EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實：“我們看到支持晶圓級光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加,。” “*從今年年初開始,，我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng),，以進行大批量生產(chǎn),。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場***的地位，同時創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機會,?！?
業(yè)界**的設(shè)備制造商**近宣布了擴大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標(biāo)的計劃，以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口,。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,，下一代智能手機中正在設(shè)計十多種傳感器,。其中包括3D感測相機，指紋傳感器,，虹膜掃描儀,，激光二極管發(fā)射器，激光測距儀和生物傳感器,?？傮w而言,，光纖集線器預(yù)計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元，復(fù)合年增長率超過11％*,。 新型的EVG120帶有通用和全自動光刻膠處理工具,，能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基片。臺積電光刻機推薦型號
EVG120特征2：
先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能,，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量,；
工藝技術(shù)卓/越和開發(fā)服務(wù)：
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]
用于過程和機器控制的集成分析功能
設(shè)備和過程性能跟/蹤功能,；
并行/排隊任務(wù)處理功能；
智能處理功能,；
發(fā)生和警報分析,；
智能維護管理和跟/蹤,；
技術(shù)數(shù)據(jù)：
可用模塊；
旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā),；
烤/冷,；
晶圓處理選項：
單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn),；
彎曲/翹曲/薄晶圓處理。
臺積電光刻機推薦型號HERCULES平臺是“一站式服務(wù)”平臺,。
EVG120特征：
晶圓尺寸可達200毫米
超緊湊設(shè)計,，占用空間**小
**多2個涂布/顯影室和10個加熱/冷卻板
用于旋涂和噴涂，顯影,，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應(yīng)用領(lǐng)域提供了巨大的機會
化學(xué)柜,，用于化學(xué)品的外部存儲
EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術(shù)提供了****的處理結(jié)果，當(dāng)涉及到極端地形的保形涂層
CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性
Megasonic技術(shù)用于清潔,，聲波化學(xué)處理和顯影,，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘
EVG770自動UV-NIL納米壓印步進機，用于制作主圖章,。母模是晶圓大小的模板，里面完全裝有微透鏡模具,，每個模具都采用分步重復(fù)的方法從一個透鏡模板中復(fù)制,。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,，具有****的鏡片位置精度和**鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級相機模塊,。
IQ Aligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng)，用于UV微透鏡成型,。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素）的高度并行技術(shù),。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合,。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識,。
EVG40 NT自動測量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,，計量對于驗證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要,。在WLO制造中，EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸（CD）測量和透鏡疊層對準(zhǔn)驗證,，以及許多其他應(yīng)用,。 EVG光刻機的掩模對準(zhǔn)器和工藝能力經(jīng)過客戶現(xiàn)場驗證,，安裝并集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中。
EVG6200 NT特征：
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''
系統(tǒng)設(shè)計支持光刻工藝的多功能性
在第/一次光刻模式下的吞吐量高達180 WPH,，在自動對準(zhǔn)模式下的吞吐量高達140 WPH
易碎,，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短
帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列
自動原點功能,，用于對準(zhǔn)鍵的精確居中
具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準(zhǔn)功能
支持**/新的UV-LED技術(shù)
返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)
自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能
可以從半自動版本升級到全自動版本
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性
便捷處理和轉(zhuǎn)換重組
遠程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。LED光刻機中芯在用嗎
EVG鍵合機掩模對準(zhǔn)系列產(chǎn)品,，使用的是**/先進的工程工藝,。臺積電光刻機推薦型號
EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)：
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）
用于過程和機器控制的集成分析功能
并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能
設(shè)備和過程性能跟/蹤功能
智能處理功能：
事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤
晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米
模塊數(shù)：
工藝模塊：2
烘烤/冷卻模塊：**多10個
工業(yè)自動化功能：Ergo裝載盒式工作站/
SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口
分配選項：
各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000 cP的粘度
液體底漆/預(yù)濕/洗盤
去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）
恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)
電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能
可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸
超音波
臺積電光刻機推薦型號
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表，擁有一支專業(yè)技術(shù)團隊和良好的市場口碑,。公司自成立以來,，以質(zhì)量為發(fā)展,，讓匠心彌散在每個細節(jié)，公司旗下磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛,。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在儀器儀表深耕多年,，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點,，發(fā)揮人才優(yōu)勢,，打造儀器儀表良好品牌,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場,，依托強大的研發(fā)實力,，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應(yīng)客戶的變化需求,。