F20系列是世界上蕞**的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng),，只需按下一個按鈕，不到一秒鐘即可同時(shí)測量厚度和折射率,。設(shè)置也非常簡單,只需把設(shè)備連接到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)USB端口,并連接樣品平臺就可以了,。F20系列不同型號的選擇，主要取決于您需要測量的薄膜厚度（確定所需的波長范圍）,。型號厚度范圍*波長范圍F2015nm-70μm380-1050nmF20-EXR15nm-250μm380-1700nmF20-NIR100nm-250μm950-1700nmF20-UV1nm-40μm190-1100nmF20-UVX1nm-250μm190-1700nmF20-XTμm-450μm1440-1690nm*取決于薄膜種類Filmetrics膜厚測試儀通過分析薄膜的反射光譜來測量薄膜的厚度,，通過非可見光的測量，可以測量薄至1nm或厚至13mm的薄膜,。測量結(jié)果可在幾秒鐘顯示：薄膜厚度,、顏色、折射率甚至是表面粗糙度,。1.有五種不同波長選擇(波長范圍從紫外220nm至近紅外1700nm)2.蕞大樣品薄膜厚度的測量范圍是：3nm～25um3.精度高于,、氧化物、氮化物,；,、Polyimides；3.光電鍍膜應(yīng)用:硬化膜,、抗反射膜,、濾波片。1.光源有壽命,，不用時(shí)請關(guān)閉2.光纖易損,，不要彎折,，不要頻繁插拔3.精密儀器。Filmetrics F60-t 系列就像我們的 F50產(chǎn)品一樣測繪薄膜厚度和折射率,，但它增加了許多用于生產(chǎn)環(huán)境的功能,。測厚儀膜厚儀推薦型號

接觸探頭測量彎曲和難測的表面CP-1-1.3測量平面或球形樣品，結(jié)實(shí)耐用的不銹鋼單線圈,。CP-1-AR-1.3可以抑制背面反射,，對1.5mm厚的基板可抑制96%。鋼制單線圈外加PVC涂層,，蕞大可測厚度15um,。CP-2-1.3用于探入更小的凹表面，直徑17.5mm,。CP-C6-1.3探測直徑小至6mm的圓柱形和球形樣品外側(cè),。CP-C12-1.3用于直徑小至12mm圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-C26-1.3用于直徑小至26mm圓柱形和球形樣品外側(cè),。CP-BendingRod-L350-2彎曲長度300mm,，總長度350mm的接觸探頭。用于難以到達(dá)的區(qū)域,，但不會自動對準(zhǔn)表面,。CP-ID-0to90Deg-2用于食品和飲料罐頭內(nèi)壁的接觸探頭。CP-RA-3mmDia-200mmL-2直徑蕞小的接觸探頭,，配備微型直角反射鏡,，用來測量小至直徑3mm管子的內(nèi)壁，不能自動對準(zhǔn)表面,。CP-RA-10mmHigh-2配備微型直角反射鏡,，可以在相隔10mm的兩個平坦表面之間去進(jìn)行測量。硬涂層膜厚儀免稅價(jià)格系統(tǒng)測試應(yīng)力的精度小于15mpa (0.03cm-1) ,，全自動的200mm和300mm硅片檢查，自動檢驗(yàn)和聚焦的能力,。

    銦錫氧化物與透明導(dǎo)電氧化物液晶顯示器,，有機(jī)發(fā)光二極管變異體，以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導(dǎo)電氧化物(TCO)來傳輸電流,，并作每個發(fā)光元素的陽極,。和任何薄膜工藝一樣，了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要,。對于液晶顯示器而言,，就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法，對有機(jī)發(fā)光二極管而言,，則需要測量發(fā)光,、電注入和封裝層的厚度,。在測量任何多個層次的時(shí)候，諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學(xué)技術(shù)需要測量或建模估算每一個層次的厚度和光學(xué)常數(shù)(反射率和k值),。不幸的是,，使得氧化銦錫和其他透明導(dǎo)電氧化物在顯示器有用的特性，同樣使這些薄膜層難以測量和建模,，從而使測量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難,。Filmetrics的氧化銦錫解決方案Filmetrics已經(jīng)開發(fā)出簡便易行而經(jīng)濟(jì)有效的方法，利用光譜反射率精確測量氧化銦錫,。將新型的氧化銦錫模式和F20-EXR,很寬的400-1700nm波長相結(jié)合,，從而實(shí)現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析。氧化銦錫層的特性一旦得到確定,，剩余顯示層分析的關(guān)鍵就解決了,。

樣品視頻包括硬件和照相機(jī)的F20系統(tǒng)視頻。視頻實(shí)時(shí)顯示精確測量點(diǎn),。 不包括SS-3平臺,。SampleCam-sXsX探頭攝像機(jī)包含改裝的sX探頭光學(xué)配件，但不包含平臺,。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺,，具有SS-3鏡頭與38mm的精密XY平移聚焦平臺。能夠升級成電動測繪與自動對焦,。StageBase-XY10-Auto-100mm10“×10” 全電動樣品平臺,。可以進(jìn)行100mm高精度XY平移,，包括自動焦距調(diào)節(jié),。SS-Microscope- UVX-1顯微鏡（15倍反射式物鏡）及X-Y平臺。 包含UV光源與照明光纖,。SS-Microscope- EXR-1顯微鏡包含X- Y平臺及照明光纖. 需另選購物鏡. 通常使用顯微鏡內(nèi)建照明,。SS-Trans-Curved用于平坦或彎曲表面的透射平臺，包括光纖,，和 F10-AR 一起使用,。 波長范圍 250nm -2500nm。T-1SS-3 平臺的透射測量可選件,。包括光纖,、平臺轉(zhuǎn)接器和平臺支架。 用于平坦的樣品,。WS-300用于小于 300mm 樣品的平移旋轉(zhuǎn)平臺,。F50-NIR測厚范圍：100nm-250μm；波長：950-1700nm,。

F50系列包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4",6"and200mm參考晶圓TS-SiO2-4-7200厚度標(biāo)準(zhǔn)BK7參考材料整平濾波器(用于高反射基板)真空泵備用燈型號厚度范圍*波長范圍F50：20nm-70μm380-1050nmF50-UV：5nm-40μm190-1100nmF50-NIR：100nm-250μm950-1700nmF50-EXR：20nm-250μm380-1700nmF50-UVX：5nm-250μm190-1700nmF50-XT：0.2μm-450μm1440-1690nmF50-s980：4μm-1mm960-1000nmF50-s1310：7μm-2mm1280-1340nmF50-s1550：10μm-3mm1520-1580nm額外的好處：每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫,隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一-周五）網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計(jì)劃,。厚度變化 (TTV) ,；溝槽深度；過孔尺寸,、深度,、側(cè)壁角度。銦錫氧化物膜厚儀質(zhì)量怎么樣

適用于所有可讓紅外線通過的材料 硅,、藍(lán)寶石,、砷化鎵、磷化銦,、碳化硅,、玻璃、石 英,、聚合物等,。測厚儀膜厚儀推薦型號

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在,在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅,。非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨(dú)特的,，必須有精確的厚度測量。測量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化,。Filmetrics設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時(shí)測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù),，并且“一鍵”出結(jié)果。測量范例多晶硅被廣范用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中,。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性,。隨著沉積和退火條件的改變，這些特性隨之改變,，所以準(zhǔn)確地測量這些參數(shù)非常重要,。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間，加入二氧化硅層,，以增加光學(xué)對比,，其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),，以及二氧化硅夾層厚度,。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性。測厚儀膜厚儀推薦型號