我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。

我們的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對(duì)準(zhǔn)到鍵合對(duì)準(zhǔn)的快速簡(jiǎn)便轉(zhuǎn)換。此外,，可以使用用于壓印光刻的可選工具集,，例如UV-納米壓印光刻，熱壓印或微接觸印刷,。所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證軟件,，以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動(dòng)到自動(dòng)基片處理,，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)升級(jí),。此外,，所有掩模對(duì)準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù)。如果您需要納米壓印設(shè)備，請(qǐng)?jiān)L問我們的官網(wǎng),，或者直接聯(lián)系我們,。 只有接近客戶,，才能得知客戶**真實(shí)的需求,，這是我們一直時(shí)刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。四川光刻機(jī)供應(yīng)商家

EVG120光刻膠自動(dòng)處理系統(tǒng)附加模塊選項(xiàng)

預(yù)對(duì)準(zhǔn)：光學(xué)/機(jī)械

ID讀取器：條形碼,，字母數(shù)字,，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問，診斷和故障排除

多語(yǔ)言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT，JP,，KR

分配選項(xiàng)：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

傳感器光刻機(jī)可以試用嗎研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺(tái)無縫集成，這些平臺(tái)涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個(gè)制造鏈,。

EVG光刻機(jī)簡(jiǎn)介

EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),，可以在頂部和雙面光刻，對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),。EVG通過不斷開發(fā)掩模對(duì)準(zhǔn)器來為這些領(lǐng)域做出貢獻(xiàn),，以增強(qiáng)**重要的光刻技術(shù)。EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)是容納高達(dá)300 mm的不同的尺寸,，形狀和厚度的晶圓和基片,，同時(shí)為高級(jí)應(yīng)用提供高科技含量的有效解決方案，并為研發(fā)提供充分的靈活可選性,。EVG光刻機(jī)的掩模對(duì)準(zhǔn)器和工藝能力經(jīng)過現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證,，安裝并完美集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中，可在眾多應(yīng)用場(chǎng)景中找到,，包括高級(jí)封裝,，化合物半導(dǎo)體，功率器件,，LED，傳感器和MEMS,。

曝光光學(xué)：提供不同配置的曝光光學(xué)系統(tǒng),，旨在實(shí)現(xiàn)任何應(yīng)用的**/大靈活性,。汞燈曝光光學(xué)系統(tǒng)針對(duì)150，200和300 mm基片進(jìn)行了優(yōu)化,，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,，例如i-，g-和h-線濾光片，甚至還有深紫外線,。 EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),。

光刻膠處理系統(tǒng)

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標(biāo)準(zhǔn)。EVG100系列的設(shè)計(jì)旨在提供**廣/泛的工藝變革,，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂,，顯影，烘烤和冷卻模塊,，以滿足個(gè)性化生產(chǎn)需求,。這些系統(tǒng)可處理各種材料，例如正性和負(fù)性光刻膠,，聚酰亞胺,，薄光刻膠層的雙面涂層，高粘度光刻膠和邊緣保護(hù)涂層,。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm，矩形,，正方形甚至不規(guī)則形狀的基板,，而無需或只需很短的加工時(shí)間。

HERCULES以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對(duì)準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢(shì),。吉林EVG6200光刻機(jī)

EVG610 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),，支持的晶圓尺寸：100 mm / 150 mm / 200 mm。四川光刻機(jī)供應(yīng)商家

IQ Aligner®NT曝光設(shè)定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補(bǔ)償：全自動(dòng)軟件控制,；非接觸式

IQ Aligner®NT曝光選項(xiàng)：間隔曝光/洪水曝光

先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能：自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)

暗場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)功能/完整的明場(chǎng)掩模移動(dòng)（FCMM）

大間隙對(duì)準(zhǔn)

跳動(dòng)控制對(duì)準(zhǔn)

IQ Aligner®NT系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語(yǔ)言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR

實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除

如果您需要確認(rèn)準(zhǔn)確的產(chǎn)品的信息,，請(qǐng)聯(lián)系我們。如果需要鍵合機(jī),，請(qǐng)看官網(wǎng)信息,。 四川光刻機(jī)供應(yīng)商家

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司,。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測(cè)試儀器的批發(fā)等,，目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力,，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí),，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊,、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先,、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營(yíng)理念,，全力打造公司的重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力。