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佛山ITO蝕刻液蝕刻液產(chǎn)品介紹

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-09

    推薦的,所述制備裝置主體的兩端緊密貼合有防燙隔膜,。推薦的,,所述高效攪拌裝置是由內(nèi)部頂部中間部位的旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤,內(nèi)部頂部兩側(cè)的震蕩彈簧件,,震蕩彈簧件頂端的運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組,運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組頂端的控制面板,內(nèi)部中間部位的致密防腐桿和致密防腐桿內(nèi)部內(nèi)側(cè)的攪動孔共同組合而成,。推薦的,所述注入量精確調(diào)配裝置是由鹽酸裝罐內(nèi)部一側(cè)的嵌入引流口,,嵌入引流口一端的負(fù)壓引流器,,負(fù)壓引流器一端的注入量控制容器,注入量控制容器內(nèi)部內(nèi)側(cè)的注入量觀察刻度線和注入量控制容器一側(cè)的限流銷共同組合而成,。與現(xiàn)有技術(shù)相比,,本種實(shí)用新型的有益效果是:1.通過設(shè)置高效攪拌裝置,該裝置通過運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組驅(qū)動旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤,,使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤帶動高效攪拌裝置進(jìn)行旋轉(zhuǎn)搖勻,,高效攪拌裝置內(nèi)部的蝕刻液通過內(nèi)置的致密防腐桿,致密防腐桿內(nèi)部的攪動孔能夠使蝕刻液不斷細(xì)化均勻化,,從而很好的防止了蝕刻液的腐蝕,,且成本低廉,攪拌均勻效果較好,。2.通過設(shè)置高效攪拌裝置,,通過設(shè)置注入量精確調(diào)配裝置,工作人員通過負(fù)壓引流器將鹽酸硝酸引向注入量控制容器內(nèi),,通過觀察注入量控制容器內(nèi)的注入量觀察刻度線對注入量進(jìn)行精確控制,,當(dāng)?shù)竭_(dá)設(shè)定的注入量時(shí)將限流銷插入進(jìn)行限流即可。如何選擇一家好的做蝕刻液的公司,。佛山ITO蝕刻液蝕刻液產(chǎn)品介紹

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    內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部,,工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對內(nèi)部的制備狀況進(jìn)行實(shí)時(shí)查看,從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實(shí)時(shí)性,。推薦的,,鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9,在進(jìn)行制備時(shí)需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進(jìn)行均勻調(diào)和,,由于熱水與鹽酸接觸會產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),,濺出容易傷害工作人員,通過設(shè)置熱水流入漏斗9,,工作人員可沿著熱水流入漏斗9將熱水緩緩倒入鹽酸內(nèi),,從而很好的減小了發(fā)生反應(yīng)的劇烈程度,很好的起到了保護(hù)作用,。推薦的,,裝置底座5的內(nèi)部兩側(cè)緊密焊接有加固支架10,,由于制備裝置為一體化裝置,承載設(shè)備較多,,質(zhì)量較重,,對底座會產(chǎn)生較大的壓力,通過設(shè)置加固支架10,,加固支架10為連接在兩側(cè)底座支柱的三角結(jié)構(gòu),,利用三角結(jié)構(gòu)穩(wěn)定原理對裝置底座5起到了很好的加固效果。推薦的,,制備裝置主體1的兩端緊密貼合有防燙隔膜11,,由于制備裝置在進(jìn)行制備時(shí)會發(fā)***熱反應(yīng),使得裝置外殼穩(wěn)定較高,,工作人員直接接觸有燙傷風(fēng)險(xiǎn),,通過設(shè)置防燙隔膜11,防燙隔膜11為很好的隔熱塑膠材料,,能夠很好的防止工作人員被燙傷,,很好的體現(xiàn)了該裝置的防燙性。推薦的,,高效攪拌裝置2是由內(nèi)部頂部中間部位的旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12,。安慶京東方用的蝕刻液蝕刻液費(fèi)用蝕刻液適用于哪些行業(yè)。

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    提高反應(yīng)體系的穩(wěn)定性,。當(dāng)體系中加入過氧化氫后有助于提高過氧化氫的穩(wěn)定性,,避免由于過氧化氫分解而引發(fā)的,提高生產(chǎn)的安全性,。具體實(shí)施方式下面結(jié)合實(shí)施例,,對本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案,,而不能以此來限制本發(fā)明的保護(hù)范圍,。一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進(jìn)行低溫處理,,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;純水罐中設(shè)有通過電路控制的電磁閥,,當(dāng)純水溫度高于10℃時(shí),,電磁閥無法打開。第二步:配制和準(zhǔn)備原料,,將亞氨基二乙酸,、氫氟酸和乙醇酸分別投入對應(yīng)的原料罐中,經(jīng)過過濾器循環(huán)過濾,,備用,;將hno3,、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應(yīng)的原料罐,,備用,。亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸需要稀釋后使用,,hno3,、四甲基氫氧化銨、h2o2無需調(diào)配可直接用于制備蝕刻液,。第三步:根據(jù)混酸配制表算出各個(gè)原料的添加量,,按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐,將上述混料充分?jǐn)嚢?,攪拌時(shí)間為3~5h,。第四步:在第三步的混料中再添加h2o2,繼續(xù)攪拌混勻,,攪拌時(shí)間為3~5h,,用磁力泵將混合液通過過濾器循環(huán)過濾。

