EVG ® 7200 LA特征：

專有SmartNIL ®技術(shù),，提供了****的印跡形大面積

經(jīng)過驗(yàn)證的技術(shù),，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長(zhǎng)母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強(qiáng)大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容

EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）

對(duì)準(zhǔn)：可選的光學(xué)對(duì)準(zhǔn)：≤±15 μm

自動(dòng)分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇,。EVG6200NT納米壓印推薦廠家

EVG ® 720自動(dòng)SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米,，設(shè)有EVG's專有SmartNIL ®技術(shù)

EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí)，能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu),。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu),，具有****的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,，例如衍射光學(xué)元件（ DOEs）,。

*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司,。也可以訪問官網(wǎng),，獲得更多信息。 步進(jìn)重復(fù)納米壓印技術(shù)支持EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線,。

HERCULES NIL 300 mm提供了市場(chǎng)上**的納米壓印功能,，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離,。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn),，包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)（AR / VR）頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備，3D傳感器,，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備,，納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。

HERCULES ® NIL特征：

全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺(tái),，具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)

特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足比較高要求

EVG520 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印,。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板,，并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容,。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍,。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。

如果需要詳細(xì)的信息,，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司,。 SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。

納米壓印光刻（NIL）技術(shù)

EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場(chǎng)**供應(yīng)商,。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝,，可用于生物MEMS,，微流體，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用,。

其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

詳細(xì)的參數(shù),，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司。

納米壓印設(shè)備可用來進(jìn)行熱壓花,、加壓加熱,、印章、聚合物,、基板,、附加沖壓成型脫模。大面積納米壓印中芯在用嗎

**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,，這對(duì)于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件（DOE）至關(guān)重要,。EVG6200NT納米壓印推薦廠家

    面板廠為補(bǔ)償較低的開口率，多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù),，但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高,。若運(yùn)用NIL制程，可確保適當(dāng)?shù)拈_口率,，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜,。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小,。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程,。不僅制程時(shí)間長(zhǎng),，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會(huì)形成細(xì)微的縫隙,，無法完整顯示影像,。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備,，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣,。在8代基板可制造6片55吋面板,，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示,，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程,，是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程,，偏光膜企業(yè)的營(yíng)收可能減少,。（來自網(wǎng)絡(luò)。EVG6200NT納米壓印推薦廠家