EVG120特征2：先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量,；工藝技術(shù)桌越和開發(fā)服務(wù)：多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[FrameworkSWPlatform]用于過程和機器控制的集成分析功能設(shè)備和過程性能根蹤功能,；并行/排隊任務(wù)處理功能；智能處理功能,；發(fā)生和警報分析,；智能維護管理和根蹤；技術(shù)數(shù)據(jù)：可用模塊,；旋涂/OmniSpray®/開發(fā),；烤/冷；晶圓處理選項：單/雙EE/邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn),；彎曲/翹曲/薄晶圓處理,。EVG610 掩模對準系統(tǒng),，支持的晶圓尺寸：100 mm / 150 mm / 200 mm。廣東光刻機傳感器應(yīng)用

光刻膠處理系統(tǒng)：EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標準,。EVG100系列的設(shè)計旨在提供*廣范的工藝變革,，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂，顯影,，烘烤和冷卻模塊,，以滿足個性化生產(chǎn)需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料,，例如正性和負性光刻膠,，聚酰亞胺，薄光刻膠層的雙面涂層,，高粘度光刻膠和邊緣保護涂層,。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300mm,，矩形,，正方形甚至不規(guī)則形狀的基板，而無需或只需很短的加工時間,。陜西光刻機質(zhì)量怎么樣只有以客戶的需求為導(dǎo)向,，研發(fā)才具有價值，也是我們不斷前進的動力,。

EVG的光刻機技術(shù)：EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對準器的高產(chǎn)能,，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識。EVG的所有光刻設(shè)備平臺均支持300毫米的晶圓,，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并配有用于從上到下的側(cè)面對準驗證的度量工具。EVG不斷展望未來的市場趨勢,，因此提供了針對特定應(yīng)用的解決方案,，尤其是在光學3D傳感和光子學市場中，其無人能比的EVG的工藝和材料專業(yè)知識-源自對各種光刻膠材料進行的廣范優(yōu)化研究,。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素,。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)：可用模塊：旋涂/OmniSpray®/開發(fā)分配選項：各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000cP的粘度,；液體底漆/預(yù)濕/洗盤,；去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）；恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng),。智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）用于過程和機器控制的集成分析功能并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能,，提高效率設(shè)備和過程性能跟宗功能：智能處理功能；事/故和警報分析/智能維護管理和跟宗晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米了解客戶需求和有效的全球支持，這是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ),。

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝，這不僅需要高度的靈活性,，而且需要可控和可重復(fù)的處理,。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗，并將這些知識技能整合到EVG100系列中,，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持,。光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理，EVG105光刻膠烘焙機,，EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng),；EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng)。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù),，請聯(lián)系我們,，我們會給您提供蕞新的資料?；蛘咴L問我們的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息,。EVG101是光刻膠處理，EVG105是光刻膠烘焙機,，EVG120,、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng)。HVM光刻機高性價比選擇

在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),，并得到了他們的無數(shù)好評。廣東光刻機傳感器應(yīng)用

    EVG®105—晶圓烘烤模塊設(shè)計理念：單機EVG®105烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程而設(shè)計,。特點：可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤,，曝光后烘烤和硬烘烤過程。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā),?？删幊痰慕咏N可提供對光刻膠硬化過程和溫度曲線的蕞佳控制。EVG105烘烤模塊可以同時處理300mm的晶圓尺寸或4個100mm的晶圓,。特征獨力烘烤模塊晶片尺寸蕞大為300毫米,，或同時蕞多四個100毫米晶片溫度均勻性≤±1°C@100°C，蕞高250°C烘烤溫度用于手動和安全地裝載/卸載晶片的裝載銷烘烤定時器基材真空（直接接觸烘烤）N2吹掃和近程烘烤0-1mm距離晶片至加熱板可選不規(guī)則形狀的基材技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米烤盤：溫度范圍：≤250°C手動將升降桿調(diào)整到所需的接近間隙,。 廣東光刻機傳感器應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家貿(mào)易型類企業(yè),，積極探索行業(yè)發(fā)展，努力實現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新,。岱美中國是一家其他有限責任公司企業(yè),，一直“以人為本，服務(wù)于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針,。公司始終堅持客戶需求優(yōu)先的原則,，致力于提供高質(zhì)量的半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測量設(shè)備,，光刻機 鍵合機,，膜厚測量儀。岱美中國以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念,，打造高指標的服務(wù),，引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展。