技術(shù)介紹：

紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量,。采用Michaelson干涉方法,，紅外波段的激光能更好的穿透被測物體,，準確的得到測試結(jié)果,。

產(chǎn)品簡介：FSM 413EC 紅外干涉測量設(shè)備

適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅、藍寶石,、砷化鎵,、磷化銦、碳化硅,、玻璃,、石  英、聚合物…………

應用:

   襯底厚度(不受圖案硅片,、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度   

溝槽深度

   過孔尺寸、深度,、側(cè)壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

硅片厚度

   環(huán)氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度,、側(cè)壁角度...

一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng)。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆,。盒厚膜厚儀有哪些品牌

    光刻膠）polyerlayers（高分子聚合物層）polymide（聚酰亞胺）polysilicon（多晶硅）amorphoussilicon（非晶硅）基底實例：對于厚度測量,，大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底,。對于光學常數(shù)測量,，需要一塊平整的鏡面反射基底；如果基底是透明的,，基底背面需要進行處理使之不能反射,。包括：silicon（硅）glass（玻璃）aluminum（鋁）gaas（砷化鎵）steel（鋼）polycarbonate（聚碳酸脂）polymerfilms（高分子聚合物膜）應用半導體制造液晶顯示器光學鍍膜photoresist光刻膠oxides氧化物nitrides氮化物cellgaps液晶間隙polyimide聚酰亞胺ito納米銦錫金屬氧化物hardnesscoatings硬鍍膜anti-reflectioncoatings增透鍍膜filters濾光f20使用**仿真活動來分析光譜反射率數(shù)據(jù)。標準配置和規(guī)格F20-UVF20F20-NIRF20-EXR只測試厚度1nm~40μm15nm~100μm100nm~250μm15nm~250μm測試厚度和n&k值50nmandup100nmandup300nmandup100nmandup波長范圍200-1100nm380-1100nm950-1700nm380-1700nm準確度大于％或2nm精度1A2A1A穩(wěn)定性光斑大小20μm至可選樣品大小1mm至300mm及更大探測器類型1250-元素硅陣列512-元素砷化銦鎵1000-元素硅&512-砷化銦鎵陣列光源鎢鹵素燈,。福建中科院膜厚儀基板材料: 如果薄膜位于粗糙基板 (大多數(shù)金屬) 上的話,，一般不能測量薄膜的折射率。

F3-sX 系列：

F3-sX 系列能測量半導體與介電層薄膜厚度到3毫米,而這種較厚的薄膜與較薄的薄膜相比往往粗糙且均勻度較為不佳

波長選配F3-sX系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,，即使有許多肉眼看來不透光(例如半導體),。 F3-s980 是波長為980奈米的版本，是為了針對成本敏銳的應用而設(shè)計,F3-s1310是針對重摻雜硅片的**jia化設(shè)計,F3-s1550則是為了**厚的薄膜設(shè)計,。附件附件包含自動化測繪平臺,，一個影像鏡頭可看到量測點的位置以及可選配可見光波長的功能使厚度測量能力**薄至15奈米。

F30 系列監(jiān)控薄膜沉積,，**強有力的工具F30 光譜反射率系統(tǒng)能實時測量沉積率,、沉積層厚度、光學常數(shù) (n 和 k 值) 和半導體以及電介質(zhì)層的均勻性,。

樣品層分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的,，或輕度吸收的薄膜。 這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料。

各項優(yōu)點:極大地提高生產(chǎn)力低成本 —幾個月就能收回成本A精確 — 測量精度高于 ±1%快速 — 幾秒鐘完成測量非侵入式 — 完全在沉積室以外進行測試易于使用 — 直觀的 Windows? 軟件幾分鐘就能準備好的系統(tǒng)

型號厚度范圍*波長范圍

F30:15nm-70μm 380-1050nm

F30-EXR:15nm - 250μm 380-1700nm

F30-NIR:100nm - 250μm 950-1700nm

F30-UV:3nm-40μm 190-1100nm

F30-UVX:3nm - 250μm 190-1700nm

F30-XT:0.2μm - 450μm1440-1690nm F30測厚范圍：15nm-70μm,；波長：380-1050nm,。

F3-CS：

Filmetrics的F3-CS 專門為了微小視野及微小樣品測量設(shè)計, 任何人從**操作到研&發(fā)人員都可以此簡易USB供電系統(tǒng)在數(shù)秒鐘內(nèi)測量如聚對二甲苯和真空鍍膜層厚度.

我們具專利的自動校正功能大幅縮短測量設(shè)置並可自動調(diào)節(jié)儀器的靈敏度, 使用免手持測量模式時, 只需簡單地將樣品面朝下放置在平臺上測量樣品 , 此時該系統(tǒng)已具備可測量數(shù)百種膜層所必要的一切設(shè)置不管膜層是否在透明或不透明基底上.

快速厚度測量可選配FILMeasure厚度測量軟件使厚度測量就像在平臺上放置你的樣品一樣容易, 軟件內(nèi)建所有常見的電介質(zhì)和半導體層（包括C，N和HT型聚對二甲苯）的光學常數(shù)(n和k）,厚度結(jié)果會及時的以直覺的測量結(jié)果顯示對于進階使用者,，可以進一步以F3-CS測量折射率, F3-CS可在任何運行Windows XP到 Windows8 64位作業(yè)系統(tǒng)的計算機上運行, USB電纜則提供電源和通信功能. FSM413SP半自動機臺人工取放芯片,。玻璃膜厚儀售后服務

紫外光可測試的深度：***的薄膜（SOI 或 Si-SiGe）或者厚樣的近表面局部應力。盒厚膜厚儀有哪些品牌

測量有機發(fā)光顯示器有機發(fā)光顯示器 (OLEDs)有機發(fā)光顯示器正迅速從實驗室轉(zhuǎn)向大規(guī)模生產(chǎn),。明亮,，超薄，動態(tài)的特性使它們成為從手機到電視顯示屏的優(yōu)先,。組成顯示屏的多層薄膜的精密測量非常重要,，但不能用傳統(tǒng)接觸型的輪廓儀，因為它會破壞顯示屏表面,。我們的F20-UV,，F(xiàn)40-UV，和F10-RT-UV將提供廉價,，可靠,，非侵入測量原型裝置和全像素化顯示屏。我們的光譜儀還可以測量大氣敏感材料的化學變化,。

測量透明導電氧化膜不論是銦錫氧化物,，氧化鋅，還是聚合物（3,4-乙烯基）,，我們獨有的ITO光學模型，加上可見/近紅外儀器,，可以測得厚度和光學常數(shù),，費用和操作難度*是光譜橢偏儀的一小部分。 盒厚膜厚儀有哪些品牌

岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司是一家磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務,，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務,，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司，是一家集研發(fā),、設(shè)計,、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司。公司自創(chuàng)立以來,，投身于磁記錄,，半導體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術(shù)服務始終以本分踏實的精神和必勝的信念,，影響并帶動團隊取得成功,。岱美儀器技術(shù)服務始終關(guān)注自身，在風云變化的時代,，對自身的建設(shè)毫不懈怠,，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務在行業(yè)的從容而自信。