EVG®120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)EVG

®120是用于當潔凈室空間有限，需要生產(chǎn)一種緊湊的,，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng),。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設計,，并帶有新開發(fā)的化學柜,，可用于外部存儲化學品，同時提供更高的通量能力,，針對大批量客戶需求進行了優(yōu)化,，并準備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處，這是其他任何工具所無法比擬的,，并保證了ZUI高的質(zhì)量各個應用領域的標準,，擁有成本卻非常低。 EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng),。EVG光刻機現(xiàn)場服務

EVG®620NT掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動）特色：EVG®620NT提供國家的本領域掩模對準技術在ZUI小化的占位面積,，支持高達150毫米晶圓尺寸。技術數(shù)據(jù)：EVG620NT以其多功能性和可靠性而著稱,，在ZUI小的占位面積上結合了先進的對準功能和ZUI優(yōu)化的總體擁有成本,，提供了ZUI先進的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen2解決方案,，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,，ZUI短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案,。原裝進口光刻機傳感器應用HERCULES平臺是“一站式服務”平臺,。

IQAligner®NT曝光設定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式楔形補償：全自動軟件控制；非接觸式IQAligner®NT曝光選項：間隔曝光/洪水曝光先進的對準功能：自動對準暗場對準功能/完整的明場掩模移動（FCMM）大間隙對準跳動控制對準IQAligner®NT系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR實時遠程訪問，診斷和故障排除如果您需要確認準確的產(chǎn)品的信息,，請聯(lián)系我們,。如果需要鍵合機,，請看官網(wǎng)信息。

EVG®610曝光源：汞光源/紫外線LED光源,；楔形補償全自動軟件控制,；晶圓直徑（基板尺寸）高達100/150/200毫米；曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式,；曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光,；先進的對準功能：手動對準/原位對準驗證手動交叉校正大間隙對準；EVG®610光刻機系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR實時遠程訪問，診斷和故障排除使用的納米壓印光刻技術是“無紫外線”,。EVG光刻機蕞新的曝光光學增強功能是對LED燈的設置,。

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設備或工藝,，這不僅需要高度的靈活性，而且需要可控和可重復的處理。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗,，并將這些知識技能整合到EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持,。光刻膠處理設備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機，EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng),；EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng),。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù)，請聯(lián)系我們,，我們會給您提供蕞新的資料,。或者訪問岱美儀器的官網(wǎng)獲取相關的信息,?？稍诒姸鄳脠鼍爸姓业紼VG的設備應用，包括先進封裝,，化合物半導體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS,。湖北光刻機可以免稅嗎

EVG已經(jīng)與研究機構合作超過35年，能深入了解他們的獨特需求,。EVG光刻機現(xiàn)場服務

EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,，可在各種應用中實現(xiàn)出色的曝光效果,，例如，對薄而厚的光刻膠進行曝光,，對深腔進行構圖并形成可比的形貌,，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術,。EVG620NT特征：晶圓/基板尺寸從小到150mm/6''系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,，更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列EVG光刻機現(xiàn)場服務