NIL300mmEV集團企業(yè)技術開發(fā)和知識產(chǎn)權總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻/納米壓印技術供應鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應用的開發(fā)周期和上市時間,。我們很高興與肖特公司合作,，證明EVG光刻/納米壓印技術解決方案的價值，不僅有助于新技術和新工藝的開發(fā),，還能夠加速新技術和新工藝在大眾市場中的采用,。我們正在攜手肖特開展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術設備和工藝的成熟性,，為各種令人興奮的基于光子學的新產(chǎn)品和新應用的300-mm制造奠定了基礎,。”SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設備的關鍵組件,，已經(jīng)實現(xiàn)了批量生產(chǎn),。產(chǎn)品組合提供了高達，支持深度沉浸的AR/MR應用,，視野更廣,，高達65度。在與增強現(xiàn)實硬件制造商進行多年研發(fā)之后,，肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?,。這款**產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽的2019年SID顯示行業(yè)獎（SIDDisplayIndustryAward2019）。關于肖特肖特是特種玻璃,、微晶玻璃和相關高科技材料領域的**國際技術集團,。公司積累了超過130年的經(jīng)驗，是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴,。EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商,。江西納米壓印研發(fā)可以用嗎

客戶示范

■工藝開發(fā)

■材料測試

■與合作伙伴共同研發(fā)

■資助項目

■小批量試生產(chǎn)

■IP管理

■過程技術許可證

■流程培訓

→世界前列的潔凈室基礎設施

→**的設備

→技術**

→**計量

→工藝知識

→應用知識

→與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業(yè)知識

新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,，并在顯示器,，生物技術和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步,。

本地納米壓印可以試用嗎EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝,。

為了優(yōu)化工藝鏈,，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石,，不需要額外的壓印印章制造設備,。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境,，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復制,。

通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位,。

*根據(jù)ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術,，具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,，固化時間**快

優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案,，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)

■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）

■結(jié)合了預處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術

■全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復使用工作印章

■具備工作印章制造能力

EVG®770：連續(xù)重復的納米壓印光刻技術,，可進行有效的母版制作

■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高 效母模制造,，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)

■不同類型的母版的簡單實現(xiàn)

■可變的光刻膠分配模式

■分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

■用于壓印和脫模的原位力控制

EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,，能夠輕松地適應各種材料組合,，以用于工作印模和微透鏡材料。

EVG ® 7200 LA特征：

專有SmartNIL ®技術,，提供了****的印跡形大面積

經(jīng)過驗證的技術,，具有出色的復制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容

EVG ® 7200 LA技術數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）

對準：可選的光學對準：≤±15 μm

自動分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。EV Group納米壓印學校會用嗎

EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng),。江西納米壓印研發(fā)可以用嗎

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

江西納米壓印研發(fā)可以用嗎

岱美儀器技術服務（上海）有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表,，擁有一支專業(yè)技術團隊和良好的市場口碑,。岱美儀器技術服務致力于為客戶提供良好的磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)，一切以用戶需求為中心,，深受廣大客戶的歡迎,。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在儀器儀表深耕多年,，以技術為先導,，以自主產(chǎn)品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造儀器儀表良好品牌,。岱美儀器技術服務立足于全國市場,，依托強大的研發(fā)實力，融合前沿的技術理念,，飛快響應客戶的變化需求,。