此處所描述的具體實施例用以解釋本實用新型,,并不用于限定本實用新型。參照圖1,,本實用新型實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)包括:電解槽1,、射流器2,、再生液調(diào)配缸3、液體泵4,,其中,,電解槽1具有一出液口和出氣口,且電解槽1中內(nèi)置有酸性蝕刻液,,電解槽1對該酸性蝕刻液進行電解提銅,,產(chǎn)生氯氣,得到電解后液,,并且,,產(chǎn)生的氯氣通過位于上方的出氣口排出,,電解后液通過位于下方的出液口排出。射流器2包括混氣室21和擴散管22,,混氣室21和擴散管22之間為喉管,,混氣室21具有進氣口2a、進液口2b,、出液口2c,擴散管22連接至出液口2c,,進氣口2a通過導氣管a與電解槽1的出氣口連接以接收氯氣,,擴散管22深入到再生液調(diào)配缸3中。再生液調(diào)配缸3具有進液口和循環(huán)出液口,,進液口通過管道b與電解槽1的出液口連接以接收電解后液,。液體泵4的一端通過管道b連接再生液調(diào)配缸3的循環(huán)出液口,另一端通過管道b連接射流器2的進液口2b,,用于將再生液調(diào)配缸3中的電解后液通過管道b抽取至射流器2的進液口2b,。電解槽1電解提銅后,陽極產(chǎn)生的氯氣通過導氣管a進入到射流裝置2的混氣室21內(nèi),,電解后液通過液體泵4打入到射流裝置2的混氣室21,,在混氣室21形成真空,在喉管處氯氣與電解后液劇烈混合,。如何挑選一款適合公司的BOE蝕刻液,?上海什么是BOE蝕刻液銷售公司
sedispondrándispositivosdecorteporintensidaddedefecto,medianteinterruptoresdiferenciales,consensibilidadmáóncontraelectricidadestática,deberárealizarseunauniónequipotencialdemasas,ánestarconectadasaestared,tanquesdealmacenamiento,tuberías,estructurasmetálicas,aparatossurtidores,asícomolosconductoresdeproteccióndelosaparatoseléé)Cuadrogeneraleléctrico:ElgradodeprotecciónmínimoserádeIP237,segú)únelReglamentoElectrotécnicodeBajaTensióneICcorrespondientes,laaparamentaaincluirenelcuadroconstará:1.oInterruptorautomá.oInterruptoresautomáticos(PIA)paraproteccióndelí.oInterruptoresdiferencialesparalaproteccióóánunsistemadepuestaatierradelascisternasdeloscamiones,paradescargarlaelectricidadestáácompuestocomosigue:Uncableconectadoporunextremoalareddepuestaatierra,elotroextremoprovistodeunapinzaseconectaráaunterminalsituadoenelvehículoeníáextraflexibleconaislamiento。福建專業(yè)BOE蝕刻液供應商BOE蝕刻液,,專業(yè)配方,,穩(wěn)定可靠,值得信賴,。
其擴散管深入到所述再生液調(diào)配缸中,;液體泵,其一端通過管道連接所述再生液調(diào)配缸的循環(huán)出液口,,另一端通過管道連接所述射流器的進液口,,用于將所述再生液調(diào)配缸中的電解后液通過所述管道抽取至所述射流器的進液口。進一步地,,所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括:曝氣裝置,,用于向所述再生液調(diào)配缸中的電解后液輸送氣體以進行攪拌。進一步地,,所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括:后續(xù)處理系統(tǒng),,用于向經(jīng)過所述再生液調(diào)配缸處理過的電解后液中加入氯化鈉、鹽酸并攪拌均勻,。更進一步地,,所述電解槽的陽極為石墨電極,,陰極為鈦或鈦合金板狀電極。更進一步地,,所述電解槽中陰極與陽極之間的距離為55mm,。更進一步地,所述電解槽的電流密度為300a/m2,。本實用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)通過簡單的結構實現(xiàn)了電解后廢液的再生利用,,可節(jié)約能耗和藥品,提高經(jīng)濟效益,。附圖說明圖1是本實用新型實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結構圖,;圖2是本實用新型第二實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結構圖。具體實施方式為了使本實用新型的目的,、技術方案及優(yōu)點更加清楚明白,,以下結合附圖及實施例,對本實用新型進行進一步詳細說明,。應當理解,。
óíasdeplásticoflexiblenorequerirándeunrecubrimientoadicionaldebarreraanticorrosivaoprotecciones,íasdeplásticoflexibleesnecesarioquecumplanlossiguientesrequisitos:a)Resistenciaquímicainternayexternaaproductospetrolíferos,)ResistenciamecánicaalapresióíáóneléóndeáóndeáreasserárealizadasegúnelprocedimientoindicadoenelReglamentoElectrotécnicodeBajaTensióárealizarunplano,enelquedeformaclarasedefinalaclasificacióncompletadecadaemplazamiento,asícomolosdetallestípicosdeclasificacióndecadaelementodelainstalaciónque,durantesufuncionamientonormalpuedadarlugaraunazonaclasificada,debiendoademásaparecerenestedocumentolasinformacionessiguientes:a)áó)Cadaunadelaszonasysuextensióóndecadazonaserealizarámedianteelanálisisdelosfactoressiguientes:)Determinacióndelacantidadmíóónsedeterminasiloselementosdelainstalacióncontienencantidadessuperioresalosvolúmenesmínimosespecificados。什么制程中需要使用BOE蝕刻液,。
35kilogramos/centímetrocuadrado).IgualmenteserealizaráunapruebademedicióndieléáncertificadasporunOrganismodecontrolcompetentedebidamenteacreditado..DepósitodepláóónTécnicaComplementariaseentiendepordepósitosdeplásticoreforzadoaquellosdepósitoscilíndricos,deejecuciónhorizontalenplásticoreforzado,destinadosalalmacenamientodeproductospetrolíferos(incluidosproductosoxigenados),atemperaturaypresiónatmosférica,conunacapacidadigualosuperiora1,5metroscúíndricodeseccióóndelosdepósitosseemplearánresinassintéticasdepoliésteresinsaturadosuotrostiposderesinasconcaracterísticasanálogassegúáfibradevidrioocualquierotromaterialconresistenciaequivalente,queseincorporaalaresinaparamejorarsuscaracteríóósitosnodeberásersuperioraun3por100delacapacidadnominal,ó)Fondos:Losfondosseejecutaránporprocedimientomanual,moldeoporproyección,moldeoporinyección,。蘇州博洋化學股份專業(yè)生產(chǎn)BOE蝕刻液。福建如何分類BOE蝕刻液銷售廠
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本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,來改善磷酸的浸潤性和表面張力,,使之均勻蝕刻氮化硅,。背景技術:氮化硅是一種具有很高的化學穩(wěn)定性的絕緣材料,氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕,。在半導體制造工藝中,,一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻,一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅,。但隨著半導體制程的飛速發(fā)展,,器件的特征尺寸越來越小,集成度越來越高,,對制造工藝中的各工藝節(jié)點要求也越來越高,,如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留,、下層薄膜的選擇性等都有要求,。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時,晶圓表面會出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象,,體現(xiàn)于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時,,檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異,。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻,。技術實現(xiàn)要素:本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液,。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,所述蝕刻液的組成包括:占蝕刻液總重量≥88%的磷酸,、%的醇醚類,、%的表面活性劑。進一步地,,本發(fā)明涉及上述蝕刻液,。上海什么是BOE蝕刻液銷售公司