qū)Ρ景l(fā)明剝離液施加超聲波??刮g劑的種類沒(méi)有特別限定,,可以是例如干膜抗蝕劑、液體抗蝕劑等中的任一種,。干膜抗蝕劑的種類也沒(méi)有特別限定,,例如推薦堿可溶型的干膜抗蝕劑。作為這樣的堿可溶型的干膜抗蝕劑,,例如,,可以舉出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式會(huì)社制)等。施加抗蝕劑的基材沒(méi)有特別限定,,例如,,可以舉出印刷布線板、半導(dǎo)體基板,、平板顯示器、引線框中使用的各種金屬,、合金所形成的,、薄膜,、基板、部件等,。按照上述方式本發(fā)明剝離液能夠從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑,,因此能夠在包括除去這樣的抗蝕劑的工序的印刷布線板、半導(dǎo)體基板,、平板顯示器,、引線框等的制造方法中使用。上述制造方法之中推薦包括從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑的工序的印刷布線板的制造方法,,特別推薦基于半加成法的印刷布線板的制造方法,。本發(fā)明剝離液能夠除去的線/間距(l/s)沒(méi)有特別限定。

    光刻膠又稱光致抗蝕劑,,主要由感光樹(shù)脂,、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹(shù)脂經(jīng)光照后,,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng),,使得這種材料的物理性能,特別是溶解性,、親合性等發(fā)生明顯變化,。經(jīng)曝光、顯影,、刻蝕,、擴(kuò)散、離子注入,、金屬沉積等工藝將所需的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至加工的基板上,、***通過(guò)去膠剝離液將未曝光部分余下的光刻膠清洗掉,從而完成整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程,。在液晶面板和amoled生產(chǎn)中***使用?,F(xiàn)有的剝離液主要有兩種,分別是水性剝離液和有機(jī)剝離液,,由于有機(jī)剝離液只能用于具有mo/al/mo結(jié)構(gòu)的制程中,,無(wú)法用于ito/ag/ito;且乙醇胺的含量高達(dá)60%以上,,有很強(qiáng)的腐蝕性,,因此,常用的剝離液是水性剝離液,,現(xiàn)有的水性剝離液主要成分為有機(jī)胺化合物,、極性有機(jī)溶劑以及水,但現(xiàn)有的水性剝離液大都存在腐蝕金屬配線,、光刻膠殘留,、環(huán)境污染大,、影響操作人員的安全性、剝離效果差等問(wèn)題,。 性價(jià)比高的剝離液哪里有,;

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    高世代面板)表面上,或透入其表面,,而把固體物料潤(rùn)濕,,剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠,。因此,,本申請(qǐng)中的高世代面板銅制程光刻膠剝離液由酰胺、醇醚,、環(huán)胺與鏈胺,、緩蝕劑、潤(rùn)濕劑組成,。其中,,酰胺可以為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺,、n,,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種,酰胺是用于溶解光刻膠,;n-甲基甲酰胺下面簡(jiǎn)稱″nmf″醇醚為二乙二醇丁醚,、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚,、乙二醇乙醚中的任意一種或多種,,醇醚是用于潤(rùn)濕、膨潤(rùn),、溶解光刻膠的,;二乙二醇丁醚下面簡(jiǎn)稱″bdg″。環(huán)胺與鏈胺,,用于滲透,、斷開(kāi)光刻膠分子間弱結(jié)合力;鏈胺:分子量的大小決定瞬間溶解力,,分子量過(guò)大瞬間溶解力小,,光刻膠未被完全溶解;分子量過(guò)小,,對(duì)金屬的腐蝕性增強(qiáng),,影響產(chǎn)品質(zhì)量。分子量一般在50g/mol-200g/mol,鏈胺為乙醇胺,、二乙醇胺,、三乙醇胺、二甘醇胺,、異丙醇胺、甲基二乙醇胺,、amp-95中的任意一種或多種,;環(huán)胺:溶解光刻膠中環(huán)狀結(jié)構(gòu)的樹(shù)脂,包括氨乙基哌嗪,、羥乙基哌嗪,、氨乙基嗎啉中的任意一種或多種;上述鏈胺與環(huán)胺的比例在4∶1-1∶4之間,。緩蝕劑,,用于降低對(duì)金屬的腐蝕速度,緩蝕劑為三唑類物質(zhì),,具體為苯并三氮唑,、甲基苯并三氮唑中的任意一種。潤(rùn)濕劑,。剝離液可以用在哪些制程段上,;東莞什么剝離液供應(yīng)

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    本實(shí)用新型涉及光刻膠生產(chǎn)設(shè)備,,具體是一種光刻膠廢剝離液回收裝置,。背景技術(shù):光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,其是由溶劑,、感光樹(shù)脂,、光引發(fā)劑和添加劑四種成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在紫外光,、深紫外光,、電子束、離子束等光照或輻射下,,進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng),,經(jīng)曝光、顯影等過(guò)程,,將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至待加工的襯底上,,然后進(jìn)行蝕刻等工藝加工,終得到所需圖像,。其中,,溶劑使光刻膠具有流動(dòng)性,易揮發(fā),對(duì)于光刻膠的化學(xué)性質(zhì)幾乎沒(méi)有影響,。感光樹(shù)脂是惰性的聚合物,,用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑,給予光刻膠其機(jī)械和化學(xué)性質(zhì),。光引發(fā)劑是光刻膠中的光敏成分,,對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。添加劑是控制光刻膠材料特殊方面的化學(xué)物質(zhì),,用來(lái)控制和改變光刻膠材料的特定化學(xué)性質(zhì)或響應(yīng)特性,。在光刻工藝中,一般步驟為勻膠—干燥—前烘--曝光—顯影—后烘—蝕刻—?jiǎng)冸x,。在光刻膠剝離工序中會(huì)產(chǎn)生剝離廢液,,光刻膠價(jià)格昂貴,如不對(duì)廢液中的光刻膠成分回收利用,,會(huì)造成較大的資源浪費(fèi),,因此企業(yè)通常將剝離廢液中的光刻膠樹(shù)脂進(jìn)行有效回收并應(yīng)用于再生產(chǎn)中。江蘇市面上哪家剝離液批量定制