客戶(hù)示范

■工藝開(kāi)發(fā)

■材料測(cè)試

■與合作伙伴共同研發(fā)

■資助項(xiàng)目

■小批量試生產(chǎn)

■IP管理

■過(guò)程技術(shù)許可證

■流程培訓(xùn)

→世界前列的潔凈室基礎(chǔ)設(shè)施

→**的設(shè)備

→技術(shù)**

→**計(jì)量

→工藝知識(shí)

→應(yīng)用知識(shí)

→與NIL的工作印模材料和表面化學(xué)有關(guān)的化學(xué)專(zhuān)業(yè)知識(shí)

新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān),。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器,，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新,。

岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí),。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。

EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場(chǎng)**設(shè)備供應(yīng)商,。中芯國(guó)際納米壓印用途

HERCULES ® NIL特征：

全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺(tái),，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過(guò)程和模板

HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線(xiàn)）> 400 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米

自動(dòng)分離：支持的

前處理：提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

三維芯片納米壓印用途是什么EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),。

    該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世,。根據(jù)客戶(hù)的專(zhuān)門(mén)需求，公司對(duì)這些聚合物作出調(diào)整,，使其具備其它特征,。它們極其適合工業(yè)環(huán)境，在較短的生產(chǎn)周期時(shí)間內(nèi)粘合各種微小的元件,。此外,，DELO紫外線(xiàn)LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商,，總部位于德國(guó)慕尼黑附近的Windach,。在美國(guó)、中國(guó),、新加坡及日本均設(shè)有子公司,。2019財(cái)政年，公司的780名員工創(chuàng)造了,。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用于汽車(chē),、消費(fèi)類(lèi)電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機(jī)與超過(guò)一半的汽車(chē)上都使用該公司產(chǎn)品,。DELO的客戶(hù)包括博世,、戴姆勒,、華為、歐司朗,、西門(mén)子以及索尼等,。關(guān)于EVGroup(EVG)EV集團(tuán)(EVG)是為生產(chǎn)半導(dǎo)體,、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),、化合物半導(dǎo)體、功率器件以及納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的**供應(yīng)商,。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合,、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(shù)（NIL）與計(jì)量設(shè)備,，,，以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)與檢測(cè)系統(tǒng),。EV集團(tuán)創(chuàng)辦于1980年,，可為遍及全球的眾多客戶(hù)與合作伙伴提供各類(lèi)服務(wù)與支持。

EVG ® 720特征：

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),，具有出色的復(fù)制保真度

專(zhuān)有SmartNIL ®技術(shù),，多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式

可選的頂部對(duì)準(zhǔn)

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開(kāi)放平臺(tái)

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性

系統(tǒng)外殼,，可實(shí)現(xiàn)比較好過(guò)程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線(xiàn)）> 400 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn)：可選的頂部對(duì)準(zhǔn)

自動(dòng)分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有： EVG?610,，EVG?620NT，EVG?6200NT,，EVG?720,，EVG?7200等。

EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案

納米壓印光刻的介紹：

EV Group是納米壓印光刻（NIL）的市場(chǎng)**設(shè)備供應(yīng)商,。EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,，掌握了NIL并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專(zhuān)有SmartNIL技術(shù)通過(guò)多年的研究,，開(kāi)發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,，以解決常規(guī)光刻無(wú)法滿(mǎn)足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果,。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí),。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步,。

**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度，這對(duì)于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件（DOE）至關(guān)重要,。EVG510 HE納米壓印推薦型號(hào)

EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng),。中芯國(guó)際納米壓印用途

    具體說(shuō)來(lái)就是,，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng)，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來(lái)或正或負(fù)的電荷）,，以確?？绺鹘M件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上,，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的,。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方,，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,，并導(dǎo)致性能下降。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖,。不過(guò)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué),、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等）,，開(kāi)發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù),。研究人員通過(guò)電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形，從而帶來(lái)更加“物理可控”的生產(chǎn)過(guò)程,。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò),。中芯國(guó)際納米壓印用途

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶(hù)提供良好的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測(cè)試儀器的批發(fā),，一切以用戶(hù)需求為中心，深受廣大客戶(hù)的歡迎,。公司秉持誠(chéng)信為本的經(jīng)營(yíng)理念,，在儀器儀表深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo),，以自主產(chǎn)品為重點(diǎn),，發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì)，打造儀器儀表良好品牌,。在社會(huì)各界的鼎力支持下,，持續(xù)創(chuàng)新，不斷鑄造***服務(wù)體驗(yàn),，為客戶(hù)成功提供堅(jiān)實(shí)有力的支持,。