某生物力學(xué)實(shí)驗(yàn)室通過 Polos 光刻機(jī),，在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細(xì)胞力傳感器。其多材料曝光技術(shù)在 20μm 的懸臂梁上同時(shí)制備金屬電極與硅基壓阻元件,，傳感器的力分辨率達(dá) 5pN,，位移檢測精度達(dá) 1nm。在心肌細(xì)胞收縮力檢測中,，該集成傳感器實(shí)現(xiàn)了力 - 電信號的同步采集,，發(fā)現(xiàn)收縮力峰值與動(dòng)作電位時(shí)程的相關(guān)性達(dá) 0.92，為心臟電機(jī)械耦合機(jī)制研究提供了全新工具,，相關(guān)論文發(fā)表于《Biophysical Journal》,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。柔性電子制造：可制備叉指電容器與高頻電路,，推動(dòng)5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展。河南光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

植入式神經(jīng)電極需要兼具生物相容性與導(dǎo)電性能,，表面微圖案可remarkable影響細(xì)胞 - 電極界面,。Polos 光刻機(jī)在鉑銥合金電極表面刻制出 10μm 間距的蜂窩狀微孔，某神經(jīng)工程團(tuán)隊(duì)發(fā)現(xiàn)該結(jié)構(gòu)使神經(jīng)元突觸密度提升 20%,，信號采集噪聲降低 35%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同腦區(qū)結(jié)構(gòu)定制電極陣列，在大鼠海馬區(qū)電生理實(shí)驗(yàn)中,，單神經(jīng)元信號識別率從 60% 提升至 85%,，為腦機(jī)接口技術(shù)的臨床轉(zhuǎn)化奠定了硬件基礎(chǔ)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。河南光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米納 / 微機(jī)械：亞微米級結(jié)構(gòu)加工,，微型齒輪精度達(dá) ±50nm,，推動(dòng)微機(jī)電系統(tǒng)創(chuàng)新。

在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時(shí),，Polos 光刻機(jī)的亞微米級定位精度（±50nm）確保了圖案的均勻復(fù)制,。某光電實(shí)驗(yàn)室使用該設(shè)備，在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列,，模板的圖案保真度達(dá) 99.8%,，邊緣缺陷率低于 0.1%�,；�于此模板生產(chǎn)的柔性 OLED 背光模組，亮度均勻性提升至 98%，厚度減至 50μm,，成功應(yīng)用于下一代折疊屏手機(jī),，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給三家面板制造商。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。

德國Polos-BESM系列光刻機(jī)采用無掩模激光直寫技術(shù),，突破傳統(tǒng)光刻對物理掩膜的依賴,，支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進(jìn)行快速曝光。其亞微米分辨率（most小線寬0.8 m）和405 nm紫外光源,，可在5英寸晶圓上實(shí)現(xiàn)高精度微納結(jié)構(gòu)加工18,。系統(tǒng)體積緊湊，only占桌面空間,，搭配閉環(huán)自動(dòng)對焦（1秒完成）和半自動(dòng)多層對準(zhǔn)功能,，大幅提升實(shí)驗(yàn)室原型開發(fā)效率，適用于微流體芯片設(shè)計(jì),、電子元件制造等領(lǐng)域,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。POLOS 光刻機(jī)：微型化機(jī)身，納米級曝光精度,，微流體芯片制備周期縮短 40%,。

德國 Polos 光刻機(jī)系列是電子學(xué)領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備。其無掩模激光光刻技術(shù),，讓電路圖案曝光不再受限于掩模,，能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制,。在芯片研發(fā)過程中，Polos 光刻機(jī)可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu),，為芯片性能提升奠定基礎(chǔ),。 科研團(tuán)隊(duì)使用 Polos 光刻機(jī)，成功開發(fā)出更高效的集成電路,，降低芯片能耗,，提高運(yùn)算速度。而且,，該光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案,，滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計(jì)需求。無論是新型傳感器的電路制作,，還是微型處理器的研發(fā),，Polos 光刻機(jī)都能以高精度、低成本的優(yōu)勢,，為電子學(xué)領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力保障,，推動(dòng)電子技術(shù)不斷創(chuàng)新。無掩模技術(shù)優(yōu)勢：摒棄傳統(tǒng)掩模,，圖案設(shè)計(jì)實(shí)時(shí)調(diào)整,，研發(fā)成本直降 70%。廣東桌面無掩模光刻機(jī)分辨率1.5微米

圖案靈活性：支持 STL 模型直接導(dǎo)入,，30 分鐘完成從設(shè)計(jì)到曝光全流程,。河南光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

在tumor轉(zhuǎn)移機(jī)制研究中，某tumor研究中心利用 Polos 光刻機(jī)構(gòu)建了仿生tumor微環(huán)境芯片,。通過無掩模激光光刻技術(shù),，在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網(wǎng)絡(luò)與間質(zhì)纖維化結(jié)構(gòu)，其中血管直徑可精確控制在 10-50μm,。實(shí)驗(yàn)顯示,，該芯片模擬的tumor微環(huán)境中，tumor細(xì)胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,，且化療藥物滲透效率降低 40%,，與臨床數(shù)據(jù)高度吻合。該團(tuán)隊(duì)通過軟件實(shí)時(shí)調(diào)整通道曲率和細(xì)胞外基質(zhì)密度,，成功復(fù)現(xiàn)了tumor細(xì)胞上皮 - 間質(zhì)轉(zhuǎn)化（EMT）過程,，相關(guān)成果發(fā)表于《Cancer Research》，并被用于新型抗轉(zhuǎn)移藥物的篩選平臺開發(fā),。河南光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米