HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù)：

對準方式：

上側(cè)對準：≤±0.5 μm,；

底側(cè)對準：≤±1,0 μm,；

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材

先進的對準功能：

手動對準；

自動對準,；

動態(tài)對準,。

對準偏移校正：

自動交叉校正/手動交叉校正,；

大間隙對準。

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理

曝光源：汞光源/紫外線LED光源

曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動軟件控制；非接觸式

曝光選項：

間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR

實時遠程訪問，診斷和故障排除 EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品,，使用的是**/先進的工程工藝,。山東微流體光刻機

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)：

可用模塊：旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā)

分配選項：

各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000 cP的粘度,；

液體底漆/預濕/洗盤,；

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）；

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng),。

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能,，提高效率

設備和過程性能跟/蹤功能：智能處理功能；事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米

福建光刻機用于生物芯片EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準系統(tǒng)（自動化和半自動化）支持的晶圓尺寸 ：150 mm / 200 mm,。

EVG曝光光學：專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件（REO）可提供高出50％的強度，并顯著提高/分辨率,，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率,。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率。EVG**/新的曝光光學增強功能是LED燈設置,。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢,，因為不需要預熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松,、實際地完成曝光光譜設置,。此外，LED需要*在曝光期間供電,，并且該技術(shù)消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設施（廢氣,，冷卻氣體）和更換燈的需要。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運行和維護成本,，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性,。

EVG ® 610特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''

頂側(cè)和底側(cè)對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持**/新的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻（NIL）

EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù)：

對準方式

上側(cè)對準：≤±0.5 μm

底面要求：≤±2,0 μm

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

鍵對準：≤±2,0 μm

NIL對準：≤±2,0 μm EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng),，可以在頂部和雙面光刻。

EVG光刻機簡介

EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng),，可以在頂部和雙面光刻,，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標準,。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領域做出貢獻，以增強**重要的光刻技術(shù),。EVG的掩模對準目標是容納高達300 mm的不同的尺寸,，形狀和厚度的晶圓和基片，同時為高級應用提供高科技含量的有效解決方案,，并為研發(fā)提供充分的靈活可選性,。EVG光刻機的掩模對準器和工藝能力經(jīng)過現(xiàn)場驗證，安裝并完美集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,，可在眾多應用場景中找到,，包括高級封裝，化合物半導體,，功率器件,，LED，傳感器和MEMS,。 只有接近客戶,，才能得知客戶**真實的需求，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。官方授權(quán)經(jīng)銷光刻機價格怎么樣

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新的標準,。山東微流體光刻機

EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品，使用**/先進的工程技術(shù),。

用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關(guān)鍵參數(shù)決定,。亞微米對準精度，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,，以及對應于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準,。此外，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務的發(fā)展和提升我們的理念,，使我們能夠跳出思維框架，創(chuàng)造更先進的系統(tǒng),。 山東微流體光刻機

岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,，現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團隊，各種專業(yè)設備齊全,。致力于創(chuàng)造***的產(chǎn)品與服務,，以誠信、敬業(yè),、進取為宗旨,，以建岱美儀器技術(shù)服務產(chǎn)品為目標，努力打造成為同行業(yè)中具有影響力的企業(yè),。公司堅持以客戶為中心,、磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】市場為導向,，重信譽，保質(zhì)量,，想客戶之所想,，急用戶之所急，全力以赴滿足客戶的一切需要,。岱美儀器技術(shù)服務始終以質(zhì)量為發(fā)展，把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動力,，致力于為顧客帶來***的磁記錄,，半導體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。