對EVG WLO制造解決方案的需求在一定程度上是由對用于移動消費電子產(chǎn)品的新型光學傳感解決方案和設(shè)備的需求驅(qū)動的,。關(guān)鍵示例包括3D感測（對于獲得更真實的虛擬和增強現(xiàn)實（VR / AR）用戶體驗至關(guān)重要）,，生物特征感測（對于安全應(yīng)用而言越來越關(guān)鍵），環(huán)境感測,，紅外（IR）感測和相機陣列,。其他應(yīng)用包括智能手機中用于高級深度感應(yīng)以改善相機自動對焦性能的其他光學傳感器以及微型顯示器。

      EV Group企業(yè)技術(shù)開發(fā)兼IP總監(jiān)Markus Wimplinger表示：“毫無疑問,，晶圓級光學和3D傳感技術(shù)正在出現(xiàn)高度可持續(xù)的趨勢,。“由于在我們公司總部的NILPhotonics能力中心支持的大量正在進行的客戶項目,，我們預(yù)計在不久的將來將更***地使用該技術(shù),。” HERCULES對準精度：上側(cè)對準：≤±0.5 μm,；底側(cè)對準：≤±1,0 μm,；紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材。廣東EVG光刻機

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)

所述HERCULES ®是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統(tǒng)中,，縮小處理工序和操作者支持,。

HERCULES基于模塊化平臺,，將EVG建立的光學掩模對準技術(shù)與集成的晶圓清洗，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理,。HERCULES安全地處理厚,，彎曲度高，矩形,，小直徑的晶圓,，甚至可以處理設(shè)備托盤。精密的頂側(cè)和底側(cè)對準以及亞微米至超厚（**/大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應(yīng)用,。出色的對準臺設(shè)計可實現(xiàn)高產(chǎn)量的高精度對準和曝光結(jié)果,。

EVG6200光刻機可以免稅嗎只有以客戶的需求為導向，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力,。

EVG ® 610特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''

頂側(cè)和底側(cè)對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持**/新的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻（NIL）

EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù)：

對準方式

上側(cè)對準：≤±0.5 μm

底面要求：≤±2,0 μm

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

鍵對準：≤±2,0 μm

NIL對準：≤±2,0 μm

EVG ® 620 NT 掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準技術(shù)在**小化的占位面積,，支持高達150毫米晶圓尺寸。

技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,，在**小的占位面積上結(jié)合了先進的對準功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,，提供了**/先進的掩模對準技術(shù)。它是光學雙面光刻的理想工具,，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務(wù)和支持,，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。 EVG101光刻膠處理機可支持**/大300 mm的晶圓,。

光刻機軟件支持

基于Windows的圖形用戶界面的設(shè)計,，注重用戶友好性，并可輕松引導操作員完成每個流程步驟,。多語言支持,，單個用戶帳戶設(shè)置和集成錯誤記錄/報告和恢復(fù)，可以簡化用戶的日常操作,。所有EVG系統(tǒng)都可以遠程通信,。因此，我們的服務(wù)包括通過安全連接,，電話或電子郵件,，對包括經(jīng)過現(xiàn)場驗證的,，實時遠程診斷和排除故障。EVG經(jīng)驗豐富的工藝工程師隨時準備為您提供支持,，這得益于我們分散的全球支持機構(gòu),，包括三大洲的潔凈室空間：歐洲 (HQ), 亞洲 (日本) 和

北美 (美國). 只有接近客戶，才能得知客戶**真實的需求,，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。湖北EVG6200 NT光刻機

研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺無縫集成，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。廣東EVG光刻機

EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng),。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形，掩模對準器是**/具成本效益的技術(shù),，與其他解決方案相比,，每層可節(jié)省30％以上的成本，這對用戶來說是至關(guān)重要的,。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標準相結(jié)合,，并由卓/越的全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持。**重要的是,，大焦深曝光光學系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑,，表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),，得到了他們的無數(shù)好評。廣東EVG光刻機

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，是一家磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗豐富,、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,，半導體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心，為用戶帶來良好體驗,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場,，以敏銳的市場洞察力，實現(xiàn)與客戶的成長共贏,。