EVG的光刻機技術(shù)：EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對準器的高產(chǎn)能,，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識。EVG的所有光刻設(shè)備平臺均支持300毫米的晶圓,，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并配有用于從上到下的側(cè)面對準驗證的度量工具。

EVG不斷展望未來的市場趨勢,，因此提供了針對特定應(yīng)用的解決方案，尤其是在光學(xué)3D傳感和光子學(xué)市場中,，其****的EVG的工藝和材料專業(yè)知識-源自對各種光刻膠材料進行的廣/泛優(yōu)化研究。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素,。 EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準系統(tǒng)（自動化和半自動化）支持的晶圓尺寸 ：150 mm / 200 mm,。陜西高級封裝光刻機

EVG ® 610曝光源：

汞光源/紫外線LED光源

楔形補償

全自動軟件控制

晶圓直徑（基板尺寸）

高達100/150/200毫米

曝光設(shè)定：

真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式

曝光選項：

間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

先進的對準功能：

手動對準/原位對準驗證

手動交叉校正

大間隙對準

EVG ® 610光刻機系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR

實時遠程訪問，診斷和故障排除

使用的納米壓印光刻技術(shù)為“無紫外線” 陜西高級封裝光刻機所有系統(tǒng)均支持原位對準驗證的軟件,，可以提高手動操作系統(tǒng)的對準精度和可重復(fù)性。

EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品,，使用**/先進的工程技術(shù),。

用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關(guān)鍵參數(shù)決定。亞微米對準精度,，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,，以及對應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準,。此外,，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設(shè)計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù)。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念,，使我們能夠跳出思維框架，創(chuàng)造更先進的系統(tǒng),。

我們的研發(fā)實力,。

EVG已經(jīng)與研究機構(gòu)合作超過35年，讓我們深入了解他們的獨特需求,。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供卓/越的技術(shù)和**/大的靈活性,，使大學(xué),、研究機構(gòu)和技術(shù)開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應(yīng)用項目,。此外,，研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺無縫集成，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。研發(fā)和全/面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境,。以客戶的需求為導(dǎo)向，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力,。 除了光刻機之外,，岱美還代理了EVG的鍵合機等設(shè)備。

EVG ® 150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

附加模塊選項

預(yù)對準：光學(xué)/機械

ID讀取器：條形碼,，字母數(shù)字，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR EVG101光刻膠處理機可支持**/大300 mm的晶圓,。上海實驗室光刻機

在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),，并得到了他們的無數(shù)好評。陜西高級封裝光刻機

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)特征：

生產(chǎn)平臺以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢,；

多功能平臺支持各種形狀,，尺寸，高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動處理,；

高達52,000 cP的涂層可制造高度高達300微米的超厚光刻膠特征；

CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性,；

OmniSpray ®涂覆用于高地形表面的優(yōu)化的涂層,；

納流®涂布，并通過結(jié)構(gòu)的保護,；

自動面膜處理和存儲,；

光學(xué)邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒；

使用橋接工具系統(tǒng)對多種尺寸的晶圓進行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理；

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng),；

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）,。 陜西高級封裝光刻機

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,，致力于發(fā)展為創(chuàng)新務(wù)實、誠實可信的企業(yè),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年,，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,，既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長，又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,，實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場，以敏銳的市場洞察力,，實現(xiàn)與客戶的成長共贏。