NIL系統(tǒng)肖特增強現(xiàn)實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,，對于實現(xiàn)我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟產(chǎn)量來說至關重要。通過攜手合作,，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性,。”在此之前,，使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板,。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過,，在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的,，需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術得益于多年的研究,、開發(fā)和實驗,，旨在滿足納米圖案成形的需求，經(jīng)過了現(xiàn)場驗證,，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板,。去年六月，EVG推出了HERCULES?NIL300mm,，將SmartNIL引入300-mm制造,，滿足各種設備和應用的生產(chǎn)需求，其中包括AR,、MR和虛擬現(xiàn)實（VR）頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器,、生物醫(yī)療設備、納米光子學和等離子電子學,。集成到SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG?HERCULES?,。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術，擁有多年技術,，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn),。芯片納米壓印應用

納米壓印應用一：鏡片成型

晶圓級光學（WLO）的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持,。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模,，通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,，可以輕松地適應各種材料組合,，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優(yōu)先,。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識,。我們愿意與您共同進步,。

中國澳門納米壓印微流控應用EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。

納米壓印設備哪個好,？預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上,。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。

納米壓印設備可以進行熱壓花,、加壓加熱,、印章、聚合物,、基板,、附加沖壓成型脫模。

將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上,，從而將材料轉變?yōu)檎承誀顟B(tài),。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步,。

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES ® NIL技術數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：≤±3微米

自動分離：支持的

前處理：提供所有預處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統(tǒng),，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng),。

UV納米壓印光刻

EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線，包括不同的***積壓印系統(tǒng),，大面積壓印機,，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術,。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,，高度均勻的圖案層和**少的殘留層,，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產(chǎn)量,。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結構的高性能,，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術,。

EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術,。中國澳門納米壓印國內(nèi)代理

EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,，適用于第3代基材。芯片納米壓印應用

EVG ® 6200 NT是SmartNIL

UV納米壓印光刻系統(tǒng),。

用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術范圍達150m,。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以**小的占地面積提供了**

新的掩模對準技術,。操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,，例如真空,，軟，硬和接近曝光模式,，并且可以選擇背面對準,。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,，包括鍵對準和納米壓印光刻,。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術,。

芯片納米壓印應用

岱美儀器技術服務（上海）有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,，現(xiàn)有一支專業(yè)技術團隊，各種專業(yè)設備齊全,。專業(yè)的團隊大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗,，熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能，致力于發(fā)展岱美儀器技術服務的品牌,。公司以用心服務為重點價值,，希望通過我們的專業(yè)水平和不懈努力，將磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易、轉口貿(mào)易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿(mào)易、轉口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務,。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】等業(yè)務進行到底,。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準則,。公司致力于打造***的磁記錄,，半導體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。