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進(jìn)口鍵合機(jī)推薦型號(hào)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-09-26

EVG®620BA自動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng):用于晶圓間對(duì)準(zhǔn)的自動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),,用于研究和試生產(chǎn),。EVG620鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)以其高度的自動(dòng)化和可靠性而聞名,,專為ZUI大150mm晶圓尺寸的晶圓間對(duì)準(zhǔn)而設(shè)計(jì)。EVGroup的鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)具有ZUI高的精度,,靈活性和易用性,,以及模塊化升級(jí)功能,并且已經(jīng)在眾多高通量生產(chǎn)環(huán)境中進(jìn)行了認(rèn)證,。EVG的鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中ZUI苛刻的對(duì)準(zhǔn)過(guò)程,。特征:ZUI適合EVG®501,EVG®510和EVG®520是鍵合系統(tǒng),。支持ZUI大150mm晶圓尺寸的雙晶圓或三晶圓堆疊的鍵對(duì)準(zhǔn),。手動(dòng)或電動(dòng)對(duì)準(zhǔn)臺(tái)。全電動(dòng)高份辨率底面顯微鏡,?;赪indows的用戶界面。在不同晶圓尺寸和不同鍵合應(yīng)用之間快速更換工具,。EVG鍵合機(jī)使用直接(實(shí)時(shí))或間接對(duì)準(zhǔn)方法,,能夠支持大量不同的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。進(jìn)口鍵合機(jī)推薦型號(hào)

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EVG®850LTSOI和直接晶圓鍵合的自動(dòng)化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng) 用途:自動(dòng)化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng),,適用于多種熔融/分子晶圓鍵合應(yīng)用 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓鍵合是SOI晶圓制造工藝以及晶圓級(jí)3D集成的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),。借助用于機(jī)械對(duì)準(zhǔn)SOI的EVG850LT自動(dòng)化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)以及具有LowTemp?等離子活化的直接晶圓鍵合,熔融了熔融的所有基本步驟-從清潔,,等離子活化和對(duì)準(zhǔn)到預(yù)鍵合和IR檢查。因此,,經(jīng)過(guò)實(shí)踐檢驗(yàn)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)EVG850 LT確保了高達(dá)300mm尺寸的無(wú)空隙SOI晶片的高通量,,高產(chǎn)量生產(chǎn)工藝,。美元價(jià)鍵合機(jī)鍵合精度除了支持3D互連和MEMS制造,晶圓級(jí)和先進(jìn)封裝外,,EVG的EVG500系晶圓鍵合機(jī)還可用于研發(fā),,中試和批量生產(chǎn)。

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GEMINI ® FB自動(dòng)化生產(chǎn)晶圓鍵合系統(tǒng) 集成平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高精度對(duì)準(zhǔn)和熔融 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) 半導(dǎo)體器件的垂直堆疊已經(jīng)成為使器件密度和性能不斷提高的日益可行的方法,。晶圓間鍵合是實(shí)現(xiàn)3D堆疊設(shè)備的重要工藝步驟,。EVG的GEMINI FB XT集成熔融系統(tǒng)擴(kuò)展了當(dāng)前標(biāo)準(zhǔn),并結(jié)合了更高的生產(chǎn)率,,更高的對(duì)準(zhǔn)度和覆蓋精度,,適用于諸如存儲(chǔ)器堆疊,3D片上系統(tǒng)(SoC),,背面照明CMOS圖像傳感器堆疊和芯片分割等應(yīng)用,。該系統(tǒng)具有新的Smart View NT3鍵合對(duì)準(zhǔn)器,該鍵合對(duì)準(zhǔn)器是專門為 <50 nm的熔融和混合晶片鍵合對(duì)準(zhǔn)要求而開(kāi)發(fā)的,。