    因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時(shí)會過度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問題,。美國公開**第2號公開了在3dnand閃存的制造工序中,,對于硅氧化物膜和硅氮化物膜*選擇性蝕刻硅氮化物膜的蝕刻液組合物。然而,,為了選擇構(gòu)成成分的種類和濃度,,不得不需要測試蝕刻液組合物的蝕刻性能,實(shí)際情況是,,與上述同樣,,仍然沒有解決在找尋蝕刻液組合物的適宜組成方面過度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問題。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)**文獻(xiàn)**文獻(xiàn)1:美國公開**第2號技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:所要解決的課題本發(fā)明是為了改善上述以往技術(shù)問題的發(fā)明,,其目的在于,,提供用于選擇硅烷系偶聯(lián)劑的參數(shù)以及包含由此獲得的硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻液組合物,所述硅烷系偶聯(lián)劑作為添加劑即使不進(jìn)行另外的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)也具有在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力,。此外,,本發(fā)明的目的在于,提供一種以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中能夠*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征的蝕刻液組合物,。此外,,本發(fā)明的目的在于,提供利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法,。此外,,本發(fā)明的目的在于,提供選擇上述蝕刻液組合物所包含的硅烷系偶聯(lián)劑的方法,。解決課題的方法為了實(shí)現(xiàn)上述目的,,本發(fā)明提供一種蝕刻液組合物,,其特征在于,包含磷酸,、硅烷,。使用蝕刻液,輕松打造高精度蝕刻作品,,展現(xiàn)精湛工藝,。

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    etchingamount)的相互關(guān)系的圖表。具體實(shí)施方式本發(fā)明人確認(rèn)了用于氮化物膜去除工序用蝕刻液組合物的具有防蝕能力的添加劑在滿足特定參數(shù)值時(shí)能夠使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜且不損傷氧化物膜的效果極大化,,從而完成了本發(fā)明,。本發(fā)明包括選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*將氮化物膜選擇性去除的能力優(yōu)異的添加劑的方法、由此選擇的添加劑,、包含上述添加劑的蝕刻液組合物以及利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法,。本發(fā)明中,蝕刻對象膜可以為氮化物膜,,保護(hù)對象膜可以為氧化物膜,。此外,本發(fā)明的上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑,。<蝕刻液組合物>具體而言,,本發(fā)明可以包含磷酸、添加劑和水,,上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑,。本發(fā)明的上述添加劑的特征在于,使上述添加劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以(參照以下數(shù)學(xué)式)滿足,。本發(fā)明中,,各添加劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量和添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量的例子示于表3中。此外,,由此計(jì)算的各添加劑的aeff值和與此有關(guān)的蝕刻程度的例示示于表2中,。參照上述結(jié)果,可以確認(rèn)到上述添加劑的aeff值推薦滿足,。蝕刻不同金屬用到的蝕刻液一樣嗎,?蘇州蝕刻液按需定制

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    從蝕刻速度及安全性的觀點(diǎn)來看,,推薦為40℃至70℃,,更推薦為45℃至55℃,。處理時(shí)間視對象物的表面狀態(tài)及形狀等而變化,,通常為30秒至120秒左右。實(shí)施例然后,,對本發(fā)明的實(shí)施例與比較例一起進(jìn)行說明,。此外,,本發(fā)明并非限定于下述實(shí)施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液,,在下述條件下進(jìn)行蝕刻試驗(yàn)及蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn),。此外,表1及表2所示的組成的各蝕刻液中,,剩余部分為離子交換水,。另外,表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計(jì)的濃度,。(蝕刻試驗(yàn))通過濺鍍法在樹脂上形成50nm的鈦膜,,然后成膜200nm的銅膜,進(jìn)而通過電鍍銅在該銅膜上形成圖案,,將所得的基板用作試樣,。使用銅的蝕刻液,將試樣的濺鍍銅膜溶解而使鈦膜露出,。然后,,將試樣浸漬在實(shí)施例1至實(shí)施例12及比較例1至比較例3的蝕刻液中進(jìn)行蝕刻實(shí)驗(yàn)。將實(shí)驗(yàn)結(jié)果示于表1,。[表1]像表1所示那樣,,本發(fā)明的蝕刻液可在不蝕刻銅的情況下選擇性地蝕刻鈦。(蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn))將實(shí)施例1,、實(shí)施例7,、實(shí)施例12及比較例4的蝕刻液在室溫下放置2天后,進(jìn)行所述蝕刻試驗(yàn),,比較放置前后的蝕刻速度,。將比較結(jié)果示于表2。[表2]像表2所示那樣,,本發(fā)明的蝕刻液的保存穩(wěn)定性優(yōu)異,,即便在長期保存的情況下也可穩(wěn)定地選擇性地蝕刻鈦。佛山ITO蝕刻液蝕刻液產(chǎn)品介紹