本發(fā)明涉及一種用來在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法,。背景技術(shù):以往,,在蝕刻鈦時(shí)一直使用含有氫氟酸或過氧化氫的蝕刻液,。例如專利文獻(xiàn)1中提出了一種鈦的蝕刻液,,該鈦的蝕刻液是用來在銅或鋁的存在下蝕刻鈦,并且該蝕刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的過氧化氫,、%至5重量%的磷酸,、%至%的膦酸系化合物及氨所構(gòu)成的水溶液將pH值調(diào)整為7至9。但是,,含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問題,,含有過氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩(wěn)定性的問題。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特許第4471094號(hào)說明書,。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:發(fā)明所要解決的問題本發(fā)明是鑒于所述實(shí)際情況而成,其目的在于提供一種蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法,,所述蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦,,而且毒性低,保存穩(wěn)定性優(yōu)異,。解決問題的技術(shù)手段本發(fā)明的蝕刻液是為了在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦而使用,,并且含有:選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸,;以及選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機(jī)硫化合物,。所述硫酮系化合物推薦為選自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。BOE蝕刻液的溶液配比,。四川京東方用的蝕刻液蝕刻液價(jià)格
ITO蝕刻液的分類:已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型:酸性氯化銅,、堿性氯化銅、氯化鐵,、過硫酸銨,、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液,。酸性氯化銅,工藝體系,,根據(jù)添加不同的氧化劑又可細(xì)分為氯化銅+空氣體系,、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝,,在生產(chǎn)過程中通過補(bǔ)加鹽酸+空氣,、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來實(shí)現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn),。ITO蝕刻液由氟化銨、草酸,、硫酸鈉,、氫氟酸、硫酸,、硫酸銨,、甘油、水組成,。江蘇TIO去膜液生產(chǎn)商ITO顯影劑就是一種納米導(dǎo)光性能的材料合成的。揚(yáng)州格林達(dá)蝕刻液銷售廠使用蝕刻液,,輕松打造高精度蝕刻作品,,展現(xiàn)精湛工藝。
銅蝕刻液近期成為重要的微電子化學(xué)品產(chǎn)品,,廣泛應(yīng)用于平板顯示,、LED制造及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。隨著新技術(shù)的不斷進(jìn)步,,對(duì)該蝕刻液也有了更高的要求。并且之前市場(chǎng)上的銅蝕刻液成分普遍存在含氟,、硝酸或高濃度雙氧水的情況,。在此基礎(chǔ)上我司自主進(jìn)行了無氟,,無硝酸,低雙氧水濃度銅蝕刻液的研發(fā),,并可兼容于不同CuMo鍍膜厚度之工藝,。產(chǎn)品特點(diǎn):1.6%雙氧水濃度的銅蝕刻液lifetime可至7000ppm,。2.末期銅蝕刻液工藝溫度(32)下可穩(wěn)定72H,,常溫可穩(wěn)定120H,;無暴沸現(xiàn)象,。3.銅蝕刻液CD-Loss均一性良好,,taper符合制程要求。4.銅蝕刻液可兼容MoCu結(jié)構(gòu)不同膜厚度的機(jī)種,。
如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter,mm),。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中宣泄孔具有一***壁面,,以及一第二壁面,且第二擋板具有一下表面,,當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí),,***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí),,宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí),,宣泄孔的上孔徑小于下孔徑,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí),,宣泄孔由第二擋板的下表面朝向上表面的方向漸縮,。此外,,為了達(dá)到上述的實(shí)施目的,本實(shí)用新型另提出一種蝕刻設(shè)備,,設(shè)置于一濕式蝕刻機(jī)的一槽體內(nèi),,蝕刻設(shè)備至少包括有一如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)、一基板,、一輸送裝置,,以及一風(fēng)刀裝置;基板設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)的下方,;輸送裝置設(shè)置于基板的下方,,輸送裝置包括有至少一滾輪,其中滾輪與基板接觸以運(yùn)行基板,;風(fēng)刀裝置設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)的一端部,,風(fēng)刀裝置包括有一設(shè)置于基板上方的***風(fēng)刀,。天馬微電子用哪家蝕刻液更多,?
故仍舊會(huì)有少量的藥液51噴灑在擋液板結(jié)構(gòu)10上而留下該藥液51的水滴,,而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上,以避免基板20的蝕刻不均的現(xiàn)象產(chǎn)生,;此外,,該輸送裝置30用以承載并運(yùn)送至少一該基板20于該濕式蝕刻機(jī)內(nèi)運(yùn)行,并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運(yùn)作,,故該輸送裝置30具有一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以驅(qū)動(dòng)該滾輪31轉(zhuǎn)動(dòng),,以帶動(dòng)該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動(dòng)。步驟三s3:使用一設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10下方的風(fēng)刀裝置40對(duì)該基板20吹出一氣體43,,以使該基板20干燥;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中,,該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,,該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41,以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42,,其中該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42分別吹出一氣體43至該基板20,,以將該基板20上的該藥液51帶往與相反于該基板20的行進(jìn)方向,以使該基板20降低該藥液51殘留,,其中該氣體43遠(yuǎn)離該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3,,且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。步驟四s4:該氣體43經(jīng)由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121宣泄,;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中,。哪家的蝕刻液蝕刻效果好?綿陽江化微的蝕刻液蝕刻液主要作用
剝離液是用于光刻膠剝離用的化學(xué)品,。四川京東方用的蝕刻液蝕刻液價(jià)格
通過滑動(dòng)蓋24上的凸塊在過濾部件9內(nèi)部頂端內(nèi)壁的滑槽進(jìn)行滑動(dòng),,將過濾板26插入過濾部件9內(nèi)部?jī)蓚?cè)的固定槽內(nèi),收縮彈簧管25設(shè)置有四處,,分別設(shè)置在兩滑動(dòng)蓋24的內(nèi)側(cè)前面和后面,再通過收縮彈簧管25的彈力將滑動(dòng)蓋24向內(nèi)活動(dòng),,使過濾部件9內(nèi)部空間進(jìn)行密封,,有效的提高了裝置連接安裝的便利性。推薦的,,連接構(gòu)件11設(shè)置有十四個(gè),,連接構(gòu)件11設(shè)置在攪拌倉23的底部,連接構(gòu)件11與攪拌倉23固定連接,,連接構(gòu)件11能將裝置主體1內(nèi)部的兩個(gè)構(gòu)件進(jìn)行連接并固定,,且在將兩構(gòu)件進(jìn)行連接或拆卸的時(shí)候,不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作,,在將兩構(gòu)件的連接管放在連接構(gòu)件11的兩端,再通過連接管與連接構(gòu)件11內(nèi)側(cè)兩端的螺紋管27進(jìn)行連接,,通過轉(zhuǎn)動(dòng)連接構(gòu)件11的兩側(cè)部位,,同時(shí)使連接管與連接構(gòu)件11的中間位置固定住,通過活動(dòng)軸28的作用,,使連接管通過連接有的螺紋向內(nèi)來連接,,使連接管將密封軟膠層29進(jìn)行擠壓,使兩構(gòu)件的連接管進(jìn)行密封連接,,有效的提高了裝置連接的實(shí)用性。工作原理:首先檢查連接構(gòu)件11的完整性,,連接構(gòu)件11的兩側(cè)嵌入連接有海綿層12,,在使用裝置制備蝕刻液的時(shí)候,需要通過連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部的部件進(jìn)行連接,,在旋轉(zhuǎn)連接構(gòu)件11的兩側(cè)時(shí),。四川京東方用的蝕刻液蝕刻液價(jià)格