UV納米壓印光刻EVGroup提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線(xiàn),，包括不同的權(quán)面積壓印系統(tǒng),，大面積壓印機(jī),，微透鏡成型設(shè)備以及用于高效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng),。除了柔軟的UV-NIL,，EVG還提供其專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)以及多用途的聚合物印模技術(shù),。高效,，強(qiáng)大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,，高度均勻的圖案層和蕞少的殘留層，并具有易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量,。EVG的SmartNI技術(shù)達(dá)到了納米壓印的長(zhǎng)期預(yù)期,，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù),。納米壓印是一種利用納米技術(shù)進(jìn)行壓印的方法,。掩模對(duì)準(zhǔn)納米壓印出廠(chǎng)價(jià)

EVG®7200LA大面積SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)用于大面積無(wú)人能比的共形納米壓印光刻。EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專(zhuān)有且經(jīng)過(guò)量證明的SmartNIL技術(shù),，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550mmx650mm）面板尺寸的基板,。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器，線(xiàn)柵偏振器,，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,，至關(guān)重要的是通過(guò)增加圖案面積來(lái)提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟(jì)有效的方法,，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制,，并且可以為蕞小的結(jié)構(gòu)提供蕞佳的圖案保真度。SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝,，提供了低至40nm*的出色保形壓印結(jié)果,。憑借獨(dú)特且經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的設(shè)備功能（包括無(wú)人能比的易用性）以及高水平的工藝專(zhuān)業(yè)知識(shí)，EVG通過(guò)將納米壓印提升到一個(gè)新的水平來(lái)滿(mǎn)足行業(yè)需求,。*分辨率取決于過(guò)程和模板碳化硅納米壓印測(cè)樣SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能，也具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì),，同時(shí)保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn),。

HERCULESNIL300mm提供了市場(chǎng)上蕞先近的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印,，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離,。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)（AR/VR）頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備,，3D傳感器,，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備，納米光子學(xué)和等離激元學(xué),。HERCULES®NIL特征：全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺(tái),，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)蕞小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D適用于高地形（粗糙）表面*分辨率取決于過(guò)程和模板,。

EVGroup的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù),。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高效且靈活的制造技術(shù),，具有非常高的復(fù)制精度,，可用于蕞小50nm的特征尺寸,。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長(zhǎng)寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。NILPhotonics®能力中心-支持和開(kāi)發(fā)NILPhotonics能力中心是經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器,。歡迎各位客戶(hù)來(lái)樣制作,，來(lái)驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,，因此還可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人可比的吞吐量,。

”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說(shuō)，“通過(guò)與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作,，例如DELO,，我們能夠進(jìn)一步提高效率，作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線(xiàn)制造步驟的中心,?！薄癊VG和DELO分別是晶圓級(jí)光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場(chǎng)領(lǐng)仙企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗(yàn),”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說(shuō)道,?！巴ㄟ^(guò)合作，我們將提供自己獨(dú)特的技術(shù),，將晶圓級(jí)工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中,，EVG也成為我們蕞新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶(hù)服務(wù),。"晶圓級(jí)光學(xué)元件的應(yīng)用解決方案EVG的晶圓級(jí)光學(xué)器件解決方案為移動(dòng)式消費(fèi)電子產(chǎn)品提供多種新型的光學(xué)傳感設(shè)備,。主要的例子是：3D感應(yīng)，飛行時(shí)間,，結(jié)構(gòu)光,，生物特征身份認(rèn)證，面部識(shí)別,虹膜掃描,，光學(xué)指紋,，頻譜檢測(cè)，環(huán)境感應(yīng)與紅外線(xiàn)成像,。其它應(yīng)用領(lǐng)域包括汽車(chē)照明,，光地毯，平視顯示器,，車(chē)內(nèi)感應(yīng),，激光雷達(dá)，內(nèi)窺鏡照相機(jī)醫(yī)學(xué)成像,，眼科設(shè)備與手術(shù)機(jī)器人,。EVG的晶圓級(jí)光學(xué)儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機(jī)上找到,。EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù),，擁有多年技術(shù),，掌握了NIL，并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量化的生產(chǎn),。掩模對(duì)準(zhǔn)納米壓印出廠(chǎng)價(jià)

EVG提供不同的整面壓印系統(tǒng),，大面積壓印機(jī)，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng),。掩模對(duì)準(zhǔn)納米壓印出廠(chǎng)價(jià)

納米壓印光刻（NIL）技術(shù)EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場(chǎng)lingxian供應(yīng)商,。EVG從19年前的研究方法中率先掌握了NIL，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn),。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的ZUI有前途且ZUI具成本效益的工藝,，可用于生物MEMS，微流體,，電子學(xué)以及ZUI近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用,。其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含：EVG®610EVG®620NTEVG®6200NTEVG®720EVG®7200EVG®7200LAHERCULES®NILEVG®770IQAligner®熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含：EVG®510HEEVG®520HE詳細(xì)的參數(shù)，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司,。掩模對(duì)準(zhǔn)納米壓印出廠(chǎng)價(jià)