EVG ® 150光刻膠處理系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù)：

模塊數(shù)：

工藝模塊：6

烘烤/冷卻模塊：**多20個

工業(yè)自動化功能：

Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米

可用模塊：

旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā)

烘烤/冷卻

晶圓處理選項：

單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn)

彎曲/翹曲/薄晶圓處理

IQ Aligner光刻機(jī)支持的晶圓尺寸高達(dá)200 mm / 300 mm。光刻機(jī)一級代理

EVG620 NT或完全容納的EVG620

NT Gen2掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,，可在各種應(yīng)用中實現(xiàn)出色的曝光效果,，例如,，對薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光,，對深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導(dǎo)體）進(jìn)行加工,。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù),。

EVG620 NT特征：

晶圓/基板尺寸從小到150 mm /

6''

系統(tǒng)設(shè)計支持光刻工藝的多功能性

易碎,，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短

帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列 晶片光刻機(jī)用途EVG光刻機(jī)的掩模對準(zhǔn)器和工藝能力經(jīng)過客戶現(xiàn)場驗證,，安裝并集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,。

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)特征：

生產(chǎn)平臺以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢；

多功能平臺支持各種形狀,，尺寸,，高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動處理,；

高達(dá)52,000 cP的涂層可制造高度高達(dá)300微米的超厚光刻膠特征,；

CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性,；

OmniSpray ®涂覆用于高地形表面的優(yōu)化的涂層,；

納流®涂布，并通過結(jié)構(gòu)的保護(hù),；

自動面膜處理和存儲,；

光學(xué)邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒,；

使用橋接工具系統(tǒng)對多種尺寸的晶圓進(jìn)行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理,；

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)；

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）。

IQ Aligner工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)200毫米

對準(zhǔn)方式：

上側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm

底側(cè)對準(zhǔn)：≤±1,0 μm

紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

曝光選項：間隔曝光/洪水曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP,，KR

實時遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除

產(chǎn)能

全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時85片

全自動：吞吐量對準(zhǔn)：每小時80片 HERCULES對準(zhǔn)精度：上側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm；底側(cè)對準(zhǔn)：≤±1,0 μm,；紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基材,。

光刻機(jī)軟件支持

基于Windows的圖形用戶界面的設(shè)計，注重用戶友好性,，并可輕松引導(dǎo)操作員完成每個流程步驟,。多語言支持，單個用戶帳戶設(shè)置和集成錯誤記錄/報告和恢復(fù),，可以簡化用戶的日常操作,。所有EVG系統(tǒng)都可以遠(yuǎn)程通信。因此,，我們的服務(wù)包括通過安全連接,，電話或電子郵件，對包括經(jīng)過現(xiàn)場驗證的,，實時遠(yuǎn)程診斷和排除故障,。EVG經(jīng)驗豐富的工藝工程師隨時準(zhǔn)備為您提供支持,，這得益于我們分散的全球支持機(jī)構(gòu),，包括三大洲的潔凈室空間：歐洲 (HQ), 亞洲 (日本) 和

北美 (美國). EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有：Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口。高校光刻機(jī)實際價格

EVG光刻機(jī)設(shè)備,，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并輔以其用于從上到下側(cè)對準(zhǔn)驗證的計量工具,。光刻機(jī)一級代理

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)

轉(zhuǎn)速：**/高10 k rpm

加速速度：**/高10 k rpm

噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生

超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

開發(fā)模塊-分配選項

水坑顯影/噴霧顯影

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項：

預(yù)對準(zhǔn)：機(jī)械

系統(tǒng)控制參數(shù)：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP，KR

光刻機(jī)一級代理

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，是一家其他型的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶提供良好的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),，一切以用戶需求為中心,，深受廣大客戶的歡迎,。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念,，在儀器儀表深耕多年,，以技術(shù)為先導(dǎo),，以自主產(chǎn)品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢,，打造儀器儀表良好品牌,。在社會各界的鼎力支持下，持續(xù)創(chuàng)新,，不斷鑄造***服務(wù)體驗,，為客戶成功提供堅實有力的支持。