HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù):
對準方式:
上側(cè)對準:≤±0.5 μm,;
底側(cè)對準:≤±1,0 μm,;
紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基材
先進的對準功能:
手動對準;
自動對準,;
動態(tài)對準,。
對準偏移校正:
自動交叉校正/手動交叉校正,;
大間隙對準。
工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,,彎曲,,翹曲,,邊緣晶圓處理
曝光源:汞光源/紫外線LED光源
曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補償:全自動軟件控制;非接觸式
曝光選項:
間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光
系統(tǒng)控制
操作系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)
多語言用戶GUI和支持:CN,,DE,,F(xiàn)R,IT,,JP,,KR
實時遠程訪問,診斷和故障排除 EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品,,使用的是**/先進的工程工藝,。山東微流體光刻機
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù):
可用模塊:旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā)
分配選項:
各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000 cP的粘度,;
液體底漆/預濕/洗盤,;
去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR);
恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng),。
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架軟件平臺)
用于過程和機器控制的集成分析功能
并行任務/排隊任務處理功能,,提高效率
設備和過程性能跟/蹤功能:智能處理功能;事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤
晶圓直徑(基板尺寸):高達300毫米
福建光刻機用于生物芯片EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準系統(tǒng)(自動化和半自動化)支持的晶圓尺寸 :150 mm / 200 mm,。
EVG曝光光學:專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件(REO)可提供高出50%的強度,并顯著提高/分辨率,,在接近模式下可達到小于3μm的分辨率,。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率。EVG**/新的曝光光學增強功能是LED燈設置,。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢,,因為不需要預熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松,、實際地完成曝光光譜設置,。此外,LED需要*在曝光期間供電,,并且該技術(shù)消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設施(廢氣,,冷卻氣體)和更換燈的需要。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運行和維護成本,,還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性,。
EVG ® 610特征:
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''
頂側(cè)和底側(cè)對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持**/新的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,,不同的用戶界面語言)
便捷處理和轉(zhuǎn)換重組
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 610附加功能:
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻(NIL)
EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù):
對準方式
上側(cè)對準:≤±0.5 μm
底面要求:≤±2,0 μm
紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基板材料
鍵對準:≤±2,0 μm
NIL對準:≤±2,0 μm EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng),,可以在頂部和雙面光刻。
EVG光刻機簡介
EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng),,可以在頂部和雙面光刻,,對準晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標準,。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領域做出貢獻,以增強**重要的光刻技術(shù),。EVG的掩模對準目標是容納高達300 mm的不同的尺寸,,形狀和厚度的晶圓和基片,同時為高級應用提供高科技含量的有效解決方案,,并為研發(fā)提供充分的靈活可選性,。EVG光刻機的掩模對準器和工藝能力經(jīng)過現(xiàn)場驗證,安裝并完美集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,,可在眾多應用場景中找到,,包括高級封裝,化合物半導體,,功率器件,,LED,傳感器和MEMS,。 只有接近客戶,,才能得知客戶**真實的需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。官方授權(quán)經(jīng)銷光刻機價格怎么樣
EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新的標準,。山東微流體光刻機
EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品,使用**/先進的工程技術(shù),。
用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關(guān)鍵參數(shù)決定,。亞微米對準精度,掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,,以及對應于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準,。此外,整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務的發(fā)展和提升我們的理念,,使我們能夠跳出思維框架,創(chuàng)造更先進的系統(tǒng),。 山東微流體光刻機
岱美儀器技術(shù)服務(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團隊,各種專業(yè)設備齊全,。致力于創(chuàng)造***的產(chǎn)品與服務,,以誠信、敬業(yè),、進取為宗旨,,以建岱美儀器技術(shù)服務產(chǎn)品為目標,努力打造成為同行業(yè)中具有影響力的企業(yè),。公司堅持以客戶為中心,、磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務,國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務,國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】市場為導向,,重信譽,保質(zhì)量,,想客戶之所想,,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要,。岱美儀器技術(shù)服務始終以質(zhì)量為發(fā)展,把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動力,,致力于為顧客帶來***的磁記錄,,半導體,光通訊生產(chǎn),,測試儀器的批發(fā),。