光源用于一般用途應(yīng)用之光源L思-DDT2可用在Filmetrics設(shè)備的光源具有氘燈-鎢絲與遠(yuǎn)端控制的快門(mén)來(lái)取代舊款HamamatsuD2光源L思-DLED1具有高亮度白光LED的光源光纖配件：CP-RepairToolKitCP-1-1.3接觸探頭是相當(dāng)堅(jiān)固的,，但是光纖不能經(jīng)常被抽屜碰撞或者被椅子壓過(guò),。該套件包括指令,，以及簡(jiǎn)單的維修工具,，新的和舊風(fēng)格的探頭,。FO-PAT-SMA-SMA-200-22米長(zhǎng),，直徑200um的光纖,，兩端配備SMA接頭,。FO-RP1-.25-SMA-200-1.32米長(zhǎng),，分叉反射探頭,。幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動(dòng)測(cè)繪。人工加載或機(jī)器人加載均可,。Thin film analyzer膜厚儀有哪些品牌

銦錫氧化物與透明導(dǎo)電氧化物液晶顯示器,，有機(jī)發(fā)光二極管變異體，以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導(dǎo)電氧化物(TCO)來(lái)傳輸電流,，并作每個(gè)發(fā)光元素的陽(yáng)極,。和任何薄膜工藝一樣，了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要,。對(duì)于液晶顯示器而言,，就需要有測(cè)量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法，對(duì)有機(jī)發(fā)光二極管而言,，則需要測(cè)量發(fā)光,、電注入和封裝層的厚度。在測(cè)量任何多個(gè)層次的時(shí)候,，諸如光譜反射率和橢偏儀之類(lèi)的光學(xué)技術(shù)需要測(cè)量或建模估算每一個(gè)層次的厚度和光學(xué)常數(shù)(反射率和k值),。不幸的是，使得氧化銦錫和其他透明導(dǎo)電氧化物在顯示器有用的特性,，同樣使這些薄膜層難以測(cè)量和建模,，從而使測(cè)量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難。Filmetrics的氧化銦錫解決方案Filmetrics已經(jīng)開(kāi)發(fā)出簡(jiǎn)便易行而經(jīng)濟(jì)有效的方法,，利用光譜反射率精確測(cè)量氧化銦錫,。將新型的氧化銦錫模式和F20-EXR,很寬的400-1700nm波長(zhǎng)相結(jié)合，從而實(shí)現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析,。氧化銦錫層的特性一旦得到確定,，剩余顯示層分析的關(guān)鍵就解決了,。玻璃膜厚儀技術(shù)支持厚度變化 (TTV) ；溝槽深度,；過(guò)孔尺寸,、深度、側(cè)壁角度,。

技術(shù)介紹：紅外干涉測(cè)量技術(shù),非接觸式測(cè)量,。采用Michaelson干涉方法，紅外波段的激光能更好的穿透被測(cè)物體,，準(zhǔn)確的得到測(cè)試結(jié)果,。產(chǎn)品簡(jiǎn)介：FSM413EC紅外干涉測(cè)量設(shè)備適用于所有可讓紅外線通過(guò)的材料：硅、藍(lán)寶石,、砷化鎵,、磷化銦、碳化硅,、玻璃,、石英、聚合物…………應(yīng)用:襯底厚度(不受圖案硅片,、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)平整度溝槽深度過(guò)孔尺寸、深度,、側(cè)壁角度粗糙度薄膜厚度硅片厚度環(huán)氧樹(shù)脂厚度襯底翹曲度晶圓凸點(diǎn)高度(bumpheight)MEMS薄膜測(cè)量TSV深度,、側(cè)壁角度...

