研發(fā)投入
擁有自己實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)團(tuán)隊(duì),，研發(fā)費(fèi)用占比超15%，聚焦EUV光刻膠前驅(qū)體,、低缺陷納米壓印膠等前沿領(lǐng)域,，與中山大學(xué)、華南理工大學(xué)建立產(chǎn)學(xué)研合作,。
專項(xiàng)布局：累計(jì)申請(qǐng)光刻膠相關(guān)的項(xiàng)目30余項(xiàng),，涵蓋樹脂合成、配方優(yōu)化,、涂布工藝等細(xì)致環(huán)節(jié),。
生產(chǎn)體系
全自動(dòng)化產(chǎn)線：采用德國(guó)曼茨（Manz）涂布設(shè)備、日本島津（Shimadzu）檢測(cè)儀器,，年產(chǎn)能超500噸（光刻膠）,，支持小批量定制（小訂單100g）和大規(guī)模量產(chǎn),。
潔凈環(huán)境：生產(chǎn)車間達(dá)萬級(jí)潔凈標(biāo)準(zhǔn)（ISO 8級(jí)），避免顆粒污染,，確保光刻膠缺陷密度<5個(gè)/cm,。
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正性光刻膠
YK-300：適用于半導(dǎo)體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）,、耐高溫（250℃）,、耐酸堿腐蝕特性，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造,，適配UV光源（365nm/405nm）,。
技術(shù)優(yōu)勢(shì)：采用進(jìn)口樹脂及光引發(fā)劑，絕緣阻抗高（>10^14Ω）,，滿足半導(dǎo)體器件對(duì)絕緣性的嚴(yán)苛要求,。
負(fù)性光刻膠
JT-1000：負(fù)性膠，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能,，分辨率達(dá)3μm,，適用于功率半導(dǎo)體、MEMS器件制造,，可承受氫氟酸（HF）,、磷酸（H3PO4）等強(qiáng)腐蝕液處理。
SU-3：經(jīng)濟(jì)型負(fù)性膠,，性價(jià)比高,，適用于分立器件及低端邏輯芯片，光源適應(yīng)性廣（248nm-436nm）,，曝光靈敏度≤200mJ/cm,。
2. 顯示面板光刻膠
LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設(shè)計(jì)，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）,、良好的基板附著力,，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造，支持8.5代線以上大規(guī)模生產(chǎn),。
水性感光膠JT-1200：環(huán)保型產(chǎn)品,，VOC含量<50g/L，符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn),，適用于柔性顯示基板,，可制作20μm以下精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)，主要供應(yīng)京東方,、TCL等面板廠商,。
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板、負(fù)性,、正性,、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。
UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào),，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C,，長(zhǎng)期可靠性高,，粘接強(qiáng)度高，重量 100g,。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,，如半導(dǎo)體器件制造。
其他光刻膠
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水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠,，具有工廠研發(fā),、可定制、使用,、品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點(diǎn)，重量 1L,。
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水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠,，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢(shì),，應(yīng)用場(chǎng)景,。
LCD顯示
彩色濾光片（CF）：
黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm,，透光率<0.1%,。
RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍(lán)像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性,。
陣列基板（Array）：
柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化,，分辨率≤3μm。
OLED顯示（柔性/剛性）
像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu),，線寬精度±1μm,，需耐溶劑侵蝕（適應(yīng)蒸鍍工藝）。
觸控電極（如ITO/PET）：通過光刻膠圖形化實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電線路,，線寬≤5μm,。
Mini/Micro LED
巨量轉(zhuǎn)移前的芯片制備：使用高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）定義微米級(jí)LED陣列,，良率要求>99.99%。
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吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造,、顯示面板、PCB 及微納加工等領(lǐng)域,，通過差異化技術(shù)（如納米壓印,、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方），滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域（如第三代半導(dǎo)體,、Mini LED）的多樣化需求,。其產(chǎn)品不僅支持高精度,、高可靠性的制造工藝,，還通過材料創(chuàng)新推動(dòng)行業(yè)向綠色化、低成本化方向發(fā)展,。吉田半導(dǎo)體光刻膠的優(yōu)勢(shì)在于技術(shù)全面性,、環(huán)保創(chuàng)新、質(zhì)量穩(wěn)定性及本土化服務(wù),，尤其在納米壓印,、厚膜工藝及水性膠領(lǐng)域形成差異化競(jìng)爭(zhēng)力。
光刻膠生產(chǎn)工藝流程與應(yīng)用,。河北激光光刻膠多少錢
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定義與特性
負(fù)性光刻膠是一種在曝光后，未曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,，形成與掩膜版（Mask）圖案相反的圖形,。與正性光刻膠相比，其主要特點(diǎn)是耐蝕刻性強(qiáng),、工藝簡(jiǎn)單,、成本低，但分辨率較低（通�,！�1μm）,，主要應(yīng)用于對(duì)精度要求相對(duì)較低、需要厚膠或高耐腐蝕性的場(chǎng)景,。
化學(xué)組成與工作原理
主要成分
基體樹脂：
早期以聚異戊二烯橡膠（天然或合成）為主,，目前常用環(huán)化橡膠（Cyclized Rubber）或聚乙烯醇肉桂酸酯，提供膠膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐蝕刻性,。
光敏劑：
主要為雙疊氮化合物（如雙疊氮芪）或重氮醌類衍生物,，占比約5%-10%，吸收紫外光后引發(fā)交聯(lián)反應(yīng),。
交聯(lián)劑：
如六亞甲基四胺（烏洛托品）,，在曝光后與樹脂發(fā)生交聯(lián),，形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
溶劑：
多為有機(jī)溶劑（如二甲苯,、環(huán)己酮）,，溶解樹脂和光敏劑，涂布后揮發(fā)形成均勻膠膜,。
工作原理
曝光前：光敏劑和交聯(lián)劑均勻分散在樹脂中,，膠膜可溶于顯影液（有機(jī)溶劑）。
曝光時(shí)：
光敏劑吸收紫外光（G線436nm為主）后產(chǎn)生活性自由基,，引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂分子間的共價(jià)鍵交聯(lián),，使曝光區(qū)域形成不溶于顯影液的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
顯影后：
未曝光區(qū)域的樹脂因未交聯(lián),，被顯影液溶解去除,，曝光區(qū)域保留，形成負(fù)性圖案（與掩膜版相反）,。
湖北負(fù)性光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家
