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業(yè)內(nèi)主流鍵合工藝為:黏合劑,,陽極,,直接/熔融,玻璃料,焊料(包括共晶和瞬態(tài)液相)和金屬擴散/熱壓縮,。采用哪種黏合工藝取決于應(yīng)用,。EVG500系列可靈活配置選擇以上的所有工藝,。奧地利的EVG擁有超過25年的晶圓鍵合機制造經(jīng)驗,,擁有2000多擁有多年晶圓鍵合經(jīng)驗的員工,同時,,GEMINI是使用晶圓鍵合的HVM的行業(yè)標準,。根據(jù)型號和加熱器尺寸,,EVG500系列可以用于碎片和50mm至300mm的晶圓。這些工具的靈活性非常適合中等批量生產(chǎn),、研發(fā),,并且可以通過簡單的方法進行大批量生產(chǎn),因為鍵合程序可以轉(zhuǎn)移到EVGGEMINI大批量生產(chǎn)系統(tǒng)中,。 EVG鍵合機頂部和底部晶片的獨li溫度控制補償了不同的熱膨脹系數(shù),實現(xiàn)無應(yīng)力鍵合和出色的溫度均勻性,。低溫鍵合機學(xué)校會用嗎
EVG鍵合機加工結(jié)果除支持晶圓級和先進封裝,,3D互連和MEMS制造外,EVG500系列晶圓鍵合機(系統(tǒng))還可用于研發(fā),,中試或批量生產(chǎn),。它們通過在高真空,精確控制的準確的真空,,溫度或高壓條件下鍵合來滿足各種苛刻的應(yīng)用,。該系列擁有多種鍵合方法,包括陽極,,熱壓縮,,玻璃料,環(huán)氧樹脂,,UV和熔融鍵合,。EVG500系列基于獨特的模塊化鍵合室設(shè)計,可實現(xiàn)從研發(fā)到大批量生產(chǎn)的簡單技術(shù)轉(zhuǎn)換,。 模塊設(shè)計 各種鍵合對準(對位)系統(tǒng)配置為各種MEMS和IC應(yīng)用提供了多種優(yōu)勢,。使用直接(實時)或間接對準方法可以支持大量不同的對準技術(shù)。青海EVG850 DB鍵合機旋涂模塊-適用于GEMINI和GEMINI FB用于在晶圓鍵合之前施加粘合劑層,。
表面帶有微結(jié)構(gòu)硅晶圓的界面已受到極大的損傷,,其表面粗糙度遠高于拋光硅片( Ra < 0. 5 nm) ,有時甚至可以達到 1 μm 以上,。金硅共晶鍵合時將金薄膜置于欲鍵合的兩硅片之間,,加熱至稍高于金—硅共晶點的溫度,即 363 ℃ ,, 金硅混合物從預(yù)鍵合的硅片中奪取硅原子,,達到硅在金硅二相系( 其中硅含量為 19 % ) 中的飽和狀態(tài),冷卻后形成良好的鍵合[12,,13],。而光刻、深刻蝕,、清洗等工藝帶來的雜質(zhì)對于金硅二相系的形成有很大的影響,。以表面粗糙度極高且有雜質(zhì)的硅晶圓完成鍵合,,達到既定的鍵合質(zhì)量成為研究重點。
EVG®540自動晶圓鍵合機系統(tǒng)全自動晶圓鍵合系統(tǒng),,適用于蕞/大300mm的基板技術(shù)數(shù)據(jù)EVG540自動化晶圓鍵合系統(tǒng)是一種自動化的單腔室生產(chǎn)鍵合機,,設(shè)計用于中試線生產(chǎn)以及用于晶圓級封裝,3D互連和MEMS應(yīng)用的大批量生產(chǎn)的研發(fā),。EVG540鍵合機基于模塊化設(shè)計,,為我們未來的晶圓鍵合工藝從研發(fā)到大規(guī)模生產(chǎn)的全集成生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)過渡提供了可靠的解決方案。特征單室鍵合機,,蕞/大基板尺寸為300mm與兼容的Smaiew®和MBA300自動處理多達四個鍵合卡盤符合高安全標準技術(shù)數(shù)據(jù)蕞/大加熱器尺寸300毫米裝載室使用2軸機器人蕞/高鍵合室2個EVG560鍵合機基于相同的鍵合室設(shè)計,,并結(jié)合了EVG手動鍵合系統(tǒng)的主要功能以及增強的過程控制和自動化功能,可提供高產(chǎn)量的生產(chǎn)鍵合,。機器人處理系統(tǒng)會自動加載和卸載處理室,。 EVG的鍵合機設(shè)備占據(jù)了半自動和全自動晶圓鍵合機的主要市場份額,并且安裝的機臺已經(jīng)超過1500套,。
晶圓級封裝是指在將要制造集成電路的晶圓分離成單獨的電路之前,,通過在每個電路周圍施加封裝來制造集成電路。由于在部件尺寸以及生產(chǎn)時間和成本方面的優(yōu)勢,,該技術(shù)在集成電路行業(yè)中迅速流行起來,。以此方式制造的組件被認為是芯片級封裝的一種。這意味著其尺寸幾乎與內(nèi)部電子電路所位于的裸片的尺寸相同,。集成電路的常規(guī)制造通常開始于將在其上制造電路的硅晶片的生產(chǎn),。通常將純硅錠切成薄片,稱為晶圓,,這是建立微電子電路的基礎(chǔ),。這些電路通過稱為晶圓切割的工藝來分離。分離后,,將它們封裝成單獨的組件,,然后將焊料引線施加到封裝上。 對于無夾層鍵合工藝,,材料和表面特征利于鍵合,,但為了與夾層結(jié)合,鍵合材料沉積和組成決定了鍵合線的材質(zhì),。甘肅鍵合機質(zhì)量怎么樣
在不需重新配置硬件的情況下,,EVG鍵合機可以在真空下執(zhí)行SOI/SDB(硅的直接鍵合)預(yù)鍵合。低溫鍵合機學(xué)校會用嗎
EVG®850鍵合機EVG®850鍵合機特征生產(chǎn)系統(tǒng)可在高通量,,高產(chǎn)量環(huán)境中運行自動盒帶間或FOUP到FOUP操作無污染的背面處理超音速和/或刷子清潔機械平整或缺口對準的預(yù)鍵合先進的遠程診斷技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)100-200,、150-300毫米全自動盒帶到盒帶操作預(yù)鍵合室對準類型:平面到平面或凹口到凹口對準精度:X和Y:±50μm,θ:±°結(jié)合力:ZUI高5N鍵合波起始位置:從晶圓邊緣到中心靈活真空系統(tǒng):9x10-2mbar(標準)和9x10-3mbar(渦輪泵選件)清潔站清潔方式:沖洗(標準),,超音速噴嘴,,超音速面積傳感器,,噴嘴,刷子(可選)腔室:由PP或PFA制成(可選)清潔介質(zhì):去離子水(標準),,NH4OH和H2O2(ZUI大),。2%濃度(可選)旋轉(zhuǎn)卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成旋轉(zhuǎn):ZUI高3000rpm,。 低溫鍵合機學(xué)校會用嗎