樣品視頻包括硬件和照相機(jī)的F20系統(tǒng)視頻。視頻實(shí)時(shí)顯示精確測(cè)量點(diǎn),。 不包括SS-3平臺(tái),。SampleCam-sXsX探頭攝像機(jī)包含改裝的sX探頭光學(xué)配件，但不包含平臺(tái),。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺(tái)，具有SS-3鏡頭與38mm的精密XY平移聚焦平臺(tái),。能夠升級(jí)成電動(dòng)測(cè)繪與自動(dòng)對(duì)焦,。StageBase-XY10-Auto-100mm10“×10” 全電動(dòng)樣品平臺(tái)?？梢赃M(jìn)行100mm高精度XY平移,，包括自動(dòng)焦距調(diào)節(jié)。SS-Microscope- UVX-1顯微鏡（15倍反射式物鏡）及X-Y平臺(tái),。 包含UV光源與照明光纖,。SS-Microscope- EXR-1顯微鏡包含X- Y平臺(tái)及照明光纖. 需另選購(gòu)物鏡. 通常使用顯微鏡內(nèi)建照明。SS-Trans-Curved用于平坦或彎曲表面的透射平臺(tái),，包括光纖,，和 F10-AR 一起使用,。 波長(zhǎng)范圍 250nm -2500nm。T-1SS-3 平臺(tái)的透射測(cè)量可選件,。包括光纖,、平臺(tái)轉(zhuǎn)接器和平臺(tái)支架。 用于平坦的樣品,。WS-300用于小于 300mm 樣品的平移旋轉(zhuǎn)平臺(tái),。F50-EXR測(cè)厚范圍：20nm-250μm；波長(zhǎng)：380-1700nm,。

   其可測(cè)量薄膜厚度在1nm到1mm之間,，測(cè)量精度高達(dá)1埃，測(cè)量穩(wěn)定性高達(dá),，測(cè)量時(shí)間只需一到二秒,并有手動(dòng)及自動(dòng)機(jī)型可選,。可應(yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學(xué)（Biomedical）,液晶顯示(Displays),硬涂層(Hardcoats),金屬膜(Metal),眼鏡涂層(Ophthalmic),聚對(duì)二甲笨(Parylene),電路板(PCBs&PWBs),多孔硅(PorousSilicon),光阻材料(ThickResist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors),太陽(yáng)光伏(Solarphotovoltaics),真空鍍層(VacuumCoatings),圈筒檢查(Webinspectionapplications)等,。通過(guò)Filmetrics膜厚測(cè)量?jī)x*新反射式光譜測(cè)量技術(shù),*多4層透明薄膜厚度,、n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測(cè)得,。其應(yīng)用光泛,，例如:半導(dǎo)體工業(yè):光阻、氧化物,、氮化物,。LCD工業(yè):間距(cellgaps)，ito電極,、polyimide保護(hù)膜,。光電鍍膜應(yīng)用:硬化鍍膜、抗反射鍍膜,、過(guò)濾片,。極易操作、快速,、準(zhǔn)確,、機(jī)身輕巧及價(jià)格便宜為其主要優(yōu)點(diǎn)，F(xiàn)ilmetrics提供以下型號(hào)以供選擇:F20:這簡(jiǎn)單入門(mén)型號(hào)有三種不同波長(zhǎng)選擇(由220nm紫外線區(qū)至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型,，可以實(shí)現(xiàn)反射,、膜厚、n,、k值測(cè)量,。F30:這型號(hào)可安裝在任何真空鍍膜機(jī)腔體外的窗口?？蓪?shí)時(shí)監(jiān)控長(zhǎng)晶速度,、實(shí)時(shí)提供膜厚,、n、k值,。并可切定某一波長(zhǎng)或固定測(cè)量時(shí)間間距,。F3-sX 系列測(cè)厚范圍：10μm - 3mm；波長(zhǎng)：960-1580nm,。盒厚膜厚儀

測(cè)量SU-8 其它厚光刻膠的厚度有特別重要的應(yīng)用,。Thin film analyzer膜厚儀有哪些品牌

FSM360拉曼光譜系統(tǒng)FSM紫外光和可見(jiàn)光拉曼系統(tǒng),型號(hào)360FSM拉曼的應(yīng)用l局部應(yīng)力；l局部化學(xué)成分l局部損傷紫外光可測(cè)試的深度優(yōu)袖的薄膜（SOI或Si-SiGe）或者厚樣的近表面局部應(yīng)力可見(jiàn)光可測(cè)試的深度良好的厚樣以及多層樣品的局部應(yīng)力系統(tǒng)測(cè)試應(yīng)力的精度小于15mpa(0.03cm-1)全自動(dòng)的200mm和300mm硅片檢查自動(dòng)檢驗(yàn)和聚焦的能力,。以上的信息比較有限,，如果您有更加詳細(xì)的技術(shù)問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系我們的技術(shù)人員為您解答,?；蛘咴L問(wèn)我們的官網(wǎng)了解更多信息。Thin film analyzer膜厚儀有哪些品牌