EVG的光刻機(jī)技術(shù)：EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對準(zhǔn)器的高產(chǎn)能,，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識,。EVG的所有光刻設(shè)備平臺均支持300毫米的晶圓，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并配有用于從上到下的側(cè)面對準(zhǔn)驗證的度量工具,。EVG不斷展望未來的市場趨勢，因此提供了針對特定應(yīng)用的解決方案,，尤其是在光學(xué)3D傳感和光子學(xué)市場中,，其無人能比的EVG的工藝和材料專業(yè)知識-源自對各種光刻膠材料進(jìn)行的廣范優(yōu)化研究。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素,。HERCULES以蕞小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢,。陜西光刻機(jī)國內(nèi)代理

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝，這不僅需要高度的靈活性，而且需要可控和可重復(fù)的處理,。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗,，并將這些知識技能整合到EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持,。光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機(jī)，EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng),；EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng),。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù)，請聯(lián)系我們,，我們會給您提供蕞新的資料,。或者訪問岱美儀器的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息,。海南光刻機(jī)微流控應(yīng)用EVG的大批量制造系統(tǒng)目的是在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,，為全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持。

EVG®620BA自動鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)：用于晶圓間對準(zhǔn)的自動鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng),，用于研究和試生產(chǎn),。EVG620鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)以其高度的自動化和可靠性而聞名，專為ZUI大150mm晶圓尺寸的晶圓間對準(zhǔn)而設(shè)計,。EVGroup的鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)具有ZUI高的精度,，靈活性和易用性，以及模塊化升級功能,，并且已經(jīng)在眾多高通量生產(chǎn)環(huán)境中進(jìn)行了認(rèn)證,。EVG的鍵對準(zhǔn)系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中ZUI苛刻的對準(zhǔn)過程。特征：ZUI適合EVG®501,，EVG®510和EVG®520是鍵合系統(tǒng),。支持ZUI大150mm晶圓尺寸的雙晶圓或三晶圓堆疊的鍵對準(zhǔn)。手動或電動對準(zhǔn)臺,。全電動高份辨率底面顯微鏡,。基于Windows的用戶界面,。在不同晶圓尺寸和不同鍵合應(yīng)用之間快速更換工具,。

EVG770自動UV-NIL納米壓印步進(jìn)機(jī)，用于制作主圖章,。母模是晶圓大小的模板,，里面完全裝有微透鏡模具，每個模具都采用分步重復(fù)的方法從一個透鏡模板中復(fù)制,。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,，具有WUYULUNBI的鏡片位置精度和GAODUAN鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級相機(jī)模塊。IQAligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng),，用于UV微透鏡成型,。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素）的高度并行技術(shù)。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,，EVGroup提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。EVG40NT自動測量系統(tǒng),。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,，計量對于驗證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要。在WLO制造中,，EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸（CD）測量和透鏡疊層對準(zhǔn)驗證,，以及許多其他應(yīng)用。HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,、大間隙、晶圓平面或紅外對準(zhǔn),，在可編程位置自動定位,。

EVG120特征2：先進(jìn)且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機(jī)器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量,；工藝技術(shù)桌越和開發(fā)服務(wù)：多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[FrameworkSWPlatform]用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能設(shè)備和過程性能根蹤功能,；并行/排隊任務(wù)處理功能,；智能處理功能；發(fā)生和警報分析,；智能維護(hù)管理和根蹤,；技術(shù)數(shù)據(jù)：可用模塊；旋涂/OmniSpray®/開發(fā),；烤/冷,；晶圓處理選項：單/雙EE/邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn)；彎曲/翹曲/薄晶圓處理,。研發(fā)設(shè)備與EVG的和新技術(shù)平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈。陜西光刻機(jī)國內(nèi)代理

可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤,、曝光后烘烤和硬烘烤操作,。陜西光刻機(jī)國內(nèi)代理

EVGroup企業(yè)技術(shù)總監(jiān)ThomasGlinsner博士證實：“我們看到支持晶圓級光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加。”“JIN從今年年初開始,，我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng),，以進(jìn)行大批量生產(chǎn)。此類訂單進(jìn)一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場LINGDAOZHE的地位,，同時創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機(jī)會,。”業(yè)界LINGXIAN的設(shè)備制造商ZUI近宣布了擴(kuò)大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標(biāo)的計劃,，以幫助解決客戶日益激進(jìn)的上市時間窗口,。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法，下一代智能手機(jī)中正在設(shè)計十多種傳感器,。其中包括3D感測相機(jī),，指紋傳感器，虹膜掃描儀,，激光二極管發(fā)射器,，激光測距儀和生物傳感器?？傮w而言,，光纖集線器預(yù)計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元，復(fù)合年增長率超過11％*,。陜西光刻機(jī)國內(nèi)代理