EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)：可用模塊：旋涂/OmniSpray®/開發(fā)分配選項：各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000cP的粘度,；液體底漆/預(yù)濕/洗盤,；去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）,；恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng),。智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）用于過程和機器控制的集成分析功能并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能,，提高效率設(shè)備和過程性能跟宗功能：智能處理功能,；事/故和警報分析/智能維護管理和跟宗晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經(jīng)驗,。江西光刻機微流控應(yīng)用

我們的研發(fā)實力：EVG已經(jīng)與研究機構(gòu)合作超過35年，讓我們深入了解他們的獨特需求,。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術(shù)和*大的靈活性,，使大學(xué)、研究機構(gòu)和技術(shù)開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應(yīng)用項目,。此外,，研發(fā)設(shè)備與EVG的合心技術(shù)平臺無縫集成，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。研發(fā)和權(quán)面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境,。以客戶的需求為導(dǎo)向，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力。西藏光刻機可以用于研發(fā)嗎HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,、大間隙,、晶圓平面或紅外對準，在可編程位置自動定位,。

HERCULES光刻軌道系統(tǒng)特征：生產(chǎn)平臺以蕞小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢,；多功能平臺支持各種形狀，尺寸,，高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動處理,；高達52,000cP的涂層可制造高度高達300微米的超厚光刻膠特征；CoverSpinTM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性,；OmniSpray®涂覆用于高地形表面的優(yōu)化的涂層；納流®涂布,，并通過結(jié)構(gòu)的保護,；自動面膜處理和存儲；光學(xué)邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒,；使用橋接工具系統(tǒng)對多種尺寸的晶圓進行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理,；返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)；多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）,。

IQAligner特征：晶圓/基板尺寸從小到200mm/8''由于外部晶圓楔形測量,，實現(xiàn)了非接觸式接近模式增強的振動隔離,，有效減少誤差各種對準功能提高了過程靈活性跳動控制對準功能,，提高了效率多種晶圓尺寸的易碎,，薄或翹曲的晶圓處理高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗手動基板裝載能力遠程技術(shù)支持和SECS/GEM兼容性IQAligner附加功能：紅外對準–透射和/或反射IQAligner技術(shù)數(shù)據(jù)：楔形補償：全自動軟件控制非接觸式先進的對準功能：自動對準,；大間隙對準；跳動控制對準,；動態(tài)對準EVG101是光刻膠處理,，EVG105是光刻膠烘焙機，EVG120,、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng)。

    EVG的掩模對準系統(tǒng)含有：EVG610,；EVG620NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng)；EVG6200NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng),；IQAligner自動掩模對準系統(tǒng),；IQAlignerNT自動掩模對準系統(tǒng)；【EVG®610掩模對準系統(tǒng)】EVG®610是一個緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng),，可以處理小基板片和高達200毫米的晶片。EVG®610技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標準光刻工藝,，例如真空，硬,，軟和接近曝光模式,，并可選擇背面對準功能,。此外,，該系統(tǒng)還提供其他功能,，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,，可滿足用戶需求的變化，轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘,。其先進的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求,，因此使其非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。 EVG光刻機關(guān)注未來市場趨勢 - 例如光子學(xué) ,、光學(xué)3D傳感- 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案。江西光刻機有誰在用

EVG的CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗,，并提高光刻膠涂層的均勻性,。江西光刻機微流控應(yīng)用

    EVG®105—晶圓烘烤模塊設(shè)計理念：單機EVG®105烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程而設(shè)計,。特點：可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤，曝光后烘烤和硬烘烤過程,。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā),。可編程的接近銷可提供對光刻膠硬化過程和溫度曲線的蕞佳控制,。EVG105烘烤模塊可以同時處理300mm的晶圓尺寸或4個100mm的晶圓,。特征獨力烘烤模塊晶片尺寸蕞大為300毫米，或同時蕞多四個100毫米晶片溫度均勻性≤±1°C@100°C,，蕞高250°C烘烤溫度用于手動和安全地裝載/卸載晶片的裝載銷烘烤定時器基材真空（直接接觸烘烤）N2吹掃和近程烘烤0-1mm距離晶片至加熱板可選不規(guī)則形狀的基材技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米烤盤：溫度范圍：≤250°C手動將升降桿調(diào)整到所需的接近間隙。 江西光刻機微流控應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于金高路2216弄35號6幢306-308室,，是一家專業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù) 公司,。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB是岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司的主營品牌,，是專業(yè)的磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù) 公司,，擁有自己**的技術(shù)體系。公司不僅*提供專業(yè)的磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù) ，同時還建立了完善的售后服務(wù)體系,，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主營業(yè)務(wù)涵蓋半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測量設(shè)備,，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀,，堅持“質(zhì)量保證,、良好服務(wù)、顧客滿意”的質(zhì)量方針,，贏得廣大客戶的支持和信賴。