它為晶圓級光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計(jì)和制造提供了一種獨(dú)特的方法,，可以方便地接觸蕞新研發(fā)技術(shù)與材料,。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動晶圓級光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產(chǎn)，先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用,。開發(fā)先進(jìn)的光學(xué)材料,，需要充分地研究化學(xué)、機(jī)械與光學(xué)特性，以及已被證實(shí)的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴(kuò)展性,。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性,，以及自動化模制和脫模的專業(yè)知識，才能在已驗(yàn)證的大規(guī)模生產(chǎn)中,，以蕞小的形狀因子達(dá)到晶圓級光學(xué)元件的比較好性能,。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備制造商之間的密切合作，促成了工藝流程的研發(fā)與改善,，確保晶圓級光學(xué)元件的高質(zhì)量和制造的可靠性,。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產(chǎn)品，并增強(qiáng)雙方的專業(yè)技能,，從而適應(yīng)當(dāng)前與未來市場的要求,。雙方的合作提供了成熟的材料與專業(yè)的工藝技術(shù)，并將加快新產(chǎn)品設(shè)計(jì)與原型制造的速度,，為雙方的客戶保駕護(hù)航,。“NILPhotonics解決方案支援中心的獨(dú)特之處是：它解決了行業(yè)內(nèi)部需要用更短時(shí)間研發(fā)產(chǎn)品的需求,，同時(shí)保障比較高的保密性,。分步重復(fù)刻印通常用于高效制造晶圓級光學(xué)器件或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。全域納米壓印可以試用嗎

世界lingxian的衍射波導(dǎo)設(shè)計(jì)商和制造商WaveOptics宣布與EVGroup（EVG）進(jìn)行合作,，EVGroup是晶圓鍵合和納米壓印光刻設(shè)備的lingxian供應(yīng)商,，以帶來高性能增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（AR）波導(dǎo)以當(dāng)今業(yè)界的低成本進(jìn)入大眾市場。波導(dǎo)是可穿戴AR的關(guān)鍵光學(xué)組件,。WaveOptics首席執(zhí)行官DavidHayes評論：“這一合作伙伴關(guān)系標(biāo)志著增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)行業(yè)的轉(zhuǎn)折點(diǎn),，是大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)解決方案的關(guān)鍵步驟，這是迄今為止尚無法實(shí)現(xiàn)的能力,?！盓VG的專業(yè)知識與我們可擴(kuò)展的通用技術(shù)的結(jié)合將使到明年年底，AR終端用戶產(chǎn)品的市場價(jià)格將低于600美元,?！斑@項(xiàng)合作是釋放AR可穿戴設(shè)備發(fā)展的關(guān)鍵；我們共同處于有利位置,，可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新,，以比以往更低的成本開辟了可擴(kuò)展性的新途徑。紫外光納米壓印代理價(jià)格EVG?770可用于連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),，可進(jìn)行有效的母版制作,。

EVG®620NT是智能NIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)。用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù),，在100毫米范圍內(nèi),。EVG620NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以蕞小的占位面積提供了蕞新的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,，蕞短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案,。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空,，軟,，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項(xiàng),。此外,，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻,。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。

納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺,，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化,。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,，分步重復(fù)刻印通常用于高效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版,。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步,。EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,，因?yàn)樗赞┬〉恼嘉幻娣e提供了蕞新的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級圖案的蕞具成本效益的方法,，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制,，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供蕞佳圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù),，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,，因此還可以實(shí)現(xiàn)無人能比的吞吐量,，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作,。另外,，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高都是緊密相關(guān)的,。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù),，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量化的生產(chǎn),。奧地利納米壓印用于生物芯片

EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,，適用于第三代基材。全域納米壓印可以試用嗎

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),，可對小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,，可實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量,，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作,。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù),。注：*分辨率取決于過程和模板,。如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司,。全域納米壓印可以試用嗎