低成本桌面化光刻：SPS POLOS 的科研普惠,！Polos系列在微流體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型,。例如，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細(xì)胞浸潤行為,，為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn),，推動醫(yī)療診斷芯片研發(fā),，如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。無掩模激光直寫技術(shù)：無需物理掩膜，軟件直接輸入任意圖案,，降低成本與時(shí)間,。安徽德國POLOS光刻機(jī)光源波長405微米

Polos光刻機(jī)在微機(jī)械加工中表現(xiàn)outstanding。其亞微米分辨率可制造80 m直徑的開環(huán)諧振器和2 m叉指電極,，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe系統(tǒng)），用戶還能擴(kuò)展至3D微納結(jié)構(gòu)打印,，為微型機(jī)器人及光學(xué)元件提供多尺度制造方案。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。四川PSP光刻機(jī)光源波長405微米實(shí)時(shí)觀測系統(tǒng)：120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡,，實(shí)現(xiàn)加工過程動態(tài)監(jiān)控,。

德國 Polos 光刻機(jī)系列是電子學(xué)領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備。其無掩模激光光刻技術(shù),，讓電路圖案曝光不再受限于掩模,，能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制。在芯片研發(fā)過程中,，Polos 光刻機(jī)可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu),，為芯片性能提升奠定基礎(chǔ)。 科研團(tuán)隊(duì)使用 Polos 光刻機(jī),，成功開發(fā)出更高效的集成電路,，降低芯片能耗，提高運(yùn)算速度,。而且,，該光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案，滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計(jì)需求,。無論是新型傳感器的電路制作,，還是微型處理器的研發(fā),，Polos 光刻機(jī)都能以高精度、低成本的優(yōu)勢,，為電子學(xué)領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力保障,，推動電子技術(shù)不斷創(chuàng)新。

某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了基于阻變存儲器（RRAM）的存算一體架構(gòu),。其激光直寫技術(shù)在 10nm 厚度的 HfO介質(zhì)層上實(shí)現(xiàn)了 5nm 的電極邊緣控制,，器件的電導(dǎo)均勻性提升至 95%，計(jì)算能效比達(dá) 10TOPS/W,，較傳統(tǒng) GPU 提升兩個(gè)數(shù)量級,。基于該技術(shù)的邊緣 AI 芯片,，在圖像識別任務(wù)中能耗降低 80%,，推理速度提升 3 倍，已應(yīng)用于智能攝像頭和無人機(jī)避障系統(tǒng),，相關(guān)芯片出貨量突破百萬片,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。POLOS 光刻機(jī)：桌面級設(shè)計(jì)，2-23μm 可調(diào)分辨率,，兼容 4 英寸晶圓,，微機(jī)電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm。

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性,。例如,，其軟件支持GDS文件直接導(dǎo)入，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程,。研究團(tuán)隊(duì)利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件,，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。微流體3D成型：復(fù)雜流道快速曝光，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā),。北京德國PSP-POLOS光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

環(huán)保低能耗設(shè)計(jì)：固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設(shè)備降低30%,，符合綠色實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)。安徽德國POLOS光刻機(jī)光源波長405微米

大尺寸晶圓的高效處理：Polos-BESM XL的優(yōu)勢,！Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計(jì),，寫入?yún)^(qū)域達(dá)155×155 mm，平臺重復(fù)性精度0.1 m,，滿足工業(yè)級需求,。搭配20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭，實(shí)時(shí)觀測與多層對準(zhǔn)功能使其成為光子晶體和柔性電子器件研究的理想工具,。其BEAM Xplorer軟件簡化復(fù)雜圖案設(shè)計(jì),，內(nèi)置高性能筆記本實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理62,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。安徽德國POLOS光刻機(jī)光源波長405微米