EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng)。對于在微米范圍內的光刻圖形,，掩模對準器是**/具成本效益的技術,，與其他解決方案相比,，每層可節(jié)省30％以上的成本，這對用戶來說是至關重要的,。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術標準相結合,，并由卓/越的全球服務基礎設施提供支持。**重要的是,，大焦深曝光光學系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑,，表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內,，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),，得到了他們的無數(shù)好評。EVG的CoverSpin TM旋轉蓋可降低光刻膠消耗,，并提高光刻膠涂層的均勻性,。陜西**光刻機
IQ Aligner工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理
晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米
對準方式：
上側對準：≤±0.5 μm
底側對準：≤±1,0 μm
紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料
曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
曝光選項：間隔曝光/洪水曝光
系統(tǒng)控制
操作系統(tǒng)：Windows
文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)
多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR
實時遠程訪問，診斷和故障排除
產(chǎn)能
全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時85片
全自動：吞吐量對準：每小時80片 EVG620光刻機供應商家EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm,。
IQ Aligner®NT自動掩模對準系統(tǒng)
特色：IQ Aligner®在**/高吞吐量NT經(jīng)過優(yōu)化零協(xié)助非接觸式近程處理,。
技術數(shù)據(jù)：IQ Aligner NT是用于大批量應用的生產(chǎn)力**/高,，技術**/先進的自動掩模對準系統(tǒng)。該系統(tǒng)具有**/先進的打印間隙控制和零輔助雙尺寸晶圓處理能力,，可完全滿足大批量制造（HVM）的需求,。與EVG的上一代IQ
Aligner系統(tǒng)相比，它的吞吐量提高了2倍,，對準精度提高了2倍,，是所有掩模對準器中**/高的吞吐量。IQ Aligner NT超越了對后端光刻應用**苛刻的要求,，同時與競爭性系統(tǒng)相比,，其掩模成本降低了30％，而競爭系統(tǒng)超出了掩模對準工具所支持的**/高吞吐量,。
EVG620 NT技術數(shù)據(jù)：
曝光源：
汞光源/紫外線LED光源
先進的對準功能：
手動對準/原位對準驗證
自動對準
動態(tài)對準/自動邊緣對準
對準偏移校正算法
EVG620 NT產(chǎn)量:
全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時180片
全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓
晶圓直徑（基板尺寸）：高達150毫米
對準方式：
上側對準：≤±0.5 μm
底側對準：≤±1,0 μm
紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材
鍵對準：≤±2,0 μm
NIL對準：≤±3.0 μm
曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補償：全自動軟件控制
曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光
系統(tǒng)控制：
操作系統(tǒng)：Windows
文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)
多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR
實時遠程訪問，診斷和故障排除
工業(yè)自動化功能：
盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲,，翹曲，邊緣晶圓處理
納米壓印光刻技術：SmartNIL ® 研發(fā)設備與EVG的**技術平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。
IQ Aligner® 自動化掩模對準系統(tǒng)
特色：EVG ® IQ定位儀®平臺用于自動非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達200毫米。
技術數(shù)據(jù)：IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺,，可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至**/低并增加掩模壽命和產(chǎn)品良率的需求,。除了多種對準功能外，該系統(tǒng)還通過專門配置進行了廣/泛的安裝和現(xiàn)場驗證,，可自動處理和處理翹曲或變薄的晶圓,。標準的頂側或底側對準與集成的IR對準功能之間的混合匹配操作進一步拓寬了應用領域，尤其是在與工程或粘合基板對準時,。該系統(tǒng)還通過快速響應的溫度控制工具集支持晶片對準跳動控制,。 EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質量和靈活性方面的新的標準,。LED光刻機美元報價
EVG610 掩模對準系統(tǒng),，支持的晶圓尺寸：100 mm / 150 mm / 200 mm,。陜西**光刻機
EVG6200 NT特征：
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''
系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性
在第/一次光刻模式下的吞吐量高達180 WPH，在自動對準模式下的吞吐量高達140 WPH
易碎,，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,，更換時間短
帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列
自動原點功能,，用于對準鍵的精確居中
具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能
支持**/新的UV-LED技術
返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)
自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能
可以從半自動版本升級到全自動版本
**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性
便捷處理和轉換重組
遠程技術支持和SECS / GEM兼容性
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 陜西**光刻機
岱美儀器技術服務（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，是一家磁記錄、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易,、轉口貿(mào)易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易、轉口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,。岱美儀器技術服務作為磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易,、轉口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易、轉口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的企業(yè)之一，為客戶提供良好的磁記錄,，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術服務繼續(xù)堅定不移地走高質量發(fā)展道路,，既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,，又要聚焦關鍵領域,，實現(xiàn)轉型再突破。岱美儀器技術服務創(chuàng)始人陳玲玲,，始終關注客戶,，創(chuàng)新科技,，竭誠為客戶提供良好的服務。