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紫外光納米壓印微流控應用

來源: 發(fā)布時間:2024-11-13

關于WaveOpticsWaveOptics是衍射波導的全球lingxian設計商和制造商,,衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件,。諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實世界之上的數(shù)字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源,,以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式,。WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產(chǎn)生大的眼框,,雙目觀察和高視野,。眼圖框(查看窗口)是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰,,無失真的文本以及穩(wěn)定的圖像,。WaveOptics技術旨在用于工業(yè),企業(yè)和消費者市場的沉浸式AR體驗。該公司的目標是,,憑借其獨特的技術和專業(yè)知識,,其波導將成為所有AR可穿戴設備中使用的he心光學組件,以實現(xiàn)wuyulunbi的制造可擴展性和視覺性能,,并為眾多應用提供多功能性,。EVG?610和EVG?620NT / EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。紫外光納米壓印微流控應用

紫外光納米壓印微流控應用,納米壓印

具體說來就是,,MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動,,因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平(硅中摻雜以帶來或正或負的電荷),以確??绺鹘M件的通道性能的一致性,。通常MOSFET是在一層二氧化硅(SiO2)襯底上,然后沉積一層金屬或多晶硅制成的,。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,,摻雜有時會泄到別的不需要的地方,那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應”區(qū)域,,并導致性能下降,。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手(包括密歇根大學,、德克薩斯大學,、以及加州大學伯克利分校等),開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術,。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,,從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程。原裝進口納米壓印研發(fā)可以用嗎SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能,,也具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,,同時保留可擴展性和易于維護的特點。

紫外光納米壓印微流控應用,納米壓印

納米壓印微影技術有望優(yōu)先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography,;NIL),,現(xiàn)將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術,。據(jù)ETNews報導,,南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認NIL設備實際圖樣形成能力,,直接參訪海外NIL設備廠,。該制程研發(fā)小組透露,若引進相關設備,,將可提升面板性能,。并已展開具體供貨協(xié)商,。NIL是以刻印圖樣的壓印機,像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程,。在基板上涂布UV感光液后,,再以壓印機接觸施加壓力,印出面板圖樣,。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣,。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,,不需再另外貼附偏光薄膜,。雖然在面板制程中需增加NIL,、蝕刻制程,,但省落偏光膜貼附制程,,可維持同樣的生產(chǎn)成本,。偏光膜會吸收部分光線降低亮度,。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,,將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,,因配線較多,,較難確保開口率(ApertureRatio)。

該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世,。根據(jù)客戶的專門需求,,公司對這些聚合物作出調整,,使其具備其它特征,。它們極其適合工業(yè)環(huán)境,,在較短的生產(chǎn)周期時間內粘合各種微小的元件,。此外,,DELO紫外線LED固化設備與點膠閥的可靠度十分杰出,。關于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商,總部位于德國慕尼黑附近的Windach,。在美國、中國,、新加坡及日本均設有子公司,。2019財政年,,公司的780名員工創(chuàng)造了,。該公司產(chǎn)品在全球范圍內廣泛應用于汽車,、消費類電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品,。幾乎每一部智能手機與超過一半的汽車上都使用該公司產(chǎn)品,。DELO的客戶包括博世、戴姆勒,、華為、歐司朗,、西門子以及索尼等。關于EVGroup(EVG)EV集團(EVG)是為生產(chǎn)半導體,、微機電系統(tǒng)(MEMS),、化合物半導體、功率器件以及納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的領仙供應商,。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合,、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(NIL)與計量設備,,,,以及涂膠機、清洗機與檢測系統(tǒng),。EV集團創(chuàng)辦于1980年,,可為全球的眾多客戶與合作伙伴提供各類服務與支持。EVG?7200LA是大面積SmartNIL?UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng),。

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SmartNIL是一項關鍵的啟用技術,,可用于顯示器,,生物技術和光子應用中的許多新創(chuàng)新,。例如,,SmartNIL提供了無人能比的全區(qū)域共形壓印,,以便滿足面板基板上線柵偏振器的ZUI重要標準,。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化,,以支持下一代藥物研究和醫(yī)學診斷設備的生產(chǎn)。此外,,SmartNIL的ZUI新發(fā)展為制造具有ZUI高功能,,ZUI小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現(xiàn)衍射光學元件(DOE)至關重要,。特征:體積驗證的壓印技術,,具有出色的復制保真度專有SmartNIL®技術,,多使用聚合物印模技術經(jīng)過生產(chǎn)驗證的分辨率低至40nm或更小大面積全場壓印總擁有成本ZUI低在地形上留下印記對準能力室溫過程開放式材料平臺HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng),。云南納米壓印出廠價

EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術,擁有多年技術,,掌握了NIL,,并在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn),。紫外光納米壓印微流控應用

EVG®720特征:體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度專有SmartNIL®技術,,多使用聚合物印模技術集成式壓印,,UV固化脫模和工作印模制造盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式可選的頂部對準可選的迷你環(huán)境適用于所有市售壓印材料的開放平臺從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性系統(tǒng)外殼,,可實現(xiàn)ZUI佳過程穩(wěn)定性和可靠性技術數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)75至150毫米解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:SmartNIL®曝光源:大功率LED(i線)>400mW/cm2對準:可選的頂部對準自動分離:支持的迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的紫外光納米壓印微流控應用