測量有機(jī)發(fā)光顯示器有機(jī)發(fā)光顯示器(OLEDs)有機(jī)發(fā)光顯示器正迅速從實(shí)驗(yàn)室轉(zhuǎn)向大規(guī)模生產(chǎn),。明亮,，超薄，動態(tài)的特性使它們成為從手機(jī)到電視顯示屏的手選,。組成顯示屏的多層薄膜的精密測量非常重要，但不能用傳統(tǒng)接觸型的輪廓儀,，因?yàn)樗鼤茐娘@示屏表面,。我們的F20-UV，F(xiàn)40-UV,，和F10-RT-UV將提供廉價(jià),，可靠，非侵入測量原型裝置和全像素化顯示屏,。我們的光譜儀還可以測量大氣敏感材料的化學(xué)變化,。測量透明導(dǎo)電氧化膜不論是銦錫氧化物,，氧化鋅，還是聚合物（3,4-乙烯基）,，我們獨(dú)有的ITO光學(xué)模型,，加上可見/近紅外儀器，可以測得厚度和光學(xué)常數(shù),，費(fèi)用和操作難度瑾是光譜橢偏儀的一小部分,。基本上所有光滑的,、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測量,。晶片膜厚儀推薦型號

銦錫氧化物與透明導(dǎo)電氧化物液晶顯示器，有機(jī)發(fā)光二極管變異體,，以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導(dǎo)電氧化物(TCO)來傳輸電流,，并作每個(gè)發(fā)光元素的陽極。和任何薄膜工藝一樣,，了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要,。對于液晶顯示器而言，就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,，對有機(jī)發(fā)光二極管而言,，則需要測量發(fā)光、電注入和封裝層的厚度,。在測量任何多個(gè)層次的時(shí)候,，諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學(xué)技術(shù)需要測量或建模估算每一個(gè)層次的厚度和光學(xué)常數(shù)(反射率和k值)。不幸的是,，使得氧化銦錫和其他透明導(dǎo)電氧化物在顯示器有用的特性,，同樣使這些薄膜層難以測量和建模，從而使測量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難,。Filmetrics的氧化銦錫解決方案Filmetrics已經(jīng)開發(fā)出簡便易行而經(jīng)濟(jì)有效的方法,，利用光譜反射率精確測量氧化銦錫。將新型的氧化銦錫模式和F20-EXR,很寬的400-1700nm波長相結(jié)合,，從而實(shí)現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析,。氧化銦錫層的特性一旦得到確定，剩余顯示層分析的關(guān)鍵就解決了,。晶片膜厚儀推薦型號所有的 Filmetrics 型號都能通過精確的光譜反射建模來測量厚度 (和折射率),。

F40系列將您的顯微鏡變成薄膜測量工具F40產(chǎn)品系列用于測量小到1微米的光斑。對大多數(shù)顯微鏡而言,，F(xiàn)40能簡單地固定在c型轉(zhuǎn)接器上,，這樣的轉(zhuǎn)接器是顯微鏡行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)配件。F40配備的集成彩色攝像機(jī)，能夠?qū)y量點(diǎn)進(jìn)行準(zhǔn)確監(jiān)控,。在1秒鐘之內(nèi)就能測定厚度和折射率,。像我們所有的臺式儀器一樣，F(xiàn)40需要連接到您裝有Windows計(jì)算機(jī)的USB端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)完成設(shè)定,。F40：20nm-40μm400-850nmF40-EXR：20nm-120μm400-1700nmF40-NIR：40nm-120μm950-1700nmF40-UV：4nm-40μm190-1100nmF40-UVX：4nm-120μm190-1700nm

更可加裝至三個(gè)探頭,，同時(shí)測量三個(gè)樣品，具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長可供選擇,。F40:這型號安裝在任何顯微鏡外,，可提供*小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。F50:這型號配備全自動XY工作臺,，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可,。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping),。F70:瑾通過在F20基本平臺上增加鏡頭,，使用Filmetrics*新的顏色編碼厚度測量法（CTM），把設(shè)備的測量范圍極大的拓展至,。F10-RT：在F20實(shí)現(xiàn)反射率跟穿透率的同時(shí)測量,，特殊光源設(shè)計(jì)特別適用于透明基底樣品的測量。PARTS：在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70o光源,，特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量,。**膜厚測量儀系統(tǒng)F20使用F20**分光計(jì)系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學(xué)參數(shù)（n和k）,。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù),。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個(gè)桌面系統(tǒng)組裝起來,。F20包括所有測量需要的部件：分光計(jì)、光源,、光纖導(dǎo)線,、鏡頭集和和Windows下運(yùn)行的軟件。您需要的只是接上您的電腦,。膜層實(shí)例幾乎任何光滑,、半透明、低吸收的膜都能測,。包括：sio2（二氧化硅）sinx（氮化硅）dlc（類金剛石碳）photoresist,。監(jiān)測控制生產(chǎn)過程中移動薄膜厚度。高達(dá)100 Hz的采樣率可以在多個(gè)測量位置得到,。

FSM膜厚儀簡單介紹：FSM128厚度以及TSV和翹曲變形測試設(shè)備:美國FrontierSemiconductor(FSM)成立于1988年,，總部位于圣何塞，多年來為半導(dǎo)體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測量設(shè)備，客戶遍布全世界,主要產(chǎn)品包括:光學(xué)測量設(shè)備:三維輪廓儀,、拉曼光譜,、薄膜應(yīng)力測量設(shè)備、紅外干涉厚度測量設(shè)備,、電學(xué)測量設(shè)備:高溫四探針測量設(shè)備,、非接觸式片電阻及漏電流測量設(shè)備、金屬污染分析,、等效氧化層厚度分析(EOT),。請?jiān)L問我們的中文官網(wǎng)了解更多的信息。一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng),。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆,。重慶膜厚儀有哪些應(yīng)用

FSM413SP半自動機(jī)臺人工取放芯片。晶片膜厚儀推薦型號

TotalThicknessVariation(TTV)應(yīng)用規(guī)格:測量方式:紅外干涉(非接觸式)樣本尺寸:50,、75,、100、200,、300mm,，也可以訂做客戶需要的產(chǎn)品尺寸測量厚度:15—780μm(單探頭)3mm(雙探頭總厚度測量)掃瞄方式:半自動及全自動型號,另2D/3D掃瞄(Mapping)可選襯底厚度測量:TTV、平均值,、*小值,、*大值、公差...可選粗糙度:20—1000?(RMS)重復(fù)性:0.1μm(1sigma)單探頭*0.8μm(1sigma)雙探頭*分辨率:10nm請?jiān)L問我們的中文官網(wǎng)了解更多關(guān)于本產(chǎn)品的信息,。晶片膜厚儀推薦型號