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HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù):
對(duì)準(zhǔn)方式:
上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 μm,;
底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0 μm,;
紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基材
先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:
手動(dòng)對(duì)準(zhǔn);
自動(dòng)對(duì)準(zhǔn),;
動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn),。
對(duì)準(zhǔn)偏移校正:
自動(dòng)交叉校正/手動(dòng)交叉校正;
大間隙對(duì)準(zhǔn),。
工業(yè)自動(dòng)化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,,彎曲,翹曲,,邊緣晶圓處理
曝光源:汞光源/紫外線LED光源
曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補(bǔ)償:全自動(dòng)軟件控制;非接觸式
曝光選項(xiàng):
間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光
系統(tǒng)控制
操作系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 程序和參數(shù)
多語(yǔ)言用戶(hù)GUI和支持:CN,,DE,,F(xiàn)R,IT,,JP,,KR
實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除 EVG鍵合機(jī)掩模對(duì)準(zhǔn)系列產(chǎn)品,,使用的是**/先進(jìn)的工程工藝,。山東微流體光刻機(jī)
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù):
可用模塊:旋涂/ OmniSpray ® /開(kāi)發(fā)
分配選項(xiàng):
各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度,;
液體底漆/預(yù)濕/洗盤(pán),;
去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR);
恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng),。
智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架軟件平臺(tái))
用于過(guò)程和機(jī)器控制的集成分析功能
并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能,,提高效率
設(shè)備和過(guò)程性能跟/蹤功能:智能處理功能;事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤
晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)300毫米
福建光刻機(jī)用于生物芯片EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(自動(dòng)化和半自動(dòng)化)支持的晶圓尺寸 :150 mm / 200 mm,。
EVG曝光光學(xué):專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)的分辨率增強(qiáng)型光學(xué)元件(REO)可提供高出50%的強(qiáng)度,,并顯著提高/分辨率,在接近模式下可達(dá)到小于3μm的分辨率,。REO的特殊設(shè)計(jì)有助于控制干涉效應(yīng)以獲得分辨率,。EVG**/新的曝光光學(xué)增強(qiáng)功能是LED燈設(shè)置,。低能耗和長(zhǎng)壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢(shì),因?yàn)椴恍枰A(yù)熱或冷卻,。在用戶(hù)軟件界面中可以輕松,、實(shí)際地完成曝光光譜設(shè)置。此外,,LED需要*在曝光期間供電,,并且該技術(shù)消除了對(duì)汞燈經(jīng)常需要的額外設(shè)施(廢氣,冷卻氣體)和更換燈的需要,。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運(yùn)行和維護(hù)成本,,還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性。
EVG ® 610特征:
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''
頂側(cè)和底側(cè)對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持**/新的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶(hù)概念(無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序,,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,,不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言)
便捷處理和轉(zhuǎn)換重組
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
EVG ® 610附加功能:
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
納米壓印光刻(NIL)
EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù):
對(duì)準(zhǔn)方式
上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 μm
底面要求:≤±2,0 μm
紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基板材料
鍵對(duì)準(zhǔn):≤±2,0 μm
NIL對(duì)準(zhǔn):≤±2,0 μm EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻,。
EVG光刻機(jī)簡(jiǎn)介
EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),,可以在頂部和雙面光刻,對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開(kāi)創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),。EVG通過(guò)不斷開(kāi)發(fā)掩模對(duì)準(zhǔn)器來(lái)為這些領(lǐng)域做出貢獻(xiàn),,以增強(qiáng)**重要的光刻技術(shù)。EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)是容納高達(dá)300 mm的不同的尺寸,,形狀和厚度的晶圓和基片,,同時(shí)為高級(jí)應(yīng)用提供高科技含量的有效解決方案,并為研發(fā)提供充分的靈活可選性,。EVG光刻機(jī)的掩模對(duì)準(zhǔn)器和工藝能力經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證,,安裝并完美集成在全球各地的用戶(hù)系統(tǒng)中,可在眾多應(yīng)用場(chǎng)景中找到,,包括高級(jí)封裝,,化合物半導(dǎo)體,功率器件,,LED,,傳感器和MEMS。 只有接近客戶(hù),,才能得知客戶(hù)**真實(shí)的需求,,這是我們一直時(shí)刻與客戶(hù)保持聯(lián)系的原因之一。官方授權(quán)經(jīng)銷(xiāo)光刻機(jī)價(jià)格怎么樣
EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新的標(biāo)準(zhǔn),。山東微流體光刻機(jī)
EVG鍵合機(jī)掩模對(duì)準(zhǔn)系列產(chǎn)品,,使用**/先進(jìn)的工程技術(shù)。
用戶(hù)對(duì)接近式對(duì)準(zhǔn)器的主要需求由幾個(gè)關(guān)鍵參數(shù)決定。亞微米對(duì)準(zhǔn)精度,,掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,,以及對(duì)應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標(biāo)準(zhǔn)。此外,,整個(gè)晶圓表面的高光強(qiáng)度和均勻性是設(shè)計(jì)和不斷增強(qiáng)EVG掩模對(duì)準(zhǔn)器產(chǎn)品組合時(shí)需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動(dòng)了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念,使我們能夠跳出思維框架,,創(chuàng)造更先進(jìn)的系統(tǒng),。 山東微流體光刻機(jī)
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,現(xiàn)有一支專(zhuān)業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),,各種專(zhuān)業(yè)設(shè)備齊全,。致力于創(chuàng)造***的產(chǎn)品與服務(wù),以誠(chéng)信,、敬業(yè),、進(jìn)取為宗旨,以建岱美儀器技術(shù)服務(wù)產(chǎn)品為目標(biāo),,努力打造成為同行業(yè)中具有影響力的企業(yè),。公司堅(jiān)持以客戶(hù)為中心、磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口,、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】市場(chǎng)為導(dǎo)向,,重信譽(yù),保質(zhì)量,,想客戶(hù)之所想,,急用戶(hù)之所急,,全力以赴滿(mǎn)足客戶(hù)的一切需要。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以質(zhì)量為發(fā)展,,把顧客的滿(mǎn)意作為公司發(fā)展的動(dòng)力,,致力于為顧客帶來(lái)***的磁記錄,半導(dǎo)體,,光通訊生產(chǎn),,測(cè)試儀器的批發(fā)。