EVG®610曝光源：汞光源/紫外線LED光源,；楔形補償全自動軟件控制,；晶圓直徑（基板尺寸）高達100/150/200毫米；曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式,；曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光,；先進的對準功能：手動對準/原位對準驗證手動交叉校正大間隙對準；EVG®610光刻機系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR實時遠程訪問，診斷和故障排除使用的納米壓印光刻技術為“無紫外線”,。光刻機是一種用于制造集成電路和其他微納米器件的關鍵設備,。甘肅光刻機當?shù)貎r格

EVG的光刻機技術：EVG在光刻技術上的關鍵能力在于其掩模對準器的高產能,，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內部處理的相關知識。EVG的所有光刻設備平臺均支持300毫米的晶圓,，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并配有用于從上到下的側面對準驗證的度量工具。EVG不斷展望未來的市場趨勢,，因此提供了針對特定應用的解決方案,，尤其是在光學3D傳感和光子學市場中，其無人能比的EVG的工藝和材料專業(yè)知識-源自對各種光刻膠材料進行的廣范優(yōu)化研究,。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案能夠成功的重要因素,。上海低溫光刻機HERCULES平臺是“一站式服務”平臺。

掩模對準系統(tǒng)：EVG的發(fā)明,，例如1985年世界上較早的擁有底面對準功能的系統(tǒng),，開創(chuàng)了頂面和雙面光刻，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例,，并設定了行業(yè)標準,。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器產品來增強這些核欣光刻技術，從而在這些領域做出了貢獻,。EVG的掩模對準系統(tǒng)可容納尺寸蕞大,，尺寸和形狀以及厚度蕞大為300mm的晶片和基板，旨在為高級應用提供先進的自動化程度和研發(fā)靈活性的復雜解決方案,。EVG的掩模對準器和工藝能力已經過現(xiàn)場驗證,，并已安裝在全球的生產設施中，以支持眾多應用,，包括高級封裝,，化合物半導體，功率器件,，LED,，傳感器和MEMS制造。

EVG®150特征：晶圓尺寸可達300毫米多達6個過程模塊可自定義的數(shù)量-多達20個烘烤/冷卻/汽化堆多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載可用的模塊包括旋轉涂層,，噴涂,，NanoCoat?，顯影,，烘烤/冷卻/蒸氣/上等EV集團專有的OmniSpray®超聲波霧化技術提供了****的處理結果,，當涉及到極端地形的保形涂層可選的NanoSpray?模塊實現(xiàn)了300微米深圖案的保形涂層,，長寬比*高為1:10,，垂直側壁廣范的支持材料烘烤模塊溫度高達250°CMegasonic技術用于清潔，聲波化學處理和顯影,，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘,。新型的EVG120帶有通用和全自動光刻膠處理工具,，能夠處理各種形狀和尺寸達200mm/8“的基片。

EVG®620BA自動鍵合對準系統(tǒng)：用于晶圓間對準的自動鍵合對準系統(tǒng),，用于研究和試生產,。EVG620鍵合對準系統(tǒng)以其高度的自動化和可靠性而聞名，專為ZUI大150mm晶圓尺寸的晶圓間對準而設計,。EVGroup的鍵合對準系統(tǒng)具有ZUI高的精度,，靈活性和易用性，以及模塊化升級功能,，并且已經在眾多高通量生產環(huán)境中進行了認證,。EVG的鍵對準系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生產和3D集成應用等新興領域中ZUI苛刻的對準過程。特征：ZUI適合EVG®501,，EVG®510和EVG®520是鍵合系統(tǒng),。支持ZUI大150mm晶圓尺寸的雙晶圓或三晶圓堆疊的鍵對準。手動或電動對準臺,。全電動高份辨率底面顯微鏡,。基于Windows的用戶界面,。在不同晶圓尺寸和不同鍵合應用之間快速更換工具,。EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有：Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口。福建光刻機原理

只有以客戶的需求為導向,，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力。甘肅光刻機當?shù)貎r格

此外,，EVG光刻機不斷關注未來的市場趨勢-例如光學3D傳感和光子學-并為這些應用開發(fā)新的方案和調整現(xiàn)有的解決方案,，以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術和市場地位證明了這一點,，包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的無人能比的經驗,，這些抗蝕劑針對獨特的要求和參數(shù)進行了優(yōu)化。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎,。只有接近客戶才能得知客戶蕞真實的需求,，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。甘肅光刻機當?shù)貎r格