參考材料
備用 BK7 和二氧化硅參考材料。
BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡
BG-F10-RT平臺系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡
REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準(zhǔn)
REF-Al-3mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準(zhǔn)
REF-BK71?" x 1?" BK7 反射基準(zhǔn),。
REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經(jīng)處理的石英,，用于雙界面基準(zhǔn)。
REF-Si-22" 單晶硅晶圓
REF-Si-44" 單晶硅晶圓
REF-Si-66" 單晶硅晶圓
REF-Si-88" 單晶硅晶圓
REF-SS3-Al專為SS-3樣品平臺設(shè)計之鋁反射率基準(zhǔn)片
REF-SS3-BK7專為SS-3樣品平臺設(shè)計之BK7玻璃反射率基準(zhǔn)片
REF-SS3-Si專為SS-3樣品平臺設(shè)計之硅反射率基準(zhǔn)片 F30樣品層:分子束外延和金屬有機化學(xué)氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的,，或輕度吸收的薄膜。防反射涂層膜厚儀樣品測試
FSM 413MOT 紅外干涉測量設(shè)備：
適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅,、藍寶石,、砷化鎵,、磷化銦、碳化硅,、玻璃,、石 英、聚合物…………
應(yīng)用:
襯底厚度(不受圖案硅片,、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)
平整度
厚度變化 (TTV)
溝槽深度
過孔尺寸、深度,、側(cè)壁角度
粗糙度
薄膜厚度
不同半導(dǎo)體材料的厚度
環(huán)氧樹脂厚度
襯底翹曲度
晶圓凸點高度(bump height)
MEMS 薄膜測量
TSV 深度,、側(cè)壁角度...
如果您想了解更多關(guān)于FSM膜厚儀的技術(shù)問題，請聯(lián)系我們岱美儀器,。 Filmetrics F3-CS膜厚儀**樣品測試幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動測繪,。人工加載或機器人加載均可。
技術(shù)介紹：
紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量,。采用Michaelson干涉方法,，紅外波段的激光能更好的穿透被測物體，準(zhǔn)確的得到測試結(jié)果,。
產(chǎn)品簡介：FSM 413EC 紅外干涉測量設(shè)備
適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅,、藍寶石、砷化鎵,、磷化銦,、碳化硅、玻璃,、石 英,、聚合物…………
應(yīng)用:
襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)
平整度
溝槽深度
過孔尺寸,、深度、側(cè)壁角度
粗糙度
薄膜厚度
硅片厚度
環(huán)氧樹脂厚度
襯底翹曲度
晶圓凸點高度(bump height)
MEMS 薄膜測量
TSV 深度,、側(cè)壁角度...
F40 系列將您的顯微鏡變成薄膜測量工具F40 產(chǎn)品系列用于測量小到 1 微米的光斑,。 對大多數(shù)顯微鏡而言，F(xiàn)40 能簡單地固定在 c 型轉(zhuǎn)接器上,，這樣的轉(zhuǎn)接器是顯微鏡行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)配件,。
F40 配備的集成彩色攝像機，能夠?qū)y量點進行準(zhǔn)確監(jiān)控,。 在 1 秒鐘之內(nèi)就能測定厚度和折射率,。 像我們所有的臺式儀器一樣，F(xiàn)40 需要連接到您裝有 Windows 計算機的 USB 端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)完成設(shè)定,。
F40：20nm-40μm 400-850nm
F40-EXR：20nm-120μm 400-1700nm
F40-NIR：40nm-120μm 950-1700nm
F40-UV：4nm-40μm 190-1100nm
F40-UVX：4nm-120μm 190-1700nm F3-sX系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,，即使有許多肉眼看來不透光(例如半導(dǎo)體)。
備用光源：
LAMP-TH1-5PAK：F10,、F20,、F30、F40,、F50,、和 F60 系統(tǒng)的非紫外光源。 5個/盒,。1200 小時平均無故障,。
LAMP-TH：F42F42 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障,。
LAMP-THF60：F60 系統(tǒng)的光源,。 1000 小時平均無故障。
LAMP-THF80：F80 系統(tǒng)的光源,。 1000 小時平均無故障,。
LAMP-D2-L10290：L10290 氘光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者,。
LAMP-TH-L10290：L10290 鎢鹵素光源,。 2007年到2014年F20-UV的使用者。
LAMP-D2-***T2：***T2光源需更換氘燈, 而鹵素?zé)艄庠葱韪鼡Q使用LAMP-TH1-5PAK. 當(dāng)測量斑點只有1微米（μm）時,，需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統(tǒng),。反射率膜厚儀技術(shù)支持
適用于所有可讓紅外線通過的材料 硅、藍寶石,、砷化鎵,、磷化銦、碳化硅,、玻璃,、石 英、聚合物等,。防反射涂層膜厚儀樣品測試
不管您參與對顯示器的基礎(chǔ)研究還是制造,，F(xiàn)ilmetrics 都能夠提供您所需要的...測量液晶層- 聚酰亞胺、硬涂層,、液晶,、間隙測量有機發(fā)光二極管層- 發(fā)光、電注入,、緩沖墊,、封裝對于空白樣品，我們建議使用 F20 系列儀器,。 對于圖案片,，F(xiàn)ilmetrics的F40用于測量薄膜厚度已經(jīng)找到了顯示器應(yīng)用***使用,。
測量范例此案例中，我們成功地測量了藍寶石和硼硅玻璃基底上銦錫氧化物薄膜厚度,。與Filmetrics專有的ITO擴散模型結(jié)合的F10-RTA-EXR儀器,，可以很容易地在380納米到1700納米內(nèi)同時測量透射率和反射率以確定厚度，折射率,，消光系數(shù),。由于ITO薄膜在各種基底上不同尋常的的擴散，這個擴展的波長范圍是必要的,。 防反射涂層膜厚儀樣品測試
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，以科技創(chuàng)新實現(xiàn)***管理的追求。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗豐富,、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊,，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)不斷開拓創(chuàng)新,，追求出色,，以技術(shù)為先導(dǎo)，以產(chǎn)品為平臺,，以應(yīng)用為重點,，以服務(wù)為保證，不斷為客戶創(chuàng)造更高價值,，提供更優(yōu)服務(wù),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身，在風(fēng)云變化的時代,，對自身的建設(shè)毫不懈怠,，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信。