光刻膠處理系統

EVG100系列光刻膠處理系統為光刻膠涂層和顯影建立了質量和靈活性方面的新標準,。EVG100系列的設計旨在提供**廣/泛的工藝變革,，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂，顯影,，烘烤和冷卻模塊，以滿足個性化生產需求,。這些系統可處理各種材料,，例如正性和負性光刻膠，聚酰亞胺,，薄光刻膠層的雙面涂層,，高粘度光刻膠和邊緣保護涂層。這些系統可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm,，矩形，正方形甚至不規(guī)則形狀的基板,，而無需或只需很短的加工時間,。

HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時、大間隙,、晶圓平面或紅外對準,，在可編程位置自動定位。中國香港本地光刻機

IQ Aligner®NT技術數據：

產能：

全自動：首/次生產量印刷：每小時200片

全自動：吞吐量對準：每小時160片晶圓

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲,，翹曲，晶圓邊緣處理

智能過程控制和數據分析功能（框架SW平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能

設備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米

對準方式：

頂部對準：≤±0,25 μm

底側對準：≤±0.5 μm

紅外對準：≤±2,0 μm /取決于基材 四川EVG620 NT光刻機研發(fā)設備與EVG的**技術平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產的整個制造鏈,。

EVG ® 101--先進的光刻膠處理系統

主要應用：研發(fā)和小規(guī)模生產中的單晶圓光刻膠加工

EVG101光刻膠處理系統在單腔設計中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝，與EVG的自動化系統完全兼容,。EVG101光刻膠處理機支持**/大300 mm的晶圓,，并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應用。通過EVG先進的OmniSpray涂層技術,，在互連技術的3D結構晶圓上獲得了光致光刻膠或聚合物的保形層,。這確保了珍貴的高粘度光刻膠或聚合物的材料消耗降低，同時提高了均勻性和光刻膠鋪展選擇,。這**地節(jié)省了用戶的成本,。

IQ Aligner特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /

8''

由于外部晶圓楔形測量，實現了非接觸式接近模式

增強的振動隔離,，有效減少誤差

各種對準功能提高了過程靈活性

跳動控制對準功能,，提高了效率

多種晶圓尺寸的易碎，薄或翹曲的晶圓處理

高地表形貌晶圓加工經驗

手動基板裝載能力

遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

IQ Aligner附加功能：

紅外對準–透射和/或反射

IQ Aligner技術數據：

楔形補償：全自動軟件控制

非接觸式

先進的對準功能：自動對準,；大間隙對準,；跳動控制對準；動態(tài)對準 所有系統均支持原位對準驗證的軟件,，可以提高手動操作系統的對準精度和可重復性,。

EVG曝光光學：專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件（REO）可提供高出50％的強度，并顯著提高/分辨率，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率,。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率,。EVG**/新的曝光光學增強功能是LED燈設置。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢,，因為不需要預熱或冷卻,。在用戶軟件界面中可以輕松、實際地完成曝光光譜設置,。此外，LED需要*在曝光期間供電,，并且該技術消除了對汞燈經常需要的額外設施（廢氣,，冷卻氣體）和更換燈的需要。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運行和維護成本,，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性,。HERCULES對準精度：上側對準：≤±0.5 μm；底側對準：≤±1,0 μm,；紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材,。中國澳門光刻機LED應用

EVG100光刻膠處理系統可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300 mm,。中國香港本地光刻機

     EV Group企業(yè)技術總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實：“我們看到支持晶圓級光學器件的設備需求正在急劇增加,。” “*從今年年初開始,，我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統,，以進行大批量生產。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領域市場***的地位,，同時創(chuàng)造了新興應用程序中有大量新機會,。”

      業(yè)界**的設備制造商**近宣布了擴大其傳感領域業(yè)務目標的計劃,，以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口,。根據市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法，下一代智能手機中正在設計十多種傳感器,。其中包括3D感測相機,，指紋傳感器，虹膜掃描儀,，激光二極管發(fā)射器,，激光測距儀和生物傳感器?？傮w而言,，光纖集線器預計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元，復合年增長率超過11％*。 中國香港本地光刻機

岱美儀器技術服務（上海）有限公司主要經營范圍是儀器儀表,，擁有一支專業(yè)技術團隊和良好的市場口碑,。公司自成立以來，以質量為發(fā)展,，讓匠心彌散在每個細節(jié),，公司旗下磁記錄，半導體,，光通訊生產,，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司秉持誠信為本的經營理念,，在儀器儀表深耕多年,，以技術為先導，以自主產品為重點,，發(fā)揮人才優(yōu)勢,，打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術服務立足于全國市場,，依托強大的研發(fā)實力,，融合前沿的技術理念，飛快響應客戶的變化需求,。