一旦將晶片粘合在一起,,就必須測(cè)試粘合表面,看該工藝是否成功,。通常,,將批處理過(guò)程中產(chǎn)生的一部分產(chǎn)量留給破壞性和非破壞性測(cè)試方法使用。破壞性測(cè)試方法用于測(cè)試成品的整體剪切強(qiáng)度,。非破壞性方法用于評(píng)估粘合過(guò)程中是否出現(xiàn)了裂紋或異常,,從而有助于確保成品沒(méi)有缺陷。EVGroup(EVG)是制造半導(dǎo)體,,微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),,化合物半導(dǎo)體,功率器件和納米技術(shù)器件的設(shè)備和工藝解決方案的lingxian供應(yīng)商,。主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合,,薄晶圓加工,光刻/納米壓印光刻(NIL)和計(jì)量設(shè)備,,以及光刻膠涂布機(jī),,清潔劑和檢查系統(tǒng)。成立于1980年的EVGroup服務(wù)于復(fù)雜的全球客戶和合作伙伴網(wǎng)絡(luò),,并為其提供支持,。有關(guān)EVG的更多信息,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)"鍵合機(jī)",。 針對(duì)高級(jí)封裝,,MEMS,3D集成等不同市場(chǎng)需求,,EVG優(yōu)化了用于對(duì)準(zhǔn)的多個(gè)鍵合模塊,。

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真空系統(tǒng):9x10-2mbar(標(biāo)準(zhǔn))和9x10-3mbar(渦輪泵選件) 清潔站 清潔方式:沖洗(標(biāo)準(zhǔn)),,超音速噴嘴,超音速面積傳感器,,噴嘴,,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成(可選) 清潔介質(zhì):去離子水(標(biāo)準(zhǔn)),NH4OH和H2O2(ZUI大),。2%濃度(可選) 旋轉(zhuǎn)卡盤(pán):真空卡盤(pán)(標(biāo)準(zhǔn))和邊緣處理卡盤(pán)(選件),,由不含金屬離子的清潔材料制成 旋轉(zhuǎn):ZUI高3000rpm(5s) 清潔臂:蕞多5條介質(zhì)線(1個(gè)超音速系統(tǒng)使用2條線) 可選功能 ISO3mini-environment(根據(jù)ISO14644) LowTemp?等離子活化室 紅外檢查站 以上資料由岱美儀器提供并做技術(shù)支持EVG?500系列鍵合模塊-適用于GEMINI,支持除紫外線固化膠以外的所有主流鍵合工藝,。甘肅鍵合機(jī)優(yōu)惠價(jià)格

Smart View?NT-適用于GEMINI和GEMINI FB,,讓晶圓在晶圓鍵合之前進(jìn)行晶圓對(duì)準(zhǔn)。進(jìn)口鍵合機(jī)推薦型號(hào)

根據(jù)型號(hào)和加熱器尺寸,,EVG500系列鍵合機(jī)可以用于碎片和50mm至300mm的晶圓,。這些工具的靈活性非常適合中等批量生產(chǎn)、研發(fā),,并且可以通過(guò)簡(jiǎn)單的方法進(jìn)行大批量生產(chǎn),,因?yàn)殒I合程序可以轉(zhuǎn)移到EVGGEMINI大批量生產(chǎn)系統(tǒng)中。鍵合室配有通用鍵合蓋,,可快速排空,,快速加熱和冷卻。通過(guò)控制溫度,,壓力,,時(shí)間和氣體,允許進(jìn)行大多數(shù)鍵合過(guò)程,。也可以通過(guò)添加電源來(lái)執(zhí)行陽(yáng)極鍵合,。對(duì)于UV固化黏合劑,可選的鍵合室蓋具有UV源,。鍵合可在真空或受控氣體條件下進(jìn)行,。頂部和底部晶片的獨(dú)力溫度控制補(bǔ)償了不同的熱膨脹系數(shù),從而實(shí)現(xiàn)無(wú)應(yīng)力黏合和出色的溫度均勻性,。在不需要重新配置硬件的情況下,,可以在真空下執(zhí)行SOI/SDB(硅的直接鍵合)預(yù)鍵合。 進(jìn)口鍵合機(jī)推薦型號(hào)